「In process」を含む例文一覧(50000)

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  • The thawing treatment in the process (1) may be carried out simultaneously to an enzyme-impregnating treatment under the reduced pressure in a successive process.
    また、上記工程（１）における解凍処理を、次工程の減圧下の酵素含浸処理と同時に行ってもよい。 - 特許庁
  • The IC tag 4 is recorded with the lot number of the lot in the current process and information acquired in the current process.
    ＩＣタグ４に、現在工程のロットについてのロット番号および現在工程で得られる情報を記録する。 - 特許庁
  • To provide a production process of calcium silicate capable of being utilized in a wide variety of civil engineering and construction material fields, in which process calcium saccharate is used.
    土木建材分野に広く利用できるカルシウムサッカラートを用いた珪酸カルシウムの製造方法の提供。 - 特許庁
  • In the mist process, mist of the cleaning liquid is sprayed to the cylinder head having been once dried in the first drying process.
    ミスト工程では、第１乾燥工程で一旦乾燥したシリンダヘッドに対して、洗浄液のミストが吹き付けられる。 - 特許庁
  • When it fails in the user authentication in step S802, no process is performed, the process is ended (step S805).
    ステップS８０２においてユーザ認証に失敗した場合は、何も処理を行わず、処理を終了する（ステップＳ８０５）。 - 特許庁
  • KNOCKING PROCESS METHOD IN FLAT TYPE DISPLAY DEVICE AND KNOCKING PROCESS METHOD IN SUBSTRATE FOR FLAT TYPE DISPLAY DEVICE
    平面型表示装置におけるノッキング処理方法、及び、平面型表示装置用基板におけるノッキング処理方法 - 特許庁
  • To provide a method for forming a resist pattern in two-layer resist process including a developing step as simple as in monolayer resist process.
    単層レジストプロセスと同等の簡略な現像工程でよい二層レジストプロセスのレジストパターン形成方法を提供する。 - 特許庁
  • To provide an aromatic polyamide staple fiber having improved processability in a carding process and improved resistance to needle breakage in a needle-punching process.
    カード工程通過性やニードルパンチ工程での耐針折れ性が向上した芳香族ポリアミド短繊維を提供すること。 - 特許庁
  • Therefore, a silicon wafer is not required to be previously rounded in a chamfering process, so that a processing load can be lessened in a chamfering process.
    よって面取り時に予め真円加工する必要がなく、面取り工程での加工作業の負担を軽減できる。 - 特許庁
  • When there is an apparatus having a plurality of subsequent processes, the end time of treatment for the total lot of a present treatment lot in the subsequent process and a lot in process is detected.
    タイムテーブル管理部１３０はその情報でタイムテーブルを更新し、次の処理の終了を検出する。 - 特許庁
  • To enhance certainty in a sterilization process and to shorten the time necessary for the sterilization process in an isolator.
    アイソレータにおける滅菌処理の確実性を向上させるとともに、滅菌処理に要する時間をより短縮する。 - 特許庁
  • After that, the plate 200 is moved to an apparatus in the next process, and the molding A is conveyed to an apparatus in the next process.
    そののち、取出板２００を次工程の装置まで移動させ、成形体Ａを次工程の装置に搬送する。 - 特許庁
  • To present a succeeding design process in response to deliverables produced in each process of a design work.
    設計業務の各プロセスにおいて作成された成果物に応じて、次の設計手順を提示することができるようにする。 - 特許庁
  • The process of stretching the film in the longitudinal direction (17) is performed after the process of stretching the film (1) in the transverse direction (9).
    長手方向（１７）に延伸する工程は、横方向（９）にフィルム（１）を延伸する工程の後に行われる。 - 特許庁
  • In the desorption process 25, the compressed steam 300d is brought in contact with a post-process adsorbent 410b having adsorbed a solvent.
