「In Process」を含む例文一覧(50000)
＜前へ 1 2 .... 886 887 888 889 890 891 892 893 894 .... 999 1000 次へ＞- Zn having a sacrificial electrode effect and an enzyme that allows Zn to exist as an oxide and produces a situation, in which Zn is stably scattered in a film without activation of Zn during a thermal process that will cause partial deposition in the film, and reaction with glass, etc., and is scattered, are added to a metal magnetic film.
金属磁性膜に犠牲電極作用を有するＺｎと、このＺｎを酸化物として存在させ、熱処理時にＺｎが活性化し膜中に偏析したり拡散してガラスなどと反応せず、安定的に膜中に分散させた状態を作り出すために酸素を添加する。 - 特許庁 - To provide a process for producing an epitaxial wafer for nitride semiconductor light-emitting diode, in which a moderately roughened surface exhibiting high light take-out efficiency is provided, without bringing about increase in fabrication method and fabrication cost, as in the methods where wet etching or a resist pattern have been used for a long time.
長時間のウエットエッチングやレジストパターンを用いる方法のように製造工程及び製造コストの増加をもたらすことがなく、光取出し効率の高い適度に荒れた表面を有する窒化物半導体発光ダイオード用エピタキシャルウエハの製造方法を提供する。 - 特許庁 - In a liquid- crystal display panel, by forming gate interconnections 22, 24, and 26 and data interconnections 65, 66, and 68 using such interconnections for display element, it is prevented that corrosion occurs in a process of connecting these interconnections to other conductive material in a contact section and characteristics of the element are degraded.
液晶表示パネルにおいて、このような表示素子用配線を用いてゲート配線２２，２４，２６及びデータ配線６５，６６，６８を形成すれば、接触部で他の導電物質と連結される過程で腐食が発生して素子の特性を低下させるのを防止できる。 - 特許庁 - To provide an on-vehicle device communication system and an in- vehicle communication controller, capable of coping with an increase in an information amount transmitted/received in communication inside a vehicle without increasing the number of harnesses connecting on-vehicle devices, and executing abnormality detection of the on-vehicle device and the coping process therefor.
車両内の通信で送受信される情報量の増加に対し、車載機器を接続するハーネスの数を増やすことなく対応可能であり、車載機器の異常検出及びその対応処理を行うことができる車載機器通信システム及び車内通信制御装置の提供。 - 特許庁 - In a piston base 11 (base) in which admittance of an anodic oxidation coating layer 13 is within a specified range (for example, 0.9 to 2.0 mS) by specifying the surface roughness of the piston base 11 (base) to be 3.0 μmRa or less, good adhesion of a chromium plating layer is reliably obtained in a chromium plating process.
ピストン基体１１（基体）の表面粗さを3.0μmRa以下と規定することで、陽極酸化皮膜層１３のアドミッタンスが規定範囲（例えば0.9〜2.0mS）内であるピストン基体１１（基体）においては、クロムめっき処理工程において、確実に、クロムめっきの良好な密着性を得ることができる。 - 特許庁 - Thus, since the recesses 131 are disposed on a lower side of the core 110 at during brazing operation (in a furnace), the brazing material melted, flows into the recess 131, and is stored and held in the recesses 131 by the surface tension of the brazing material in a brazing process.
これにより、ろう付け時（炉内）においては、第１凹部１３１は、コア１１０の下方側となる部位に位置することとなるので、ろう付け工程において、融けて流れ出して第１凹部１３１に流れ込んだろう材は、ろう材の表面張力により第１凹部１３１内に溜まって保持される。 - 特許庁 - To provide a development device, in which even if the toner concentration of developer stored in a device body increases, troubles, such as excessive holding of developer on a developer carrier, leakage of developer, and an increase in load on a transport member are reduced, and to provide a process cartridge and an image forming apparatus.
