「Films」を含む例文一覧(13275)

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  • A lamination layer film consisting of eight layers of Al films 42 and seven layers of SiO2 films 43 is formed on a Si substrate 41 whose surface is washed (b).
    表面を洗浄したＳｉ基板４１上に、８層のＡｌ膜４２と７層のＳｉＯ_2膜４３から成る積層膜を形成する(b)。 - 特許庁
  • By setting the anti-fuse films to the three-structure, adhesion between electrodes 13 and 17 and anti-fuse films (14, 15, and 16) is improved.
    アンチヒューズ膜をこのような３層構造にすることによって、両電極１３，１７とアンチヒューズ膜（１４，１５，１６）との密着性が高くなる。 - 特許庁
  • A via hole 8 is formed on the insulating films 6, 7 by laser irradiation.
    レーザ照射により絶縁膜６及び７にビアホール８を形成する。 - 特許庁
  • The same molded resin films, for example two polycarbonate films arranged to overlap each other, are wound up into a roll to obtain the film roll.
    フィルムロールは、成形した同一の樹脂フィルム、例えばポリカーボネートフィルムを、二枚重ね合わせた状態で巻き取ってロール状としたものとする。 - 特許庁
  • The conductor films 6 are grounded to the base 2 through bolt holes 22.
    この導体膜６は、ボルト孔２２を通じて基盤２に接地されている。 - 特許庁
  • He gradually won a reputation as a writer of comedies and several of his films were included in Kinema Junpo's top ten, but he remained without any hit films.
    次第に喜劇作家としての評価が高まり、何本かの作品がキネマ旬報ベストテン入りするが、ヒットには恵まれない状態が続いた。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
  • In recent years, he kind of agreed that his films have been influenced by Ozu.
    近年では自作の中に小津の影響を少なからず認めている。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
  • He became interested in advertisement films created by Makino Eiga Seisakujo (film studio) and went touring around the country.
    マキノ映画が作った宣伝映画をもち、全国を巡業する。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
  • He went freelance in 1960 and played an active role in four major Japanese films outside of Shintoho and Nikkatsu.
    1960年フリーになり、新東宝、日活以外の邦画四社で活躍。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
  • Saito subsequently directed 'kayo eiga' (pop song films) such as "Chiisana Sunakku" (We Met at a Snack Bar) for Shochiku Co., Ltd.
    以後、『小さなスナック』など松竹の「歌謡映画」を撮っていた。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
  • He is known for his work as one of the leading men in several of the earliest films of director Shozo MAKINO's career; he started collaborating with Makino right from the beginning when Makino first began making films at the Yokota Shokai film studio.
    横田商会で映画製作を開始して以来の牧野省三を支えた、「マキノ」ブランド初期の主演俳優として知られる。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
  • Afterwards, the silicon oxide films 10, 10a are formed by thermal oxidation method.
    その後、熱酸化法によりシリコン酸化膜１０，１０ａを形成する。 - 特許庁
  • Surface mineralization films 7, 8 are formed onto the upper/lower surfaces of a substrate 2.
    基板２の上下の表面に表面無機化膜７，８を形成する。 - 特許庁
  • The soft DLC thin films and the hard DLC thin films are stuck in order in this way to form a multilayer film with a thickness of about 1 μm.
    このように柔らかいＤＬＣ薄層と硬いＤＬＣ薄層を順番に付着させて行き、厚さ約１μｍの多層膜が作られる。 - 特許庁
  • The heat development type films are thereafter regularly processed in accordance with the decided optimum processing characteristics, by which the images are developed on the films.
    その後、判定した最適処理特性に基づいて感熱現像型フィルムを本格的に処理して当該フィルム上に画像を現像する。 - 特許庁
  • These TFTs are composed of crystallized semiconductor thin films and gate electrodes superposed via gate insulating films on one side thereof.
    この薄膜トランジスタは結晶化された半導体薄膜とその一面側にゲート絶縁膜を介して重ねられたゲート電極とで構成されている。 - 特許庁
  • This magnetic multilayer film 10 has a structure in which thin films 11 made of ferromagnetic material and thin films 12 made of insulating material are alternately layered.
    強磁性材料の薄膜１１と、絶縁材料の薄膜１２とを、交互に積層した構造を有する磁性多層膜１０を構成する。 - 特許庁
  • Interlayer insulating films which insulate polysilicon gates formed in the trenches (groove) of a vertical MOS transistor and metallic films which are caused to deposit as source wiring conductor films from each other are formed in the grooves of the transistor so as to cover the gates.
    縦型ＭＯＳトランジスタのトレンチ（溝）内に形成したポリシリコンのゲートを覆い、ゲートとソース配線導体膜として堆積させる金属膜との間の絶縁を行う層間絶縁膜を溝内に形成する。 - 特許庁
  • The cured resin parts 5 and 15 are masked to form water-repellent films 3 and 13.
