photoresist orとは 意味・読み方・使い方

To prevent shade or scratches on a color photoresist surface in polishing of a color photoresist of a liquid crystal display panel.例文帳に追加

液晶ディスプレイパネルのカラーフォトレジストの研磨において、フォトレジスト面に陰影や擦り傷が生じないようにする。 - 特許庁

METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE INCLUDING STEP OF REMOVING PHOTORESIST FILM OR THE LIKE AND PHOTORESIST FILM REMOVING DEVICE例文帳に追加

フォトレジスト膜等の除去工程を有する半導体装置の製造方法及びフォトレジスト膜除去装置 - 特許庁

To deliver a photoresist solution from a container to a coating unit to apply photoresist on a semiconductor wafer or a glass substrate without clogging.例文帳に追加

半導体ウェーハやガラス基板にホトレジストを塗布する塗装ユニットへ容器からホトレジスト溶液を詰まりなく送液する。 - 特許庁

The method of removing photoresist includes the steps of treating the photoresist using a first reactant so as to swell, crack, or peel the photoresist, processing the photoresist using a second reactant so as to chemically modify the photoresist, and removing the chemically modified photoresist using a third reactant.例文帳に追加

フォトレジストを膨潤させるか、クラックを発生させるか、または剥離させるように第１反応物でフォトレジストを処理する段階、フォトレジストを化学的に変性させるように第２反応物で処理する段階、化学的に変性されたフォトレジストを第３反応物で除去する段階を含むフォトレジスト除去方法である。 - 特許庁

A surfactant or dissolved photoresist contained in a waste developer or a photoresist containing solution such as a photoresist containing a treating liquid derived from a developer can be used as surfactant substance.例文帳に追加

界面活性物質としては、界面活性剤や現像廃液やそれに由来するフォトレジスト含有処理液等のフォトレジスト含有溶液に含まれる溶解フォトレジストを利用することができる。 - 特許庁

A photoresist composition includes a sensitizer which works in combination with a DUV photoresist including a PAC, to sensitize the photoresist to G-line, H-line or I-line imaging.例文帳に追加

フォトレジスト組成物が、フォトレジストをＧ線、Ｈ線、又はＩ線撮像に増感させるようＰＡＣを含むＤＵＶフォトレジストと組み合わせて機能する増感剤を含む。 - 特許庁

To provide a cleaning composition and method for removing residues such as, for example, remaining photoresist and/or residues resulting from etching and/or ashing.例文帳に追加

フォトレジスト等の残渣、および／又はエッチング／アッシング後の残渣等の残渣が除去できる。 - 特許庁

The method for processing a photoresist composition includes steps of: (a) applying a photoresist composition on a substrate; (b) applying a barrier layer composition that comprises one or more components other than resin having fluorinated backbone substitution above the photoresist composition; and (c) immersion exposing the photoresist layer to radiation activating for the photoresist composition.例文帳に追加

（ａ）基体の上にフォトレジスト組成物を適用する工程（ｂ）フォトレジスト組成物の上に、フッ素化主鎖置換を有する樹脂以外の、１種以上の成分を含有するバリアー層組成物を適用する工程（ｃ）フォトレジスト層を、フォトレジスト組成物を活性化する放射線に浸漬露光する工程を含む、フォトレジスト組成物の処理方法。 - 特許庁