装置主部に収容された現像剤のトナー濃度が増加しても、現像剤担持体上に現像剤が過剰に担持されたり、現像剤が漏出したり、搬送部材の負荷が増加する等の不具合が軽減される、現像装置、プロセスカートリッジ、及び、画像形成装置を提供する。 - 特許庁 - In the inorganic base material manufactured from a hydraulic slurry by a papermaking process, at least either one of a water repellent and a pigment is added to the inorganic base material so as to be more present in the surface part or the surface part and rear part in the cross-sectional thickness direction thereof than the central part thereof.
水硬性スラリーからの抄造による無機質基材であって撥水剤および顔料のうちの少くともいずれかが、無機質基材の断面厚み方向の中央部よりも表面部もしくは表面部と裏面部においてより多く含有されているものとする。 - 特許庁 - The production method includes a melting process in which a gas in a melting apparatus 200 is replaced at the frequency of 2-20 times/min on the basis of the capacity of the apparatus 200, particularly that of a melting furnace 202 to discharge the gas in the space inside the apparatus 200 from an exhaust tube 216.
排気管２１６から本溶解装置２００内の空間における気体が排気されることによって、本溶解装置２００内の容積、具体的には、溶融炉２０２の容積を基準として、本溶解装置２００内の気体の置換を２〜２０回／分となるように行う（本溶解工程）。 - 特許庁 - To provide a push rod of oil through type in a new structure which improves abrasion resistance in a sliding part of a valve system mechanism part by preventing mixing into engine oil a welding spatter (a molten block) or the like generated in a welding process when the push rod for a valve system of an internal combustion engine is manufactured.
内燃機関の動弁用プッシュロッド製造時の溶接工程において発生する溶接スパッター（熔塊）などのエンジンオイルへの混入を防止し、動弁機構部品の摺動部の耐摩耗性を向上させることができる新しい構造のオイルスルータイプのプッシュロッドを提供する。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing, with high productivity, an epitaxial wafer of parallel pn junction structure in high quality, by evenly removing a rise in a silicon in forming a parallel pn junction structure for precise and efficient final polishing process of a silicon substrate surface.
並列ｐｎ接合構造を形成する際に生じるシリコンの盛り上がりを均一に除去し、シリコン基板表面の最終研磨工程を高精度かつ高効率に行い、高品質な並列ｐｎ接合構造エピタキシャルウェーハを優れた生産性で製造する方法を提供することを目的とする。 - 特許庁 - The process for preparing a branched organopolysiloxane having at least one CH_3SiO_3/2 unit in a molecule comprises subjecting an organopolysiloxane mixture including an organohydrogenpolysiloxane containing at least one CH_3(H)SiO_2/2 unit in one molecule with other organopolysiloxanes to equilibration reaction in the presence of water using an alkali catalyst.
一分子中にCH_3(H)SiO_2/2単位を少なくとも1個含有するオルガノハイドロジェンポリシロキサンを含むオルガノポリシロキサン混合物を水の存在下でアルカリ触媒を用いて平衡化反応に供することを特徴とする、分子中に CH_3SiO_3/2単位を少なくとも１個有する分岐状オルガノポリシロキサンの製造方法。 - 特許庁 - The one-process synthesis method for the zeolite originated from the coal ash is characterised in that the coal ash is dissolved in an NaOH-NaAlO_2 mixture solution, and the monophase zeolite or a mixture of the zeolite and a hydroxy-sodalite is synthesized in a mixture liquid outside a semipermeable membrane through the membrane.
石炭灰をＮａＯＨ−ＮａＡｌＯ_２混合溶液に溶解させて、半透膜を通じて膜外の混合液中に単一相のゼオライト、もしくは、ゼオライトとヒドロキシソーダライトとの混合物を合成することを特徴とする石炭灰由来のゼオライトの一工程合成方法である。 - 特許庁 - In this project management system, a WBS registering part 101 and a WBS relation defining part 102 input plural kinds of WBS data in respectively different expressions excepting for the least significant layer as WBS data expressing the process of any arbitrary project in the WBS concerning the project.