    硬化樹脂部５，１５をマスクとして、撥水膜３，１３を形成する。 - 特許庁
  • The sheets 4 are preferably provided respectively between the sealing films 1, and may be provided per a plurality of sealing films.
    このシート材４は各封止膜２同士の間に介在させるのが好ましいが、封止膜の複数枚毎にシート材４を介在させても良い。 - 特許庁
  • The magnetic films 7, 8 are formed, for example, of an Fe-M-O film or an Fe-M-N film, and the insulating films 6a, 6b, 6c are formed, for example, of an SiO_2 film.
    磁性膜７，８は例えば、Ｆｅ−Ｍ−Ｏ膜、Ｆｅ−Ｍ−Ｎ膜、絶縁膜６ａ，６ｂ，６ｃは例えばＳｉＯ_2膜で形成できる。 - 特許庁
  • The films 20 having the same film ID number 22 are grouped.
    同一のフイルムＩＤ番号２２を有するピースフイルム２０をグループ化する。 - 特許庁
  • The mounting part is perfectly arranged in the insides of the pair of films.
    また、取付部分は、一対の膜の内部の中に完全に配置される。 - 特許庁
  • To obtain a stainproof powder coating composition having a good appearance of films and capable of preventing stain by exhibiting hydrophilicity after forming the films.
    塗膜の外観が良好で、塗膜形成後は親水性の発揮により汚染を防止する防汚性粉体塗料組成物を提供する。 - 特許庁
  • MOVING MAGNET-TYPE Z-AXIS LINEAR MOTOR AND MANUFACTURING EQUIPMENT FOR FUNCTIONAL THIN FILMS
    可動磁石型Ｚ軸リニアモータ及び機能性薄膜用製造装置 - 特許庁
  • To provide a semiconductor device and a manufacturing method therefor which prevent the delamination of interlayer insulating films and the diffusion of copper to the surroundings of the inter-layer insulating films while giving the interlayer insulating films a lower dielectric constant.
    層間絶縁膜の膜剥がれ及び周辺への銅の拡散を防止しつつ、層間絶縁膜のより一層の低誘電率化を図ることができる半導体装置及びその製造方法を提供するものである。 - 特許庁
  • To obtain a composition for forming low reflectance coating films, capable of forming multilayered (two-layer) low reflectance coating films by a single operation of both application and curing.
    １回の塗布、硬化操作によって多層（２層）の反射防止被膜を形成し得る反射防止被膜形成組成物を提供する。 - 特許庁
  • Moreover, the films left on the bottoms of the grooves 17 and the intermediate-layer section 2 are removed.
    さらに、溝１７の底の残膜２１と中層部２を除去する。 - 特許庁
  • The heating resistor 3 and the temperature sensing resistors 4 and 14 are coated with protective films 30a, 30b, and 31a and insulating films 31b and 30c, and the protective films 31a and 31b are made of a dense film of nitride.
    発熱抵抗体３および温度検出抵抗体４、１４は、保護膜３０ａ、３０ｂ、３１ａ、絶縁膜３１ｂ、３０ｃで被覆され、保護膜３１ａ、３１ｂはナイトライドなどの緻密な膜で形成されている。 - 特許庁
  • The method has a step of defining the target number Np of films between dummies for bring the target surface into an initial state, and a step of continuing film deposition processing of the dielectric thin film, until the number Na of films between dummies reaches the target number Np of films between targets.
    ターゲット表面を初期状態にするための目標ダミー間枚数Ｎｐを規定し、ダミー間枚数Ｎａが目標ダミー間枚数Ｎｐに到達するまで、誘電体薄膜の成膜処理を継続させた。 - 特許庁
  • The film holders 16A to 16E are respectively provided with detecting sensors 17A to 17E for detecting that the films are set, and lamps 18A to 18E which are lighted when the films are set, and which are not lighted when the films are not set.
    フィルムホルダ１６Ａ〜Ｅは、それぞれ、フィルムがセットされていることを検出する検出センサ１７Ａ〜Ｅと、フィルムがセットされていると点灯し、セットされていないと非点灯となるランプ１８Ａ〜Ｅと、を有する。 - 特許庁
  • The arrangement condition of films is adjusted in this manner to obtain the lens 1.
    また、そのように膜の配置条件を調整してレンズ１を得る。 - 特許庁
  • METHOD OF FORMING MESOPOROUS OXIDE FILMS AND DUAL DAMASCENE STRUCTURE
    メゾポーラス酸化膜の形成方法及びデュアルダマシン構造の形成方法 - 特許庁
  • To obtain a dry metallized film capacitor, the capacitance of which does not decrease much, even when the capacitor is used for a long time due to metallized films in which protective films are respectively formed on thin metallic films composed of aluminum or an aluminum alloy.
