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positive patternの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 1213件
POSITIVE RESIST COMPOSITION, AND POSITIVE RESIST PATTERN-FORMING METHOD例文帳に追加
ポジ型レジスト組成物、ポジ型レジストパターン形成方法 - 特許庁
POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMATION METHOD例文帳に追加
ポジ型レジスト組成物、パターン形成方法 - 特許庁
POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND POSITIVE PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
ポジ型感光性樹脂組成物およびポジ型パターン形成方法 - 特許庁
POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING POSITIVE RESIST COMPOSITION例文帳に追加
ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁
POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
ポジ型レジスト組成物及びパターン形成方法 - 特許庁
POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
ポジ型レジスト組成物およびパターン形成方法 - 特許庁
POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN-FORMING METHOD例文帳に追加
ポジ型レジスト組成物およびパターン形成方法 - 特許庁
POSITIVE RESIST COMPOSITION, AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加
ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法 - 特許庁
POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMATION METHOD例文帳に追加
ポジ型レジスト組成物及びパターン形成方法 - 特許庁
POSITIVE RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加
ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法 - 特許庁
POSITIVE-TYPE RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING PATTERN例文帳に追加
ポジ型レジスト組成物及びパターン形成方法 - 特許庁
POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE POSITIVE RESIST COMPOSITION例文帳に追加
ポジ型レジスト組成物、及び該レジスト組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁
POSITIVE PHOTOSENSITIVE COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
ポジ型感光性組成物及びパターン形成方法 - 特許庁
POSITIVE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMATION METHOD例文帳に追加
ポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 - 特許庁
POSITIVE TYPE PHOTORESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
ポジ型フォトレジスト組成物およびパターン形成方法 - 特許庁
POSITIVE RESIST COMPOSITION AND PATTERN FORMATION METHOD USING THE POSITIVE RESIST COMPOSITION例文帳に追加
ポジ型レジスト組成物及び該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁
POSITIVE RESIST COMPOSITION, AND PATTERN FORMING METHOD USING THE POSITIVE RESIST COMPOSITION例文帳に追加
ポジ型レジスト組成物及び該ポジ型レジスト組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁
The pattern (positive or negative pattern) takable by the binary string is inevitably determined according to the method.例文帳に追加
当該バイナリ列がとり得るパターン(正負パターン)は必然的に得られる。 - 特許庁
POSITIVE RADIATION-SENSITIVE COMPOSITION, METHOD OF FORMING HARDENING PATTERN, AND HARDENING PATTERN例文帳に追加
ポジ型感放射線性組成物、硬化パターン形成方法及び硬化パターン - 特許庁
POSITIVE-TYPE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁
POSITIVE TYPE RESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
ポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 - 特許庁
POSITIVE RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加
ポジ型レジスト組成物及びレジストパターン形成方法 - 特許庁
POSITIVE RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加
ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING POSITIVE PATTERN例文帳に追加
感光性樹脂組成物及びポジ型パターン形成方法 - 特許庁
POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加
ポジ型ホトレジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁
POSITIVE RESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMATION OF RESIST PATTERN例文帳に追加
ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁
POSITIVE RESIST COMPOSITION, METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN AND COMPOUND例文帳に追加
ポジ型レジスト組成物、レジストパターン形成方法、化合物 - 特許庁
POSITIVE RESIST COMPOSITION, LAYERED PRODUCT, AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
ポジ型レジスト組成物、積層体、レジストパターン形成方法 - 特許庁
POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加
ポジ型ホトレジスト組成物及びレジストパターンの形成方法 - 特許庁
POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加
ポジ型ホトレジスト組成物およびレジストパターンの形成方法 - 特許庁
POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
ポジ型感光性樹脂組成物およびパターン形成方法 - 特許庁
POSITIVE PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
ポジ型感光性樹脂組成物及びパターン形成方法 - 特許庁
PHOTOSENSITIVE RESIN COMPOSITION AND POSITIVE PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
感光性樹脂組成物およびポジ型パターン形成方法 - 特許庁
POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION AND RESIST PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
ポジ型ホトレジスト組成物およびレジストパターン形成方法 - 特許庁
Afterward, the positive photoresis 7 is developed to form a pattern.例文帳に追加
この後、ポジ型フォトレジスト7を現像してパターニングする。 - 特許庁
POSITIVE TYPE CHEMICAL AMPLIFICATION RESIST AND ITS PATTERN FORMING METHOD例文帳に追加
ポジ型化学増幅レジスト及びそのパターン形成方法 - 特許庁
POSITIVE PHOTORESIST COMPOSITION AND METHOD FOR FORMING RESIST PATTERN例文帳に追加
ポジ型フォトレジスト組成物、及びレジストパターン形成方法 - 特許庁
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