プロジェクト管理システムにおいて、ＷＢＳ登録部１０１およびＷＢＳ関係定義部１０２は、任意のプロジェクトについて、該プロジェクトの工程をＷＢＳで表したＷＢＳデータであって、最下位層を除く表し方が各々異なる複数種類のＷＢＳデータを入力する。 - 特許庁 - In the apparatus body having an electrostatic copy process, an airflow passage for guiding air from an ozone generation part to the outside of the apparatus body is provided, and a heater 15 for heating air and an ozone concentration sensor 18 for detecting the concentration of ozone in the airflow passage 22 are provided in the airflow passage 22.
静電複写プロセスを有する装置本体内において、オゾン発生部から装置本体外へと空気を導く空気流路を設ける一方、この空気流路２２内には、空気を加熱するヒータ１５と空気流路２２内のオゾンの濃度を検出するオゾン濃度センサ１８を設ける。 - 特許庁 - To provide a separation method for carbon nanotubes (CNT), which is extremely industrially advantageous, in which a large amount of metal type CNT and semiconductor type CNT are efficiently separated and refined in a short time, from CNT containing both of the metal type CNT and the semiconductor type CNT with inexpensive equipment in a simple process and the scale-up is made easy.
安価な設備と簡便な工程により、金属型ＣＮＴと半導体型ＣＮＴを含むＣＮＴから両者を短時間で大量に効率良く分離精製することができ、かつスケールアップも容易な工業的に極めて有利なＣＮＴの分離方法を提供する。 - 特許庁 - To enable recovery and recyclization of acid with an ion-exchange membrane for reducing the total energy cost and environmental load of a process, on the recovery of the acid which is a problem in the cost aspect and in environmental aspect, in an acid-saccharification method for acid-hydrolyzing of solid biomass.
固形バイオマスの酸加水分解による酸糖化法で、コスト面及び環境面で課題となっている酸回収において、イオン交換膜を用いて酸の回収及び再利用を可能とし、プロセス全体のエネルギーコスト及び環境負荷を低減することを目的としている。 - 特許庁 - In the surface treatment method, a coating liquid or a treatment liquid is sprayed on the core 2, the core 2 is vibrated while holding the core 2 so that the direction of the fins 1 is located in the gravity direction in the process of the spraying and/or after the spraying, and the applied coating liquid or treatment liquid is caused to flow down to the lower direction.
塗料液または処理液をコア２に噴霧し、その噴霧中および／または噴霧後にフィン１の向きが重力方向に位置するようにコア２を保持しつつ、そのコア２を振動させて、塗布された塗料液または処理液を下方に流下させる。 - 特許庁 - To provide seasoning containing pickled Ume as a main raw material which is obtained by effectively utilizing a second-grade product or the like available in a process for producing the pickled Ume, enables sufficient utilization of nutrients in and efficacy of all the pickled Ume including Ume flesh, seeds, and even kernels thereof, and also is readily usable in daily dietary life.
梅干の製造工程で生じうる二級品などを有効活用すると共に、梅干の梅肉、種、仁までの全てが含む栄養素や効能を十分に活用でき、更には日々の食生活に容易に使うことのできる調味料を提供する。 - 特許庁 - In a heat treatment process, by sequentially rotating the division walls arranged in multistages in the vertical direction from the division walls of an upper stage to the division walls of a lower stage, heat treatment is carried out while the objects to be treated sequentially slide down from the division walls of the upper stage to the division walls of the lower stage.
熱処理工程において、鉛直方向に多段に配置された分割壁が、上段の分割壁から下段の分割壁まで順次回動することにより、被処理物が上段の分割壁から下段分割壁に順次滑落しながら熱処理される。 - 特許庁 - This multiple tank type inline plating device 20 comprises a plurality of the rotary drums 21(1)-27(1) connected to each other in such a way that a workpiece W after passing through a cleaning process is carried in the rotary drum 25(1) for plating while it is immersed in a plating solution tank 25(2) to be plated.