    アルミニウムまたはアルミニウム合金からなる金属薄膜上に、保護膜を形成した金属化フィルムにより、長時間使用しても静電容量の減少の少ない乾式金属化フィルムコンデンサを提供する。 - 特許庁
  • The two partial films 15 and 16 are continuously formed on the glass 13, and the surfaces of the respective partial films 15 and 16 are flush with each other.
    ２つの部分の膜１５，１６は、ガラス１３上に連続的に形成され、各部分の膜１５，１６の表面は同一面上にある。 - 特許庁
  • The heaters are constituted by including active films made of a conductive material of thin films sandwiched between combined passive thin film materials.
    各薄膜ヒータは、組み合わされた受動薄膜材料の間に挟まれた薄膜の導電性材料から成る能動膜を含んで構成される。 - 特許庁
  • Even though the joint mortar enters between thin films, it does not leak into the sheath.
    目地モルタルは薄膜の間に入っても、シース内に漏入はしない。 - 特許庁
  • The dry films of the treating agent described above are formed on the surfaces of the steel products.
    前記の処理剤の乾燥皮膜を鋼材表面に形成する。 - 特許庁
  • To unify the thickness of gate oxide films formed in a trench.
    トレンチ内部に形成されるゲート酸化膜の厚みを均一にすること。 - 特許庁
  • Further, the end of the gate electrode 8 overlaps with the first diffusion layer 2 or the second diffusion layer 3, which pinching the laminated first insulation films 4, 4a, the second insulation films 5, 5a and the third insulation films 6, 6a.
    また、ゲート電極８の端部は、上記積層する第１絶縁膜４，４ａ、第２絶縁膜５，５ａ、第３絶縁膜６，６ａを挟んで第１拡散層２あるいは第３拡散層３とオーバラップしている。 - 特許庁
  • The metal films 11 are formed on the first principal surface 10a.
    金属膜１１は、第１の主面１０ａの上に形成されている。 - 特許庁
  • The protective films are maintained at a second temperature (a target temperature) that is higher than the first temperature, while keeping the protective films and the member to be protected in a pressed state.
    そして保護フィルム及び被保護部材をプレスしたまま、保護フィルムを、第１の温度よりも高い第２の温度（目標温度）に保持する。 - 特許庁
  • By observing a plurality of the films in piles on the prescribed position F10, even when the films of other patients are incorporated, the incorporation can be easily found and, therefore, a plurality of the films of the same patient can be simply sorted.
    複数枚のフィルムを重ねて所定位置Ｆ１０で観察することで、他の患者のフィルムが混入していても、その混入が容易に分かるので、同一患者の複数枚のフィルムを簡単に仕分けることができる。 - 特許庁
  • The articles (a planar body P, a sliding component SL) are coated with the carbon films.
    該炭素膜で被覆された物品（板状体Ｐ、摺動部品ＳＬ）。 - 特許庁
  • Out of these laminate films, the laminate film 20 has a structure in which a plurality kinds of element laminate films 25, each of which occupies a different region, are contiguous to each other.
    このうち、ラミネートフィルム２０はそれぞれ異なる領域を占める複数種類の要素ラミネートフィルム２５が連なった構造を有している。 - 特許庁
  • The first and second wiring layer insulating films include first and second low dielectric constant films (first low dielectric constant film 4 and third low dielectric constant film 11).
    第１、第２の配線層絶縁膜は、第１、第２の低誘電率膜（第１の低誘電率膜４、第３の低誘電率膜１１）を含む。 - 特許庁
  • A through hole 36 penetrating the fluorinated arylene films 6, 16, and 26 and the SiC films 8, 14, 18, 24, and 28 is formed around the wirings 12 and 32.
    配線１２，３２の周辺に、フッ素化アリレン膜６，１６，２６とＳｉＣ膜８，１４，１８，２４，２８とを貫通する貫通孔３６を形成する。 - 特許庁
  • A reflection films 26 are formed at a peripheral part of the pixel electrode 14.
    画素電極１４の周辺部には反射膜２６が形成される。 - 特許庁
  • A controlled tensile force is not applied to at least one inner film but is applied to the two outer transparent films in at least one direction of the films.
    制御された張力は、少なくとも１つのインナーフィルムではなく、２つのアウター透明フィルムに少なくとも一方向に加えられる。 - 特許庁
  • To provide a light shielding sheath which allows to succeedingly take out photographed sheet films and to develope these films, and a holder which allows to perform continuous photographing by using the same.
    撮影済みのシートフイルムを逐次取り出して現像できる遮光性シース及びこれを用いて連続撮影が可能なホルダを提供する。 - 特許庁
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