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degeneracy degreeの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 1件
To provide a photomask in which the degree of improvement of the line degeneracy of a pattern for exposure or the amount of the line degeneracy can be graphed for every wafer and to provide a method for evaluating the photomask and a semiconductor wafer.例文帳に追加
ウェハ毎で容易に露光パターンのライン縮退改善の程度、あるいはライン縮退量を定量的に把握することのできるフォトマスク及びその評価方法及び半導体ウェハを提供する。 - 特許庁
| 例文 (1件) |
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