多槽式インラインメッキ処理装置２０は、複数台の回転ドラム２１（１）〜２７（１）が連結された構成であり、洗浄工程を経た後のワークＷがメッキ処理用の回転ドラム２５（１）内を搬送される間にメッキ液槽２５（２）に浸漬されメッキ処理が施される。 - 特許庁 - This method for manufacturing a resin-coated metallic plate is to extrude a thermoplastic resin in a thermally molten state from a slit by means of an extruder and stretch the extruded resin at a specific temperature in the crosswise and the longitudinal direction and further, continuously coat a metallic plate heated at a specified temperature to be followed by a cooling operation totally in a single process.
押し出し機により熱溶融させた熱可塑性樹脂を、スリットより押し出し、特定の温度で横及び縦延伸し、一定温度に加熱された金属板に連続的に被覆し冷却することを一工程で行う樹脂被覆金属板の製造方法。 - 特許庁 - Further, the clogging of a filter 53 caused by foreign matter 54 bringing about an increase in the resistance of the filter 50 is eliminated by allowing air bubbles to flow in the filter 50 to flocculate the foreign matter in an air bubble expanding process to keep the function as the filter 50 over a long period of time.
また、濾過器の抵抗増大をひきおこすフィルタ５３での異物５４の目詰まりは、濾過器５０に気泡を流入させることによって気泡の膨張過程で異物を凝集させて、フィルタ５３での目詰まりを解消せしめ、濾過器５０としての機能を長期間維持せしめる。 - 特許庁 - A Bc-link tree is used, which has a two-way list in a leaf node and has a one-way list in an internal node, the internal node is not locked in the process of searching data based on a key, the leaf node is locked when a search reaches the leaf node to perform an operation of search, insertion or delete.
葉ノードに双方向リストを有し、内部ノードに一方向リストを有するＢｃ−ｌｉｎｋ木を用い、キーに基づくデータの探索の過程で内部ノードにはロックを実施せず、探索が葉ノードに到達した時点で葉ノードにロックを実施して検索、挿入又は削除の操作を実行する。 - 特許庁 - A contact portion 49 in a form of protruding to the outer periphery side is formed at a first swaging piece 47 of the bonding portion 34, and the contact portion 49 is deformed while being displaced inwardly in a radial direction in a state of abutting with the outer periphery of the protruding portion 35 during a process of bonding the bonding portion 34.
固着部３４の第１カシメ片４７には外周側へ突出した形態の接触部４９が形成され、固着部３４の固着過程では、接触部４９が、突起部３５の外周面に当接した状態で径方向内向きに変位しながら変形させられる。 - 特許庁 - The biaxially stretched polyester film for molding process and its manufacturing method is characterized in that the melting point is 240-265°C, crystalization degree is 49-58, and the total (FMD+FTD) of the stretching at break in the longitudinal direction (FMD) and the stretching at break in the width direction (FTD) at 80°C is not less than 430%.
融点が２４０〜２６５℃、結晶化度が４９〜５８であり、８０℃での長手方向の破断伸度（ＦMD）と幅方向の破断伸度（ＦTD）の合計（ＦMD＋ＦTD）は４３０％以上であることを特徴とする成形加工用二軸延伸ポリエステルフィルムおよびその製造方法。 - 特許庁 - To provide a support for a lithographic printing plate, which is excel lent in planeness and has favorable coating properties in the coating process of an image forming layer and the surface of which has excellent hydrophilicity, and a lithographic printing original plate, with which a favorable quality image having no scumming in a non-image part can be formed by employing the support.
平面性に優れ、画像形成層塗布工程における塗布性が良好であり、且つ、表面の親水性に優れた平版印刷版用支持体、及びそれを用いた、非画像部に汚れのない良好な画質の画像を形成しうる平版印刷版原版を提供する。 - 特許庁 - To provide a semiconductor device manufacturing method including a polishing process of polishing a stepped layer to be polished and a semiconductor wafer polishing device, which are capable of polishing a layer to be polished so as to make it more uniform in thickness without increasing the off-line thickness measurements of the polishing layer in frequency even if the layer to be polished is varied in quality.
