「Films」を含む例文一覧(13252)

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  • To provide a droplet ejection head which exhibits a high-accuracy and stable ejection characteristic by laminating three layers or more of compressive stress films and tensile stress films being constitutional films of a vibration plate.
    振動板の構成膜である圧縮応力膜と引張応力膜を３層以上積層し、高精度で安定した吐出特性を有する。 - 特許庁
  • Titanium oxide thin films 31 are made to exist at intervals on the surface of a barrier thin film 12, hydrophilic thin films 41 are formed between the titanium thin films to constitute a functional thin film 3.
    バリア薄膜１２表面に酸化チタン薄膜３１を点在させ、その間に親水性薄膜４１を形成し、機能性薄膜３を構成させる。 - 特許庁
  • At this time, composition and structural changes occur in the films to be treated and the refractive indices and exhaustion coefficients of the antireflection films exhibit the values different from those of the films to be treated.
    このとき、被処理膜に組成や構造変化が生じ、反射防止膜の屈折率及び消衰係数は被処理膜のそれらと異なる値を示す。 - 特許庁
  • Metal films are laminated by using heat-resistant metal wires, the metal films are embossed to suppress contact of the films with each other to a minimum, and the heat insulation is enhanced.
    耐熱金属（例としてチタン）を薄くフィルム状に加工して積層した多層断熱材を用いる事で、質量、コスト、加工性の問題を改善できる。 - 特許庁
  • Tunnel oxide films and storage nitride films are alternately deposited for the formation of a laminated gate structure, and multi-valued data are stored by the use of storage nitride films.
    積層ゲート構造中において、トンネル酸化膜と蓄積窒化膜とを繰り返し堆積し、複数の蓄積窒化膜を使って多値情報を記憶する。 - 特許庁
  • The resist 5 is removed, and inactive metallic films 8 not electrically conducted with the inactive metallic films 6 are formed on the base of the trenches 7 as protective films.
    次に、レジスト５を除去し、トレンチ溝７の底面に保護膜として不活性金属膜６と電気的に導通しない不活性金属膜８を形成する。 - 特許庁
  • Gate insulating films 15 and 75 of transistors 10 and 70 are the thinnest gate insulating films among gate insulating films of transistors formed in the semiconductor substrate 30.
    トランジスタ１０，７０のゲート絶縁膜１５，７５は、半導体基板３０に形成されたトランジスタのゲート絶縁膜の中で最も薄いゲート絶縁膜である。 - 特許庁
  • The layered film 13 comprises alternately stacked films of low refractive index films 15 and high refractive index films 16 having the refractive index higher than that of the low refractive index layer.
    積層膜１３は、低屈折率膜１５と、低屈折率膜１５よりも高い屈折率を有する高屈折率膜１６とが交互に積層されてなる。 - 特許庁
  • The silicon oxide films 9 do not have shapes where the surfaces of the films 9 become smaller in height from the main surface 1S of the substrate 1.
    シリコン酸化膜９は基板１の主面１Ｓよりも落ち込んだ形状を有さない。 - 特許庁
  • DOPED NITRIDE FILM, DOPED OXIDE FILM, AND OTHER DOPED FILMS
    ドープ窒化膜、ドープ酸化膜、およびその他のドープ膜 - 特許庁
  • Second plating films 24a, 24b are respectively formed on surfaces of the first plating films 22a, 22b.
    第１のめっき皮膜２２ａ、２２ｂの表面には、第２のめっき皮膜２４ａ、２４ｂが形成される。 - 特許庁
  • Thereafter, oxide films 11 containing aluminum are removed.
    その後、アルミニウムを含む酸化膜１１を除去する。 - 特許庁
  • To compactly store protective films after being peeled from optical films, and to suppress the occurrence of foreign substances.
    光学フィルムから剥離後の保護フィルムをコンパクトに収納し、異物の発生を大幅に低減する。 - 特許庁
  • The capacitor elements 11, 21, 31 have non-metallized films 17, 22, 32 each superposed between two metallized films 12, 12.
    コンデンサ素子（11,21,31）は、２つの金属化フィルム（12,12）の間に重ね合わされる非金属化フィルム（17,22,32）を備えている。 - 特許庁
  • The laminate films 4a, 4a have a seal part 40.
