「First layer」を含む例文一覧(24472)
＜前へ 1 2 .... 387 388 389 390 391 392 393 394 395 .... 489 490 次へ＞- One end side of the layer unit 21 is supported rotatably by the first support structure 22, and the other end side is rotatably supported slidably by the second support structure 23.
レイヤーユニット２１の一端側を第１の支承構造２２によって回動自在に支承し、他端側を第２の支承構造２３によって回動自在にかつスライド自在に支承する。 - 特許庁 - In order to flat the rugged pattern forming the recording layer 32-1, polishing is conducted by disposing a second filler 38 with a low polishing rate on a first filler 36 with a high polishing rate.
記録層３２−１を形成する凸凹パターンを平坦化するため、高研磨レートの第１の充填材３６の上に、低研磨レートの第２の充填材３８を設け、研磨する。 - 特許庁 - A plurality of signal lines for electrically coupling outer input terminals to terminals of the driver IC 80 are formed on the substrate 50 at the mounting face (a first layer 50a) of the driver IC 80.
外部入力端子とドライバＩＣ８０の端子とを導通する複数の信号線が基板５０におけるドライバＩＣ８０の実装面（第１層５０ａ）に形成されている。 - 特許庁 - A refractive index waveguide mechanism consisting of a ridge shaped stripe 24 which confines light in the lateral direction is formed in the first upper clad layer 23 to interrupt modes other than a basic lateral mode.
そして上部第一クラッド層23に、横方向に光を閉じ込めるリッジ状ストライプ24からなる屈折率導波機構を形成して、基本横モード以外のモードを遮断する。 - 特許庁 - As a result, all solder balls of the BGA 60 is electrically connected to the second exposed part 30 from the intermediate part 40 through a gold plated layer 20b of the first exposed part 20.
この結果、ＢＧＡ６０のすべてのハンダボール６４は、第１露出部２０の金メッキ層２０ｂを介して中間部４０から第２露出部３０へと電気的に導通される。 - 特許庁 - The first elastic units (3 and 4) have a hardness difference between one side and the other side along a thickness direction and hardness of one side and the other side, different from that of the second elastic unit (elastic layer) 5.
第１の弾性ユニット（３，４）は、厚さ方向に沿って一側と他側で硬さが異なるとともに、一側および他側の硬さが第２の弾性ユニット（弾性層）５と異なっている。 - 特許庁 - And in particular, the liquid crystal display is characterized by arranging moisture absorption layers 6 between the pixel regions 1a, 2a and the seal layer 4 of at least one out of first and second substrates 1, 2.
そして特に、第１基板１および第２基板２の少なくとも一方における画素領域１ａ，２ａとシール層４との間に、吸湿層６を設けたことを特徴としている。 - 特許庁 - The resin application device 4 of the first layer divides eight coated optical fibers 2 into every four ones, applies ultraviolet curable resin and produces two optical fiber ribbon parts 5 covered with a tape cover part.
１層目樹脂塗布装置４は、８本の光ファイバ心線２を４本ずつに分けて紫外線硬化樹脂を塗布し、テープ被覆部で覆われた２枚のテープ心線部５を生成する。 - 特許庁 - A first protective film 6 made of Sr-SION is formed on the upper side of a heating element 3 and an electrode layer 4, and then, the heat treatment is carried out under a state of a vacuum degree of 2 to 30 Pa (Figure (e)).
発熱体３および電極層４の上側に、Ｓｒ−ＳＩＯＮからなる第１保護膜６を形成してから、真空度２〜３０Ｐａの真空中で熱処理を施す（図（ｅ））。 - 特許庁 - To provide a heat exchanger capable of restraining sensible heat exchanging quantities of the first and second heat exchangers from getting low, even when a support layer for carrying an adsorbent is formed on a surface of a fin.
フィンの表面に吸着剤を担持する担持層が形成されても、第１、２の熱交換器の顕熱交換量の低下を抑制することができる熱交換器を提供する。 - 特許庁 - A roof material 10 comprises a laminate 14 including a first sheet 18, a solar battery cell 16, a second sheet 20, and a moisture-proof layer 22 which are arranged on the top surface of a metal substrate 12.
屋根材１０は、金属製の基材１２の上面に、第１シート１８、太陽電池セル１６、第２シート２０及び防湿層２２を含む積層体１４を配置して形成されている。 - 特許庁 - A second electronic component 8 having an adhesive layer 9 formed on its rear surface is held with a normal temperature suction tool 22, and gradually moved down from the upper part of the first electronic component 5.
裏面側に接着剤層９が形成された第２の電子部品８を、常温の吸着ツール２２で保持して第１の電子部品５の上方から徐々に下降させる。 - 特許庁 - A bath tub 10 consists of first and second reinforcement layers 13, 14 arranged in the rear surface side of a bottom face part 11 and a forming layer 15 forming a part excepting it.