    脱着工程２５では、溶剤を吸着した処理後吸着剤４１０ｂに圧縮蒸気３００ｄをあてる。 - 特許庁
  • The molding is manufactured by pressure-molding the mixture through the mixing process in a molding die at 25-200°C, in a molding process.
    成形工程では、混合工程を経た混合物を２５℃〜２００℃の金型で加圧成形して成形体を作製する。 - 特許庁
  • A graph showing the relation between the measurement results obtained in the measurement process and the calculated results obtained in the calculation process is formed.
    そして、測定プロセスで得られた測定結果と演算プロセスで得られた演算結果との関係グラフを作成する。 - 特許庁
  • The manufacturing method of the fuel cell electrode material includes a process of immersing a carbonaceous porous body together with a metal complex in CO_2 in critical state, and a firing process thereof.
    炭素質多孔体を、金属錯体と共に、超臨界状態にあるＣＯ_２に浸漬し、ついで焼成する。 - 特許庁
  • In each stage in the encoding process, groups of the signal constituents are formed and multi- dimensional encoding process are used for the groups.
    符号化プロセスの各段は信号構成要素のグループを形成し、それらのグループに多次元符号化プロセスを用いる。 - 特許庁
  • The cooked rice boiled in a rice cooking process is cut every grain of cooked rice in a cutting process using a chopper or the like.
    炊飯工程において炊いた米飯を、切断工程においてチョッパー等を使用して飯粒ごとに切断する。 - 特許庁
  • A predetermined level of wash water is stored in the washing tub 14 in a washing process and a rinsing process.
    洗浄工程とすすぎ工程において、洗浄槽１４内には所定の水位の洗浄水が貯水されている。 - 特許庁
  • in addition to an independent claim concerning a process, an independent claim concerning the device or equipment intended to be used in the process
    方法に関する独立クレームに加え，当該方法において使用するための装置又は設備に関する独立クレーム - 特許庁
  • To provide a process for the preparation of uniform and high-quality spherical particles at low cost, in a simple process and in a high yield.
    均一で高品質な球状粒子を廉価にかつ簡便に、しかも、高収率で製造する方法を提供する。 - 特許庁
  • Moreover, a characteristic function indicating processing in each process or each inter-process connecting situation are stored in the control means 14.
    さらに、各工程での処理や各工程間の接続状況を示す特性関数を制御手段１４に記憶する。 - 特許庁
  • The tap return process, in accordance with thread cutting ranges A, B stored in this process, judges execution/non-execution of [tap return].
    タップ戻し処理では、ここで記憶したネジ切り範囲Ａ，Ｂに従って「タップ戻し」の実行／非実行を判断する。 - 特許庁
  • An additional network parameter not acting like a variable in the optimization process acts like a limiting condition in the optimum process.
    最適化プロセスにおいて変数ではない付加的ネットワークパラメータは、最適化プロセスにおける拘束条件として機能する。 - 特許庁
  • Magnetic field characteristics of the bias magnet are measured in a process S2, after molding the bias magnet in a process S1.
    工程Ｓ１においてバイアス磁石を成形した後、工程Ｓ２において同バイアス磁石の磁界特性を測定する。 - 特許庁
  • DIAGNOSTIC TOOL USED IN PROCESS CONTROL SYSTEM, METHOD OF DIAGNOSING PROBLEM IN PROCESS CONTROL SYSTEM, AND FUNCTION BLOCK
    プロセス制御システムで用いられる診断ツール、プロセス制御システムにおける問題を診断する方法、および機能ブロック - 特許庁
  • The filtrate obtained in the process (C) and distilled water obtained in the process (D) can be used as slurrying water.
    工程（Ｃ）で得られる濾液及び工程（Ｄ）で得られる蒸留水は、スラリー化用水として用いることができる。 - 特許庁
  • One part of the filtrate obtained in the lead recovering process (D) can be used for the slurrying water in the slurrying process (A).