    ラミネートフィルム４ａ，４ｂは、シール部４０を有する。 - 特許庁
  • Thus, the gate insulation films 13 and the interlayer insulation films 15 break where the breakdown voltages are low.
    これにより、絶縁耐圧の低い箇所のゲート絶縁膜１３や層間絶縁膜１５はブレークダウンする。 - 特許庁
  • He also directed many Hibari films (films acted by actress Hibari MISORA) after 'Nodojimankyo jidai' (Mad Period of Being Proud of Throat) in 1949.
    また、美空ひばりの映画初登場作品「のど自慢狂時代」（1949）以来、ひばり映画も多数監督。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
  • The insulating films (20a and 20b) are formed on the substrate 10, and then the recess 20c is bored in the insulating films (20a and 20b).
    基板１０に絶縁膜（２０ａ，２０ｂ）を形成し、次に絶縁膜に２０ｃ凹部を形成する。 - 特許庁
  • To provide a method of forming thin films whereby plasma damage is reduced and adhesion is improved between the thin films.
    プラズマダメージを低減しかつ薄膜間の密着性を改善する薄膜形成方法を与える。 - 特許庁
  • Protective films 2 and 6 and phosphor films 3 and 7 are applied to the inside surfaces of the bulb 1 and the recessed part 5.
    バルブ１及び凹部５の内面には保護膜２，６及び蛍光体膜３，７が塗布されている。 - 特許庁
  • Generally, the dummy patterns 31, 32 are conductor films.
    ダミーパターン３１、３２は一般には導体膜である。 - 特許庁
  • The synthetic resin films can prevent the hammering.
    合成樹脂の被膜が打音の発生を防止する。 - 特許庁
  • After patterning is carried out the patterned amorphous silicon films are irradiated with a laser beam in a certain direction so as to turn to poly-crystal silicon films.
    パターニング後に、一方向にレーザ光を照射して結晶化し、多結晶シリコン膜を得る。 - 特許庁
  • The multilayer board 1 is formed by alternately laminating polyimide films 11-16 and copper films 21-26.
    本発明の多層基板１は、ポリイミド膜１１〜１６と、銅膜２１〜２６が交互に積層されている。 - 特許庁
  • Always screened foreign monumental films distributed by Toho chain cinemas.
    常に、大作の東宝洋画系作品を上映。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
  • On the surfaces of the electrodes 5, plated surface films composed of plated nickel films having thicknesses of ≥0.5 μm are formed.
    電極にはニッケルメッキ膜からなる表面メッキ膜が０．５μｍ以上の厚さに形成されている。 - 特許庁
  • Second gate insulating films constituting the second TRs are formed of oxynitride films into which the nitrogen is introduced.
    第２トランジスタを構成する第２ゲート絶縁膜を、窒素が導入された酸窒化膜から形成する。 - 特許庁
  • The electroconductive laminated film is made of layered metallic aluminum films and ruthenium-containing electroconductive films.
    金属アルミニウム膜ならびにルテニウムを含有する導電性膜が積層されてなる導電性積層膜。 - 特許庁
  • Moreover, the copper diffusion preventing films 6, 9 are formed on the insulating films between low dielectric constant layers 4, 7, 22, 33.
    また、銅拡散防止膜６，９は、低誘電率層間絶縁膜４，７，２２，３３上に形成される。 - 特許庁
  • Insulation films and dielectric films used in a semiconductor device are exposed to carbon dioxide in a supercritical state.
    半導体装置に用いられる絶縁膜や誘電体膜を超臨界状態の二酸化炭素に曝す。 - 特許庁
  • The reflection films 22A, 22B also serve as wiring electrodes.
    反射膜２２Ａ、２２Ｂは配線電極も兼ねる。 - 特許庁
  • What does that translate to in terms of numbers of films, really?
    映画の本数にすると どれくらいでしょうか? - 映画・海外ドラマ英語字幕翻訳辞書
  • One has only to glance at its press films, fashion shows, beauty contests
    「人は 報道映像や ファッションショー 美人コンテスト - 映画・海外ドラマ英語字幕翻訳辞書
  • Oh, I am so pleased you remember my husband's films with such fondness.