底面部１１の裏面側に設けられた第１及び第２の補強層１３，１４と、それ以外の部分を形成する形成層１５とを備えて浴槽１０が構成される。 - 特許庁 - A first substrate 10 on which a phosphor and a metal-back layer 17 are formed, and a second substrate 12 on which a plurality of electron-emitting sources 18 are provided, are arranged in an opposed relationship to each other.
蛍光面およびメタルバック層１７が形成された第１基板１０と、複数の電子放出源１８が設けられた第２基板１２とが対向して配置されている。 - 特許庁 - Coating liquid for performing UV hardening is applied on a support medium, this coated layer is half-hardened with a first UV irradiation machine, embossing is performed to it and after that, all-hardened with a second UV irradiation machine.
支持体にＵＶ硬化する塗布液を塗布し、この塗布層を第１ＵＶ照射機により半硬化させエンボス加工してから第２ＵＶ照射機により全硬化させる。 - 特許庁 - To provide a multi layer detached concrete house capable of using a space from the first floor to the top floor as a detached dwelling space, freely forming the dwelling space and being freely carried out renovation.
１階から最上階に至る空間を戸建て居住空間とし、該居住空間を自在に形成でき、内部の改装が自由に行える複層戸建てコンクリート住宅を提供する。 - 特許庁 - Further, a transparent adhesive layer 50 is provided at the whole first region 43 and a region including at least a part of the second region 44 in the back of the cover member 40.
さらに、透明接着層５０は、カバー部材４０の裏面において、第一の領域４３の全体と第二の領域４４の少なくとも一部とを含む領域に設けられている。 - 特許庁 - The semiconductor light-emitting device comprises a light-emitting part 10d, a first conductive part 30a, a second conductive part 30b, an encapsulation part 50, and an optical layer 60.
実施形態によれば、発光部１０ｄと第１導電部３０ａと第２導電部３０ｂと封止部５０と光学層６０とを備えた半導体発光装置が提供される。 - 特許庁 - An IC chip 30 is adhered and fixed by a brazing filler material 29 onto a die pad 15, provided over a first layer substrate 11 serving as the bottom section of the recession of a recession section of a package 10.
ＩＣチップ３０は、パッケージ１０の凹部の凹底部分となる第１層基板１１上に設けられたダイパッド１５上に、ろう材２９によって接着・固定されている。 - 特許庁 - The mask layer is removed from the substrate, a ratio of the flow of CO to the flow CO_2 is selected, thereby, a second roughness smaller than a first roughness is produced.
基板からマスク層が除去され、二酸化炭素の流量に対する一酸化炭素の流量の比を選択することにより、第１の粗さよりも小さい第２の粗さが生成される。 - 特許庁 - The light scattering layer 7 has a light-transmissive base material 8, and many first columnar areas 9 transmissive to light and different in refractive index from the base material 8.
光散乱層７は、光透過性を有するベース基材８と、光透過性を有しベース基材８と屈折率の異なる多数の第１の柱状領域９を有している。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing an image recording body wherein a first curable solution layer to be cured is used as a base material, and an image recording body having an ink image integrated with the base material is obtained.
硬化させる第１硬化性溶液層を基材とし、これにインクによる画像が一体的に形成された画像記録体が得られる画像記録体の製造装置を提供すること。 - 特許庁 - At least one of the first and second conductivity-type clad layers is an In_xAl_yGa_(1-x-y)N layer (0<x<1, 0<y<1, 0<x+y<1), and the dispersion in the thickness lies within 6%.
第１および第２導電型クラッド層の少なくとも一方がＩｎ_xＡｌ_yＧａ_(1-x-y)Ｎ層（０＜ｘ＜１、０＜ｙ＜１、０＜ｘ＋ｙ＜１）であり、厚みのばらつきが６％以内である。 - 特許庁 - The plated layer cutting/peeling-off machine for a plated metal plate comprises a transfer table device 10 having a clamping mechanism 15 for fixing by projecting an end 1a of the plated metal plate 1, and first and second cutting tool drive devices 20, 40.
メッキ金属板１の端部１ａを突出させて固定するクランプ機構１５を有する移送テーブル装置１０と、第１、第２の切削工具駆動装置２０、４０とを備える。 - 特許庁 - The hole selectively passing film 43 has: a first partial region 42 which comes into contact with the heterojunction layer 27; and a second partial region 44 which comes into contact with the electrode for hole discharge 46.
正孔選択通過膜４３は、へテロ接合層２７に接触する第１部分領域４２と正孔排出用電極４６に接触する第２部分領域４４を有している。 - 特許庁 - The main pipes 1, 3 are constituted by the pipe bodies each having a metallic reinforcing layer 20, and the first branched pipes 2, 4 are constituted by the pipe bodies being more flexible than the main pipes 1, 3.
