「element isolation」に関連した英語例文の一覧と使い方 - Weblio英語例文検索

METHOD FOR FORMING ELEMENT ISOLATION例文帳に追加

素子分離形成方法 - 特許庁

SEMICONDUCTOR ELEMENT ISOLATION METHOD例文帳に追加

半導体素子分離方法 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING ELEMENT ISOLATION例文帳に追加

素子分離の製造方法 - 特許庁

METAL ELEMENT ISOLATION METHOD例文帳に追加

金属素子アイソレ—ション方法 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING ELEMENT ISOLATION STRUCTURE, AND ELEMENT ISOLATION STRUCTURE例文帳に追加

素子分離構造の製造方法および素子分離構造 - 特許庁

SOI ELEMENT AND ELEMENT ISOLATION METHOD THEREOF例文帳に追加

ＳＯＩ素子及びその素子分離方法 - 特許庁

ELEMENT ISOLATION STRUCTURE AND LIGHT EMITTING ELEMENT ARRAY例文帳に追加

素子分離構造および発光素子アレイ - 特許庁

BASE ISOLATION DEVICE HAVING ROLLING ELEMENT例文帳に追加

転動子を有する免震装置 - 特許庁

METHOD OF FORMING ELEMENT ISOLATION REGION例文帳に追加

素子分離領域形成方法 - 特許庁

EARPHONE AND SOUND ISOLATION ELEMENT FOR EARPHONE例文帳に追加

イヤホンとイヤホン用遮音エレメント - 特許庁

METHOD FOR HEAT TREATING SHALLOW TRENCH ISOLATION TYPE ELEMENT ISOLATION LAYER例文帳に追加

浅溝分離型の素子分離層の熱処理方法 - 特許庁

METHOD OF FORMING ELEMENT ISOLATION FILM OF SEMICONDUCTOR ELEMENT例文帳に追加

半導体素子の素子分離膜形成方法 - 特許庁

FORMATION METHOD FOR ELEMENT ISOLATION REGION例文帳に追加

素子分離領域の形成方法 - 特許庁

FORMING METHOD OF ELEMENT ISOLATION REGION例文帳に追加

素子分離領域の形成方法 - 特許庁

METHOD OF ELEMENT ISOLATION OF SOI DEVICE例文帳に追加

ＳＯＩデバイスの素子分離方法 - 特許庁

ELEMENT ISOLATION STRUCTURE FOR SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

半導体装置の素子分離構造 - 特許庁

METHOD FOR FORMING ELEMENT ISOLATION FILM OF SEMICONDUCTOR ELEMENT例文帳に追加

半導体素子の素子分離膜の形成方法 - 特許庁

METHOD FOR FORMING TRENCH ELEMENT ISOLATION FILM例文帳に追加

トレンチ素子分離膜の形成方法 - 特許庁

METHOD OF MANUFACTURING ELEMENT ISOLATION STRUCTURE SECTION例文帳に追加

素子分離構造部の製造方法 - 特許庁

METHOD OF FORMING ELEMENT ISOLATION LAYER OF SEMICONDUCTOR MEMORY ELEMENT例文帳に追加

半導体メモリ素子の素子分離膜形成方法 - 特許庁

ELEMENT ISOLATION FILM FORMING METHOD OF SEMICONDUCTOR MEMORY ELEMENT例文帳に追加

半導体メモリ素子の素子分離膜形成方法 - 特許庁

ETCHING METHOD AND ELEMENT ISOLATION METHOD例文帳に追加

エッチング方法および素子分離方法 - 特許庁

INSULATING FILM FORMING METHOD FOR ELEMENT ISOLATION例文帳に追加

素子分離用絶縁膜形成方法 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING CIRCULAR POLARIZATION ISOLATION ELEMENT例文帳に追加