段差を含む被研磨層を研磨する研磨工程を含む半導体装置の製造方法と半導体ウエハの研磨装置において、被研磨膜に膜質のばらつきがあっても、オフラインによる膜厚測定を増やすことなく、より均一な厚さの研磨を行なう。 - 特許庁 - In a controller 2, a setting communication part 14 and an extraction range- setting part 15 set a range of a direction of a lateral width component of the vehicle appearing on an image from the camera 1b that is a reference image of the three-dimensional measurement process in the initial setting, and the range is registered in an extraction range storage part 16.
制御装置２では、初期設定時に、設定用通信部１４や抽出範囲設定部１５により、３次元計測処理の基準画像となるカメラ１ｂからの画像上に現れる車両の横幅成分の向きの範囲が設定され、抽出範囲記憶部１６に登録される。 - 特許庁 - Even if the prior art is in a different technical field from a claimed invention, it can be recognized as a cited invention in the case that the prior art might be applied to other technical fields or used by the applicant in the process of solving a specific technical problem.
先行技術が、請求項に係る発明とは異なる技術分野に属していても、他の技術分野に適用され得るか、又は特定の技術課題を解決する過程で出願人によって使用され得る場合、当該先行技術を引用発明と認めることができる。 - 特許庁 - In this nonvolatile semiconductor storage element, a storage part 200 equipped with two transistors as one set by the standard CMOS process makes a hole and an electron generated when an inter-band tunnel current generated between a source and a semiconductor substrate flows trapped in a crystal defect in the vicinity of the boundary of the semiconductor substrate and a gate oxide film.
標準的なＣＭＯＳプロセスによるトランジスタ二個を一組とし備える記憶部２００は、ソース・半導体基板間に発生するバンド間トンネル電流が流れる際に発生する正孔と電子を、半導体基板とゲート酸化膜の境界付近にある結晶欠陥にトラップさせる。 - 特許庁 - The CAD/CAM system for designing the press dies is provided with an automatic escape hole designing process in which an escape hole 1 is automatically designed in consideration of a diameter of a tool processing the escape hole 1 so as not to have any non-grinding portions therein in processing the escape hole 1 of the press die.
プレス金型の逃し穴１を加工する時に削り残しを生じない様に、逃し穴１を加工する工具の有する径を考慮して逃し穴１を自動設計する、逃し穴自動設計工程を備えた、プレス金型設計用ＣＡＤ／ＣＡＭシステムとした。 - 特許庁 - To provide a sputtering film deposition system in which, as for film deposition on a film depositing substrate, the film thickness is correctly controlled in continuous film deposition without stopping the film deposition one or more times in the process of the film deposition, and actual film deposition working is performed so as to obtain an objective film thickness.
本発明の目的は、成膜途上で成膜基板への成膜を一度或いは復数ともに停止させることなく生産性を落とさずに連続成膜の内に正確に膜厚を管理して、目標とする膜厚に実成膜加工を施すスパッタリング成膜装置を提供することにある。 - 特許庁 - The tire bead section is manufactured in one process by winding, like ring by one rubberized bead wire, the large angular core body 6a located in the heel section 8a and the small angular projection 6b located in the toe section 8b connecting to it.
即ち、この実施形態では、ヒール部８ａに位置する大きい山形状のコア本体６ａと、これに連続してトウ部８ｂに位置する小さい山形状の突起部６ｂとを一本のゴム引きしたビードワイヤーによりリング状に巻付けながら１回の工程で製造するものである。 - 特許庁 - To surely acquire a sufficient liquid head to return a liquid to the front distillation column when returning the liquid condensed in a condenser making use of its liquid head in a distillation apparatus of a cascade process where a plurality of distillation columns to be used for isotope concentration or the like are connected in series.
同位体濃縮等に用いられる複数の蒸留塔を直列に接続したカスケードプロセスの蒸留装置において、前段の蒸留塔への液の返送を、コンデンサで液化された液の液頭圧を利用して行う場合に、返送に十分な液頭圧を確実に得る。 - 特許庁 - In the plasma display panel for displaying images by discharging a gas filled in between an opposed front substrate and a rear substrate, a black frame 4, formed in the process for forming a black layer 3, is arranged at the periphery of the display region 2 of the front substrate 1.