前記メイン配管１、３は金属補強層２０を有する管体からなり、前記第１分岐配管２、４は前記メイン配管１、３よりも可撓性が大きい管体からなる。 - 特許庁 - The light-shielding layer has a thickness of 20 nm or more and 95.2 nm or less and has a third optical density that gives a sum of the first optical density and the second optical density of 3.0 or more.
遮光層は２０ｎｍ以上９５．２ｎｍ以下の厚さを有し、第１の光学濃度及び第２の光学濃度との和が３．０以上である第３の光学濃度を有する。 - 特許庁 - In the manufacturing method of a semiconductor device, an adhesive layer 10 is formed on a first surface 1b in the chip region of a semiconductor wafer having a plurality of chip regions formed while being separated by dicing regions.
半導体装置の製造方法は、複数のチップ領域がダイシング領域を介して形成された半導体ウェーハのチップ領域の第１の面１ｂに接着層１０を形成する。 - 特許庁 - (1) The heat-insulating dummy cell 40 arranged at an end of a cell layered product of a fuel cell stack and having a conductive first layer 42 arranged between separators 41 and having a heat insulating property is composed.
（１）燃料電池スタックのセル積層体の端部に配置され、セパレータ４１間に配置された断熱性を有する導電性の第１の層４２を有する断熱性ダミーセル４０。 - 特許庁 - The heat insulator includes ridges 2 of a resin foam provided on one surface of a resin foam sheet 1 and a first metal foil layer 3 provided on at least the other surface.
樹脂発泡体シート1の一面に、樹脂発泡体からなる突条2が設けられ、少なくとも他の面に第1の金属箔層3が設けられていることを特徴とする断熱材。 - 特許庁 - The second plate coil member 6 displaying the frame shape surrounding the outsides of the side core sections 14-17 and being combined with the first plate coil member under a laminated state through an insulating layer 7 is fitted.
サイドコア部１４〜１７の外方を囲む枠状を呈し、第１のプレートコイル部材と絶縁層７を介して積層状態に組み合わされる第２のプレートコイル部材６を備える。 - 特許庁 - A part 8b on the winding start side in a first-reel conductor 8 forming the coil 8 is positioned outside the coil 8 so as to be replaced with the second-layer conductor 8.
コイル８を形成している１巻目の導電線８のうち、巻き始め側の一部分８ｂが２層目の導電線８と入れ替わるようにコイル８の外側に位置している。 - 特許庁 - When an upper wiring layer (not illustrated) is connected to the Cu wiring member 12 via a via hole VH by etching the first insulation film 101, a considerable alignment allowance can be expected.
上層の配線層（図示せず）が第１絶縁膜１０１のエッチングによりビアホールＶＨを介してＣｕ配線部材１２と接続される場合、相当の合わせ余裕が見込める。 - 特許庁 - This organic EL element 10 is constituted by laminating an anode 2, a first light emitting unit 3, an electric charge generating layer 4, a second light emitting unit 5 and a cathode 6 in this order on a substrate 1.
有機ＥＬ素子１０は、基板１に、陽極２、第１の発光ユニット３、電荷発生層４、第２の発光ユニット５、陰極６がこの順に積層されて構成される。 - 特許庁 - A magnetization direction Y_1 in the first ferromagnetic layers 5X (5x) in non-energization (see Fig. A) is opposite to a magnetization direction Y_2 in the second ferromagnetic layer 5Z (5z).
非通電時（図３（Ａ）参照）における第１の強磁性層５Ｘ（５ｘ）の磁化の向きＹ_１と、第２の強磁性層５Ｚ（５ｚ）の磁化の向きＹ_２とは、互いに逆向きである。 - 特許庁 - The light emitting module 21 comprises a module substrate 22, a first wiring pattern 25, a hemimorphic second wiring pattern 26, a plurality of semiconductor light emitting elements 45, a transparent sealing resin 57 and a protective layer 37.
発光モジュール21は、モジュール基板22、第１配線パターン25と、異極の第２配線パターン26、複数の半導体発光素子45、透光性の封止樹脂57、及び保護層37を具備する。 - 特許庁 - Then, a shielding film S made of a stripe shape Al_2O_3 extended in the resonance direction in the flat top surface of the first metal layer 106a is formed by about 180 nm of thickness by a lift-off method.
その後、リフトオフ法によって、第１金属層１０６ａの平頂部に共振方向に伸びるストライプ状のＡｌ_2 Ｏ_3 から成る遮蔽膜Ｓを膜厚約１８０ｎｍで形成した。 - 特許庁 - The gradient coil 300 and other elements of a magnetic resonance imaging system include at least one layer 302 made of copper and having a first surface 31 and a second surface 318.
