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nmkrを含む例文一覧と使い方
該当件数 : 1件
An organic dry film used for the photoresist or holography is applied at about 100 to 500 nm on an optical glass master disk and the optical glass master disk is exposed by using CW lasers, such as from 257 nmAr times waves, 266 nmYAG quaternary harmonics, 351 nmAr lasers and 413 nmKr lasers.例文帳に追加
フォトレジストやホログラフィに用いられる有機ドライフィルムを光ディスクガラス原盤に約100nmから500nm塗布し、257nmAr倍波、266nmYAG第四高調波、351nmArレーザ、413nmKrレーザなどからのCWレーザを用いて光ディスク原盤を露光する。 - 特許庁
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