対向配置される前面基板と背面基板との間に封入された気体を放電させて表示を行うプラズマディスプレイパネルにおいて、前面基板１の表示領域２の外周部に、黒色層３の形成工程で形成された黒額縁４を備えている。 - 特許庁 - To provide a stoker type incinerator very excellent in view of energy efficiency, wherein incinerated ash can be treated up to the state where its reuse is possible, in the incineration process in itself, and a method of disposing of the incinerated ash thereby.
ストーカ式焼却炉での焼却過程において、焼却灰の再利用が可能な状態まで処理することを可能にするものであり、エネルギー効率的に見て、非常に優れたストーカ式焼却炉及びそれによる焼却灰の処理方法を提供するものである。 - 特許庁 - In this way, information of periodic check, trouble diagnosis, etc., of an aircraft is electronically processed in a job site of maintenance work of an airframe, this electronic information processed maintenance record information is controlled, and labor saving and quickness of a work process in maintenance operation of the aircraft can be attained.
これにより、航空機の定時点検及び故障診断等の情報を機体の整備作業の現場で電子化し、この電子情報化された整備記録情報を管理し、航空機の整備業務における作業処理の省力化、迅速化を図ることができる。 - 特許庁 - To solve the problem that a laminate obtained becomes defective when a fault occurs in ceramic green sheets to be laminated, in a manufacturing method of a laminated ceramic electronic component having a laminating process wherein a plurality of kinds of ceramic green sheets are laminated in a prescribed sequence to obtain the laminate.
複数種類の複数枚のセラミックグリーンシートを所定の順序で積層することによって積層体を得る、積層工程を備える、積層セラミック電子部品の製造方法において、積層されるべきセラミックグリーンシートのミスが生じたとき、得られた積層体が不良品となってしまう。 - 特許庁 - In a manufacturing process, the gasket 15 is increased in diameter and pressed in the negative electrode cap 10, and thereafter the negative electrode cap 10 is brought into tight contact with the gasket 15, thereby preventing the electrolyte 40 on a contact surface X between the both from entering, staying, and leaking out.
製造工程ではガスケット１５を拡径し、負極キャップ１０に圧入することにより、圧入後において負極キャップ１０とガスケット１５とを強く密着させ、両者の接触面Ｘにおける電解液４０の浸入、滞留並びに外部への漏出を防止する。 - 特許庁 - To provide a packaging bag excellent in nonaqueous electrolyte sealing property even when a drawing process is applied, unnecessary to apply a metal film treatment having a problem in liquid-waste treatment, and to provide a nonaqueous electrolyte battery housing electrolyte or the like in the packaging bag.
廃液処理問題のおそれがある金属箔処理を行う必要がなく、非水電解質の密封性に優れ、絞り加工処理した場合でも、密封性に優れた袋状包装容器、及び該袋状包装容器内に電解質などを収容した非水電解質電池を提供すること。 - 特許庁 - To provide a method for forming transparent conductive film excellent in transparency, high in conductivity (low resistance value), uniformly high in etching speed and safe during forming process, the transparent conductive film manufactured with the method mentioned above, and an article including the transparent conductive film.
透明性に優れ、高い導電性（比抵抗値が低い）を有し、エッチング速度が均一で速く、更に形成過程において安全性が高い透明導電膜を形成する方法と上記方法で作製された透明導電膜及び透明導電膜を有する物品を提供する。 - 特許庁 - This recovering method comprises dissolving the waste halide absorbent in water, which has absorbed a halide in a high-temperature reducing gas, separating all aluminum contents contained in the waste absorbent, by a wet process of adjusting the hydrogen ion concentration (pH) of the solution into 3 to 9, and recovering them.
