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positive patternの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 1213件
POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加
ポジ型フォトレジスト組成物及びレジストパターン形成方法 - 特許庁
POSITIVE TYPE PHOTORESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
ポジ型ホトレジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁
POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
ポジ型ホトレジスト組成物およびレジストパターンの形成方法 - 特許庁
POSITIVE LIFT-OFF RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加
ポジ型リフトオフレジスト組成物及びパターン形成方法 - 特許庁
METHOD OF MANUFACTURING POSITIVE RESIST COMPOSITION, POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMATION METHOD例文帳に追加
ポジ型レジスト組成物の製造方法、ポジ型レジスト組成物、およびパターン形成方法 - 特許庁
POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION例文帳に追加
ポジ型感光性組成物及び該ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁
METHOD FOR PRODUCING POSITIVE RESIST COMPOSITION, POSITIVE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
ポジ型レジスト組成物の製造方法、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁
POSITIVE RESIST COMPOSITION, POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR THERMAL FLOW, AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
ポジ型レジスト組成物、サーマルフロー用ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁
POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING THE POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION例文帳に追加
ポジ型感光性組成物及び該ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁
POSITIVE TYPE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE POSITIVE TYPE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION例文帳に追加
ポジ型感光性組成物及び該ポジ型感光性組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁
CHEMICAL AMPLIFICATION POSITIVE TYPE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
化学増幅ポジ型レジスト組成物及びパタ—ン形成方法 - 特許庁
CHEMICAL AMPLIFICATION POSITIVE TYPE RESIST MATERIAL AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
化学増幅ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁
POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
POSITIVE RESIST COMPOSITION, RESIST PATTERN FORMING METHOD AND COMPOUND例文帳に追加
ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法および化合物 - 特許庁
POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加
ポジ型感光性樹脂組成物およびパターン形成方法 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND FORMING METHOD OF POSITIVE TYPE PATTERN例文帳に追加
感光性樹脂組成物およびポジ型パターン形成方法 - 特許庁
POSITIVE TYPE PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加
ポジ型ホトレジスト組成物およびレジストパターンの形成方法 - 特許庁
CHEMICAL AMPLIFICATION TYPE POSITIVE RESIST MATERIAL AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加
化学増幅ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁
POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING THERMAL FLOW PATTERN例文帳に追加
ポジ型感光性組成物及びサーマルフローパターン形成方法 - 特許庁
The method for resist pattern formation comprises utilization of the positive resist composition.例文帳に追加
該ポジ型レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法。 - 特許庁
POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN MAKING METHOD USING SAME例文帳に追加
ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
POSITIVE RESIST MATERIAL, AND PATTERN FORMATION METHOD UTILIZING THE SAME例文帳に追加
ポジ型レジスト材料及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
PATTERN FORMATION METHOD AND CHEMICAL AMPLIFICATION POSITIVE RESIST MATERIAL例文帳に追加
パターン形成方法及び化学増幅ポジ型レジスト材料 - 特許庁
POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING IT例文帳に追加
ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁
POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME例文帳に追加
ポジ型レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁
POSITIVE RESIST COMPOSITE AND PATTERN FORMING METHOD USING IT例文帳に追加
ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING SAME例文帳に追加
ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN-FORMING METHOD USING SAME例文帳に追加
ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION, LAMINATE, AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
ポジ型ホトレジスト組成物、積層体およびパターン形成方法 - 特許庁
CHEMICALLY AMPLIFIED POSITIVE RESIST MATERIAL AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
化学増幅ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND POSITIVE TYPE PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
感光性樹脂組成物およびポジ型パターン形成方法 - 特許庁
POSITIVE RESIST MATERIAL AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
ポジ型レジスト材料及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
The method for forming resist pattern comprises using the positive type resist composition.例文帳に追加
該ポジ型レジスト組成物を用いたレジストパターン形成方法。 - 特許庁
POSITIVE TYPE RESIST COMPOSITION, METHOD FOR MANUFACTURING POSITIVE TYPE RESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMING PATTERN USING POSITIVE TYPE RESIST COMPOSITION例文帳に追加
ポジ型レジスト組成物、該ポジ型レジスト組成物の製造方法及び該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁
BASE MATERIAL FOR PATTERN FORMING MATERIAL, POSITIVE RESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加
パターン形成材料用基材、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁
To provide a positive resist composition and a method for formation of a resist pattern using the positive resist composition.例文帳に追加
ポジ型レジスト組成物及び該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁
POSITIVE PHOTOSENSITIVE COATING MATERIAL COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
ポジ型感光性塗料組成物、ポジ型感光性樹脂の製造方法及びパターン形成方法 - 特許庁
To provide a positive resist composition; and to provide a resist pattern-forming method using the positive resist composition.例文帳に追加
ポジ型レジスト組成物、及び該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁
To provide a positive resist composition and a method of forming a pattern by using the positive resist composition.例文帳に追加
ポジ型レジスト組成物、及び該ポジ型レジスト組成物を用いるレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁
POSITIVE TYPE PHOTOSENSITIVE COATING MATERIAL COMPOSITION, METHOD FOR PRODUCING POSITIVE TYPE PHOTOSENSITIVE RESIN AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
ポジ型感光性塗料組成物、ポジ型感光性樹脂の製造方法及びパターン形成方法 - 特許庁
POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND METHOD OF FORMING PATTERN THEREWITH例文帳に追加
ポジ型感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
POSITIVE RESIST MATERIAL AND PATTERN FORMING PROCESS USING THE SAME例文帳に追加
ポジ型レジスト材料並びにこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
POSITIVE TYPE PHOTOSENSITIVE POLYAMIC ACID COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
ポジ型感光性ポリアミド酸組成物およびパタ−ン形成方法 - 特許庁
METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN, POSITIVE RESIST COMPOSITION AND LAMINATE例文帳に追加
レジストパターン形成方法、ポジ型レジスト組成物及び積層体 - 特許庁
CHEMICAL COMPOUND, POSITIVE RESIST COMPOSITION, AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加
化合物、ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁
POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
ポジ型レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME例文帳に追加
ポジ型レジスト組成物およびこれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
POLYMER COMPOUND, POSITIVE-TYPE RESIST MATERIAL, AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加
高分子化合物、ポジ型レジスト材料及びパターン形成方法 - 特許庁
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