    夫の映画を覚えていてくれて 嬉しいわ - 映画・海外ドラマ英語字幕翻訳辞書
  • Last year I saw not less than fifty films.
    昨年私は少なくとも５０本は映画を見た。 - Tanaka Corpus
  • In 1929, since Shochiku squeezed its budget for Bando's films, the number of films to be produced in the year was reduced to nine.
    1929年（昭和4年）、松竹は阪東作品の予算を押さえ込み、製作本数を9本に絞った。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
  • There is no detailed record of these films.
    作品の詳細についての記録も残っていない。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
  • His films took on an increasing visual lushness.
    彼の映画はますます視覚的な豪華さを帯びた。 - Weblio英語基本例文集
  • a special effect in films created by the technique of slow motion
    スローモーションという撮影法による映写効果 - EDR日英対訳辞書
  • Thereafter, required films are deposited in the similar process.
    以後、同様の工程で、必要な膜を形成する。 - 特許庁
  • To provide scintillator panel that is more enhanced in the 3stability of metal thin films as reflecting films.
    反射膜としての金属薄膜の安定性をより向上させたシンチレータパネルを提供すること。 - 特許庁
  • A thin etching stopper film 18 (silicon nitride film) and an inter-layer insulating film 19 (silicon oxide film) are formed on oxide barrier films 16 and inter-layer insulating films 17 (silicon oxide films), and then, openings larger than the oxide barrier films are formed by dry etching immediately above the oxide barrier films 16.
    酸素バリア膜１６、層間絶縁膜１７（酸化シリコン膜）上に、薄いエッチングストッパー膜１８（窒化シリコン膜）、層間絶縁膜１９（酸化シリコン膜）を形成し、酸素バリア膜１６の直上にそれより大きい開口部をドライエッチングにより形成する。 - 特許庁
  • The STI insulating layers I-2 comprise first oxide films 102 and nitride films 103 on the inner surfaces of a first and second trenches, and second oxide films 104 on the nitride films 103 which fill the first and second trenches.
    ＳＴＩ絶縁層Ｉ−２は、第１及び第２のトレンチの内面上の第１の酸化膜１０２及び窒化膜１０３と、第１及び第２のトレンチを満たす窒化膜１０３上の第２の酸化膜１０４とを備える。 - 特許庁
  • The semiconductor device 1 includes a semiconductor substrate 10, a group of interlayer insulating films 20 (a first group of interlayer insulating films), a group of interlayer insulating films 30 (a second group of interlayer insulating films), and a seal ring 40 (guard ring).
    半導体装置１は、半導体基板１０、層間絶縁膜群２０（第１の層間絶縁膜群）、層間絶縁膜群３０（第２の層間絶縁膜群）、およびシールリング４０（ガードリング）を備えている。 - 特許庁
  • To provide a touch panel in which films are adhered to each other while the air is exhausted from between the films by easily and surely positioning the films based on a mechanical operation and to provide an apparatus and a method for adhering the films.
    機械的操作に基づきフィルム同士を容易且つ確実に位置決めした上で、フィルム同士をその間から空気を排除しつつ貼り付けられる、タッチパネル、フィルム貼付け装置及びその方法を提供する。 - 特許庁
  • The bit line 3 is covered with etching stopper films 4 and 5.
    ビット線３はエッチングストッパ膜４，５によって覆う。 - 特許庁
  • The translucent reflection mirror is formed by alternately laminating dielectric films (SiO2 films) with a low refractive index and dielectric films (TiO2 films) with a high refractive index to 12, 14 or 16 layers on a glass substrate.
    ガラス基板上に、低屈折率の誘電体膜（ＳｉＯ_２膜）と高屈折率誘電体膜（ＴｉＯ_２膜）が交互に１２、１４又は１６層積層されることにより、半透過型反射鏡が構成される。 - 特許庁
  • Outer peripheries of the pair of films are collectively formed.
    一対の膜は、外周を集合的に形成する。 - 特許庁
  • Then, each thickness of thin films E1, E2 is measured respectively.
    そして、各薄膜Ｅ１，Ｅ２の膜厚を測定する。 - 特許庁
  • The optical films are arranged on the 1st electrodes.
    光学的フィルムは、第一電極上に配置される。 - 特許庁
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