高温還元性ガス中のハロゲン化物を吸収した使用済みハロゲン化物吸収剤を水に溶解すると共に、溶液の水素イオン濃度(pH)を3から9に調整する湿式処理によって、使用済み吸収剤に含まれる全アルミニウム成分を分離し回収する。 - 特許庁 - This method for producing the ionically dissociative functional molecule comprises synthesizing a first reaction product in which a precursor group bonds with a fullerene group through a spacer group is synthesized by performing the reaction of the fullerene with a raw material molecule in which the precursor group of an ionic dissociative group and a halogen atom are bonded through a spacer group in a first process.
第１工程で、フラーレンと、イオン解離性基の前駆体基とハロゲン原子とがスペーサー基と結合している原料分子とを反応させることによって、スペーサー基を介して前駆体基がフラーレン核に結合している第１反応生成物を合成する。 - 特許庁 - To provide a semiconductor device that suppresses a drop in On-state current of a transistor while having a gate electrode that prevents the occurrence of depletion effects and suppresses oxidation in a manufacturing process, corrosion due to chemicals, and contamination of a heat treatment device due to metals contained in the gate electrode, and its manufacturing method.
空乏化を生じず、また、製造工程における酸化、薬液による腐食、含有する金属による熱処理装置の汚染を抑えることのできるゲート電極を有し、且つトランジスタのオン電流の低下を抑えることのできる半導体装置およびその製造方法を提供する。 - 特許庁 - In the manufacturing method of an organic electroluminescent display element in which a luminous layer 12 having light-emitting capability is clipped between a first and a second electrodes 4, 14, ultrasonic vibration is given in the process wherein the luminous layer is formed by applying and drying the material liquid of the luminous layer 12.
発光能を有する発光層１２が第１および第２電極４，１４間に挟持された有機エレクトロ・ルミネッセンス表示素子の製造方法において、発光層１２の材料液を塗布し乾燥させて発光層を形成する際に、超音波振動を与える。 - 特許庁 - Since ruggedness resulting from dents 55H provided in the insulator layer 55 is fully eased in a polishing process, when a plurality of thin film magnetic heads are formed on a wafer in parallel, the formation thickness of principal magnetic pole layers 10 become to be hardly fluctuated among respective thin film magnetic heads.
研磨過程において絶縁層５５に設けられている窪み５５Ｈに起因する凹凸が十分に緩和されるため、ウェハに複数の薄膜磁気ヘッドを並列的に形成する場合に、各薄膜磁気ヘッド間において主磁極層１０の形成厚さがばらつきにくくなる。 - 特許庁 - In a process of bonding the bonding portion 34 to the shield member 11, the locking portions 50 and 53 are mutually locked by deforming the first swaging piece 47 so that its bending portion is extended in a state that both the swaging pieces 47 and 48 are made to be close to regular positions in a circumferential direction.
固着部３４をシールド部材１１に固着する工程では、両カシメ片４７，４８を周方向において正規位置まで接近させた状態で、第１カシメ片４７をその屈曲部が伸びるように変形させることで、係止部５０，５３同士を係止させる。 - 特許庁 - When the address after address calculation is not entered in TLB, the process is transferred to a TLB fault handler, in which a TLB control part detects, based on the value of the C bit, whether carry-down from an upper address or carry-up to an upper address has occurred in the address calculation or not.
アドレス計算後のアドレスがＴＬＢにエントリされていない場合はＴＬＢフォルトハンドラに移行し、ＴＬＢ制御部が、Ｃビットの値に基づいてアドレス計算において上位アドレスからの桁下がりまたは上位アドレスへの桁上がりが発生したか否かを検出する。 - 特許庁 - The typing game apparatus 1 computes a correct answer input rate for the input character string 23A of one phrase made just before and selects an input rate (t) in this one phrase in accordance with the correct answer input rate in an input character count computing process (S34).
タイピングゲーム装置１では、入力対象文字数算出処理（Ｓ３４）において、直前に行った１フレーズの入力対象文字列２３Ａに対する正解入力率を算出し、当該正解入力率に応じて、今回の１フレーズにおける入力対象率（ｔ）を選択する。 - 特許庁
