| 例文 |
reticulate patternの部分一致の例文一覧と使い方
該当件数 : 2件
Or the pattern 24 is formed by a method, where the film 21 is exposed using a photomask formed with a reticulate pattern having a pattern size smaller than the limit of resolution of an exposure wavelength and thereafter, the film 21 is developed.例文帳に追加
もしくは、露光波長の解像限界以下のパターンサイズを有する網目状パターンを形成したフォトマスクを用いてレジスト膜を露光した後、現像することによって作製する。 - 特許庁
| 例文 |
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