    鉛回収工程（Ｄ）で得られた濾液の一部は、スラリー化行程（Ａ）のスラリー化用水として用いることができる。 - 特許庁
  • In the Projects window, right-click the Process Files node in the PartnerView project and choose New BPEL Process.The New BPEL Process wizard opens.
    「プロジェクト」ウィンドウで PartnerView プロジェクトの「プロセスファイル」ノードを右クリックし、「新規」「BPEL プロセス」を選択します。 「新規 BPEL プロセス」ウィザードが開きます。 - NetBeans
  • During this crystallization process, the film is not widened in width, and the film is widened in width after the temperature holding process to produce a retardation film 17.
    この結晶化工程の間は拡幅せず、温度保持工程の後に拡幅して位相差フィルム１７とする。 - 特許庁
  • In the production method, a process annealing stage can be provided in the process of the cold rolling stage.
    この製造方法においては、上記の冷間圧延工程途中に中間焼鈍工程を設けることもできる。 - 特許庁
  • In a process 14, the defect distribution (number of defects per unit area) of insulating films is found from data provided in the process 13.
    過程１４は、過程１３で得られたデータから絶縁膜の欠陥分布（単位面積当たりの欠陥）を求める。 - 特許庁
  • To solve the problem that scratch generated in a grinding process and a lap process is enlarged in manufacturing a semiconductor wafer.
    半導体ウエハの製造において、研削工程やラップ工程で生じるスクラッチをエッチング工程で拡大してしまう。 - 特許庁
  • An embodiment of a method of manufacturing the thermoelectric material includes a dissolution process, a deoxidation processing process, and a solidification process, wherein the oxygen concentration in the material is ≤2,000 ppm in the deoxidation processing process.
    この熱電材料の製造方法の一例は、溶解工程と脱酸素処理工程と凝固工程とを備えており、脱酸素処理工程で材料中の酸素濃度を２０００ｐｐｍ以下とする。 - 特許庁
  • For example, the arithmetic processor uses output data in a process B [3] by transferring output data of a process A [2] that is the process A performed between the timings T2, T3, to the process B in the timing T3.
    例えば、タイミングＴ_2及びＴ_3間に行われたプロセスＡであるプロセスＡ［２］の出力データを、タイミングＴ_3においてプロセスＢに渡すことでプロセスＢ［３］の中で該出力データを利用する。 - 特許庁
  • The process for forming the primary material of the panel and the process for mending the concavity are performed in a factory, and at least a part of the curing process is performed in a transportation process of conveyance from the factory to the construction site of the building B.
    パネル一次材形成工程及び凹部補修工程を工場で行うとともに、養生工程の少なくとも一部を工場から建物Ｂの現場に搬送する搬送過程で行う。 - 特許庁
  • To reduce the variation of a device characteristic before and after a packaging process in a semiconductor device resin-sealed in a wafer level through rewiring layer formation process, metal post formation process and resin sealing process.
    再配線層形成工程、メタルポスト形成工程及び樹脂封止工程を経てウェハレベルで樹脂封止される半導体装置について、パッケージング工程の前後での素子の特性変動を低減させる。 - 特許庁
  • To efficiently perform the optimization of process conditions such as a wiring process and a gate process in a short period of time by performing the dielectric constant evaluation of an interlayer film with high precision in the middle of a semiconductor manufacturing process.
    半導体製造工程途中で高精度に層間膜の誘電率評価を行うことにより、配線工程やゲート工程などのプロセス条件の最適化を効率よく短期間で行う。 - 特許庁
  • In response to a process request, an arithmetic section 260 calculates a total value Yto of a summed-up value Ysum of maximum process power values during executions in the respective chambers, and a maximum process power value Y of a requested process.
    演算部２６０は，プロセス要求に応じて，各チャンバにて実行中のプロセス最大電力値の合計値Ｙsumと要求プロセスのプロセス最大電力値Ｙとの合算値Ｙtoを算出する。 - 特許庁
  • A high pressure water jetting treatment process to remove the large dirt by jetting high pressure water against the car body 2 is carried out in a first process, and a micro bubble jetting treatment process is carried out in a second process.
