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backstep sequenceの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 1件
The Al taper dry etching method, which is based on resist backstep sequence method for obtaining a small Al taper angle, consists of a step of forming a resist pattern having the small resist taper angle corresponding to a desired small Al taper angle on Al or an Al alloy, and a step of performing anisotropic dry etching on Al or Al alloy having the resist pattern.例文帳に追加
所望の小さいAlテーパ角に対応した小さいレジストテーパ角を有するレジストパターンをAlまたはAl合金膜上に形成する工程および該レジストパターンを有するAlまたはAl合金膜に異方性ドライエッチングを行なう工程からなる、小さいAlテーパ角をうるためのレジスト後退法にもとづくAlテーパドライエッチング方法。 - 特許庁
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