円偏光分離素子の製造方法 - 特許庁

ELEMENT ISOLATION AND METHOD OF FORMING WELL例文帳に追加

素子分離およびウェルの形成方法 - 特許庁

MANUFACTURING METHOD FOR TRENCH ELEMENT ISOLATION FILM OF SEMICONDUCTOR ELEMENT例文帳に追加

半導体素子のトレンチ素子分離膜の製造方法 - 特許庁

PLASMA PROCESSING METHOD AND ELEMENT ISOLATION METHOD例文帳に追加

プラズマ処理方法、及び素子分離方法 - 特許庁

TRENCH ELEMENT ISOLATION METHOD FOR SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

半導体装置のトレンチ素子分離方法 - 特許庁

METHOD OF FORMING GROOVED ELEMENT ISOLATION REGION例文帳に追加

溝型素子分離領域の形成方法 - 特許庁

The element isolation insulating film 30 is formed of two of a first element isolation insulating film 31, and a second element isolation insulating film 32.例文帳に追加

素子分離絶縁膜３０が、第１素子分離絶縁膜３１と第２素子分離絶縁膜３２の２つにより形成される。 - 特許庁

An element isolation insulating film 30 is formed by a first element isolation insulating film 31 and a second element isolation insulating film 32.例文帳に追加

素子分離絶縁膜３０が、第１素子分離絶縁膜３１と第２素子分離絶縁膜３２の２つにより形成される。 - 特許庁

ELEMENT ISOLATION FORMATION METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

半導体装置の素子分離形成方法 - 特許庁

Then, the element isolation film 3 enclosing the element formation region 1 is formed in the element isolation region 2.例文帳に追加

その後、素子分離領域２に、前記素子形成領域１を取り囲む素子分離膜３を形成する。 - 特許庁

On the element isolation film 6, a resistance element 7 is formed.例文帳に追加

素子分離膜６の上には、抵抗素子７を形成する。 - 特許庁

The insulating film 2 is an element isolation film.例文帳に追加

絶縁膜２は、例えば素子分離膜である。 - 特許庁

ELEMENT ISOLATION FILM MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

半導体素子の素子分離膜製造方法 - 特許庁

ELEMENT ISOLATION FILM FORMING METHOD FOR SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

半導体素子の素子分離膜形成方法 - 特許庁

The first element isolation region 46 and the second element isolation region 47 are different in impurity concentration.例文帳に追加

第１素子分離領域４６と第２素子分離領域４７との不純物濃度が異なる。 - 特許庁

MANAGEMENT PATTERN OF ELEMENT ISOLATION OF SEMICONDUCTOR DEVICE AND METHOD OF MANAGEMENT OF ELEMENT ISOLATION USING THE SAME例文帳に追加

半導体装置の素子分離の管理パターンおよびそれを用いた素子分離の管理方法 - 特許庁

ELEMENT ISOLATION FILM FORMING METHOD FOR SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

半導体装置の素子分離膜形成方法 - 特許庁

FORMING METHOD FOR ISOLATION REGION OF SEMICONDUCTOR ELEMENT例文帳に追加

半導体素子の隔離領域の形成方法 - 特許庁

METHOD OF FORMING ELEMENT-ISOLATION FILM OF SEMICONDUCTOR DEVICE例文帳に追加

半導体素子の素子分離膜形成方法 - 特許庁

In the element isolation regions, a first element isolation insulation film 8 is applied from the inner surface of the element isolation trench to the side face of the floating gate electrode, and a second element isolation insulation film 9 is so applied as to fill in an upper recess of the first element isolation insulation film 8.例文帳に追加

そして、素子分離領域は、素子分離溝内面から浮遊ゲート電極側面部まで形成された第１の素子分離絶縁膜８と、その上面側凹部を埋め込むように第２の素子分離絶縁膜９が塗布されてなる。 - 特許庁

SEMICONDUCTOR DEVICE ELEMENT ISOLATION REGION FORMING METHOD例文帳に追加

半導体装置の素子分離領域形成方法 - 特許庁

PLATE BOARD TYPE MIMO ARRAY ANTENNA INCLUDING ISOLATION ELEMENT例文帳に追加

隔離素子を含む平板型ＭＩＭＯアレーアンテナ - 特許庁