    第１工程においては、高圧水を車体２に噴射して大きなゴミを除去する高圧水噴射処理工程を行い、第２工程において、マイクロバブル噴射処理工程を行う。 - 特許庁
  • The manufacturing method of the organic EL element has a pretreatment process comprising a process holding an organic EL material in a vacuum, a process replacing gas in a film forming chamber, and a process evacuating again.
    有機ＥＬ材料を真空に保持する工程、成膜室をガス置換する工程、再度真空排気する工程とからなる前処理工程を有する有機EL素子の製造方法を提供する。 - 特許庁
  • In response to recognizing process, the method includes a process for terminating the reception, and the method further includes a process for processing the information to recognize automatically the user-written data, in response to the termination process.
    認識する工程に応じて、方法は、受信を終結させる工程を含み、終結させる工程に応じて、方法は更に、情報を処理して、ユーザ記述データを自動的に認識する工程を含む。 - 特許庁
  • An ion implantation process 110 of impurity ions, an ion implantation process 120 of Si+ ions and a heat treatment process 130 are performed in this order in a wafer treatment process 100 for an Si substrate.
    ウェハ処理工程１００では，Ｓｉ基板に対して，不純物イオンのイオン注入工程１１０とＳｉ＋イオンのイオン注入工程１２０と熱処理工程１３０とが順次行われる。 - 特許庁
  • To obtain a film quality equivalent to that when the process temperature is high even when the process temperature is low while allowing high speed and low temperature in a film deposition process, in the ALD deposition process utilizing plasma.
    プラズマを利用して行うＡＬＤ成膜処理につき、成膜プロセスの高速化と低温化とを両立させつつ、プロセス温度が低温の場合でも高温の場合と同等の膜質が得られるようにする。 - 特許庁
  • When each process name in a series of process flows or a process name and a precedent process name, just before this process name are inputted, the context of each process name is automatically analyzed, and the arrangement position/connection line of each process name is determined and displayed, in the order from the part the relation of which has become clear.
    一連のプロセスフローにおける各工程名、或いは工程名とその工程名の直前の先工程名とが入力されると、自動的に、各工程名の前後関係を解析し、前後関係が判明した部分から順に各工程名の配置位置・接続線を決定して表示していく。 - 特許庁
  • In a method of producing a foamed ceramic, which comprises the process of preparing a slurry, the process of foaming, the process of preparing a foamed slurry by adding a ceramic slurry and a curing agent, the process of forming, the process of curing, and the process of firing, a foaming agent is foamed by using spray nozzles 5a and 5b in the foaming process.
    スラリー調製工程と、発泡工程と、セラミックススラリーおよび硬化剤を添加する泡スラリー調製工程と、成形工程と、硬化工程、および、焼成工程とからなる発泡セラミックスの製造方法において、発泡工程でスプレーノズル５ａ、５ｂを使用して、起泡剤を発泡させる。 - 特許庁
  • In the method of forming an image including an electrification process, latent image forming process, toner layer forming process, developing process, transferring process and fixing process, the toner layer on a toner carrying body 55 is regulated by a toner regulating member 57 in the toner layer forming process, and the NE length is specified to ≥0.1 μm and <5.0 μm.
    帯電工程；潜像形成工程；トナー層形成工程；現像工程；転写工程；定着工程を有する画像形成方法において、トナー層形成工程において、トナー規制部材５７によってトナー担持体５５上のトナー層が規制し、ＮＥ長が０．１ｍｍ以上５．０ｍｍ未満とする。 - 特許庁
  • In the accommodation process, parts 101 are accommodated in an accommodation hole section 90.
    収容工程では、収容穴部９０内に部品１０１を収容する。 - 特許庁
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