磁気共鳴撮像システムの傾斜コイル（３００）やその他の素子は、第１の表面（３１６）及び第２の表面（３１８）を有する銅からなる少なくとも１つの層（３０２）を備える。 - 特許庁 - A first impurity region 5, a second impurity region 6, a third impurity region 7, a fourth impurity region 8 and a fifth impurity region 9 are formed in a semiconductor layer.
半導体層には、第１不純物領域５、第２不純物領域６、第３不純物領域７、第４不純物領域８および第５不純物領域９が形成されている。 - 特許庁 - In this light emitting device 11, an EL element body 13 equipped with a first electrode 15 and a second electrode 16 disposed laminated so as to sandwich an EL layer 14 is formed on a substrate 12.
発光装置１１は基板１２上に、ＥＬ層１４を挟んで積層配置される第１電極１５及び第２電極１６を備えたＥＬ素子本体１３が形成されている。 - 特許庁 - Further, in a ridge forming process, the second p-type clad layer 6 is removed partially by a first etching process through dry etching and a second etching process through wet etching.
また、リッジ形成工程において、第２のｐ型クラッド層６を、ドライエッチングによる第１のエッチング工程と、ウェットエッチングによる第２のエッチング工程とにより、部分的に除去する。 - 特許庁 - The gate electrode for an insulation gate electric field effect transistor is formed in the logical operation circuit area by patterning the first conductive layer excluding the element separating area in the logical operation circuit area.
ロジック回路領域内の素子分離領域を除く第１導電層をパターニングして、ロジック回路領域内に絶縁ゲート電界効果トランジスタのゲート電極を形成する。 - 特許庁 - On an anode electrode 8, a thin phosphor layer 9 formed in a shape of display pattern equivalent to the background and the first luminous display part A with a prescribed opening, are formed.
陽極電極８上には、背景相当の表示パタン形状に薄膜の蛍光体膜９が形成され、所定開口を有した第１発光表示部Ａが設けられる。 - 特許庁 - The subcarrier 3 consists of a ceramic substrate 11 which in its edge areas 12 on the first side 2, has a ductile metal layer 13 arranged in a ring shape.
ここで、サブキャリア３は、セラミック基板１１を含み、このセラミック基板は、第１の面２の、その周縁領域１２において、環状に配置された延性の金属層１３を有する。 - 特許庁 - To provide a pressure-sensitive adhesive agent sheet having excellent releasability of a release sheet, and obtained by laminating a first release sheet and a second release sheet through an pressure-sensitive adhesive agent layer.
粘着剤層を介して第１の剥離シートと第２の剥離シートとが積層されてなる粘着剤シートであって、剥離シートの剥離性に優れた粘着剤シートを提供する。 - 特許庁 - A first coating layer made of a compound semiconductor containing Al as a group III element and P as a group V element is arranged between side surfaces of the laminate structure and the buried layers.
積層構造体の側面と埋込層との間に、ＩＩＩ族元素としてＡｌを含み、Ｖ族元素としてＰを含む化合物半導体からなる第１の被覆層が配置されている。 - 特許庁 - The plurality of diffusion layers having a first refractive index, respectively, is placed in the plurality of through-holes having an absorption structure, and contacts with the part of the reflective layer exposing out of the plurality of through-holes.
第一屈折率を有する複数の拡散層は、それぞれ、吸光構造の複数の貫通穴内に設置され、また、複数の貫通穴から露出する反射層の一部と接触する。 - 特許庁 - The control means apply first and second potentials to the both electrodes so that polarities of electric field generated in the liquid crystal layer are periodically reversed to subject the liquid crystal modulation elements to optical modulation operation.
制御手段は、液晶層に生じる電界の符号が周期的に反転するように両電極にそれぞれ第１及び第２の電位を与えて光変調動作を行わせる。 - 特許庁 - The ON resistance is thereby reduced without decreasing the drain offset length DL2, i.e. the separation distance of a part on the first gate insulating film 6A and the drain N^+ diffusion layer 5.
これによって、第１ゲート絶縁膜６Ａ上の部分と、ドレインＮ^+拡散層５との離隔距離であるドレインオフセット長ＤＬ２を小さくすることなく、ＯＮ抵抗を低下させることができる。 - 特許庁 - In an MONOS memory, a first insulation film 4 of an ONO laminate film of the cell transistor is composed of a silicon oxide film or a silicon oxide nitride film having oxygen compositions more than a charge storage layer 5.
ＭＯＮＯＳ メモリにおいて、セルトランジスタのＯＮＯ 積層膜の第１の絶縁膜４ は、シリコン酸化膜または電荷蓄積層５ よりも酸素組成の多いシリコン酸窒化膜からなる。 - 特許庁
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