「In process」を含む例文一覧(50000)

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  • As to an invention of a process for creating an animal, the process for creating the animal should be described in the claim step by step.
    動物の作出方法の発明においては、請求項には、作出過程を順を追って記載する。 - 特許庁
  • A process information memory 21 and a product information memory 22 read in process information 11 and product information 12.
    工程情報メモリ２１と製品情報メモリ２２は、工程情報１１と製品情報１２を読み込む。 - 特許庁
  • A fourth process acquires the test pattern closest to the test conditions in the third process among the prescribed test patterns.
    第４の工程は、所定のテストパターンのうち第３の工程のテスト条件に最も近いテストパターンを求める。 - 特許庁
  • As the decomposing process, it is preferable to adopt a process of forming cavitation in the fraction.
    特に分解工程としては、前記分画内にキャビテーションを発生させる工程を採用することが望ましい。 - 特許庁
  • To provide a process model creation system and method, and a program therefor, allowing improvement of efficiency in process modeling.
    プロセスモデリングの効率を向上させることができるプロセスモデル作成システム、方法及びそのプログラムを提供する。 - 特許庁
  • In addition, since a sealing process by liquid resin can be abolished, process simplification or cost reduction can be realized.
    更に、液状樹脂による封止工程を廃止できるので、工程の簡略化或いは低コスト化を実現できる。 - 特許庁
  • In addition, the processes to be scheduled by the process scheduler parts 101, 102 are managed by process managing parts 107, 108.
    また、プロセススケジューラ部１０１、１０２によってスケジューリングされるプロセスをプロセス管理部１０７、１０８が管理する。 - 特許庁
  • The electrophotographic device is equipped with the above electrophotographic photoreceptor and carries out a charging process in a positive electrification process.
    前記電子写真用感光体を備え、かつ、正帯電プロセスにて帯電プロセスを行う電子写真装置である。 - 特許庁
  • A second process that disposes an on-chip capacitor is performed in a region which is vacant even after the first process.
    次に、第１の過程の後も空き地となっている領域にオンチップキャパシタを配置する第２の過程を行う。 - 特許庁
  • To improve the efficiency of design by smoothly performing information cooperation in a design inspection process and a design process.
    設計検討過程、設計過程における情報の連携を円滑に図ることで設計を効率化する。 - 特許庁
  • The treatment of pizza dough with superheated steam is carried out before a baking process in the production process of a pizza crust.
    過熱水蒸気を用いたピザ生地の処理は、ピザクラストの製造工程における焼成工程前に行う。 - 特許庁
  • In the growth process, the nitride-based compound semiconductor layer is subjected to epitaxial growth on the substrate after the heating process.
    成長工程は、加熱工程の後に、基板上に窒化物系化合物半導体層をエピタキシャル成長させる。 - 特許庁
  • The concave structure can be formed in the upper layer electrode by using an existing process, which does not increase the mask process.
    この凹構造は既存の工程を利用して上層電極に形成可能で、マスクプロセスを増加することがない。 - 特許庁
  • A process concerned in a process for issuing the brochure or the like is thereby omitted or simplified.
    それによって、パンフレット等の発行過程に関わる行程を省略、または簡略化することが可能である。 - 特許庁
  • The shape of the head part is selected and determined from among the Pareto solutions derived in the process S4 (process S5).
    工程Ｓ４で導出されたパレート解の中から、先頭部の形状を選択して決定する（工程Ｓ５）。 - 特許庁
  • The transaction processing process 12 executes a transaction in response to a transaction processing request from a client process 21.
    トランザクション処理プロセス１２は、クライアントプロセス２１からのトランザクション処理要求に応じてトランザクションを実行する。 - 特許庁
  • To grasp the degree of the formation of an objective substance in a nanoparticle synthesis process by the synthesis process.
    ナノ粒子合成過程における目的物質の出来具合を合成過程から把握できるようにすること。 - 特許庁
  • The scope of the Web Services Business Process Execution Language Technical Committee is the support of process mechanisms in the following areas:
    WSBPEL（ウェブサービス・ビジネスプロセス実行言語）技術委員会の範囲は、下記の分野におけるプロセス機構のサポートにある。 - コンピューター用語辞典
  • In this section, you add a business process to the BPEL Module project.You use the IDE's BPEL Designer to configure the business process.
    この節では、ビジネスプロジェクトを BPEL モジュールプロジェクトに追加します。 IDE の BPEL デザイナを使用して、ビジネスプロセスを構成します。 - NetBeans
  • To improve a process cartridge and an image forming apparatus, in terms of the operability of a user regarding the mounting of the process cartridge into an image forming apparatus main body.
    プロセスカートリッジを画像形成装置本体に装着する際のユーザーの操作性を向上させる。 - 特許庁
  • To easily change, add and erase the processing of a process even in the middle of the processing of the process.
    プロセスの処理途中であっても、プロセスの処理の変更、追加、削除を容易に行うことを目的とする。 - 特許庁
  • The process is significantly simplified since a photo lithography method is not used in the forming process of the blast mask.
    さらに、ブラストマスクの形成工程でフォトリソグラフィー法を用いないので、工程を著しく簡略化できる。 - 特許庁
  • As a result, execution of half-tone process in a space region can be saved after a compression process.
    これによって、伸張プロセスの後に、空間領域においてハーフトーニング・プロセスを実行する手順が節約される。 - 特許庁
  • To provide a distributed process system which restrains the occurrence of abnormal process due to an increase in the communication load.
    通信負荷増加による異常処理の発生を抑える分散処理システムを提供することを目的とする。 - 特許庁
  • A plurality of shapes of head parts, which have the cross-section area distribution derived in the process S1, are made (process S2).
    工程Ｓ１で導出された断面積分布を有する先頭部の形状を複数作成する（工程Ｓ２）。 - 特許庁
  • PROCESS PAIR EXECUTION CONTROL METHOD AND PROCESS PAIR EXECUTION CONTROL PROGRAM IN FAULT TOLERANT SYSTEM, AND FAULT TOLERANT SYSTEM
    フォールトトレラントシステムにおけるプロセスペア実行制御方法、プロセスペア実行制御プログラム、及びフォールトトレラントシステム - 特許庁
  • To provide a technology which improves the process accuracy in the etching process of forming pores or trenches.
    孔または溝を形成するエッチング工程での加工精度を向上することのできる技術を提供する。 - 特許庁
  • In the sparging process, a crude tungsten carbide product (52) is obtained and fed to a water leaching process (54).
    スパージング工程により、粗の炭化タングステン生成物（５２）が得られ、それが水浸出工程（５４）に供される。 - 特許庁
  • To optimize a processing plan in an object process or a physical distribution control at high speed in a manufacturing/carrier process for processing a plurality of products in a plurality of different process routes and selecting the plurality of different process routes for each product.
    異なる複数工程経路で複数製品を処理し、且つ各製品が異なる複数工程経路を選択可能な製造・搬送プロセスにおいて、対象工程における処理計画或いは物流制御を高速に最適化できるようにする。 - 特許庁
  • If the same test process existed in the past, corresponding test conditions are stored in the test condition memory section 13, the test process is implemented, and the process history of the test conditions is stored in an implementation state memory section 15 after the completion of the test process.
    過去に同一の試験処理があれば、対応する試験条件を試験条件記憶部１３に保持させ、試験処理を実行し、試験処理終了後に、実行状況記憶部１５にこの試験条件の処理履歴を記憶する。 - 特許庁
  • The thermal deformation casing in the plastic film 4 in the process of baking the alignment film is eliminated in a peeling process P9 to peel an adhesive layer 3 and a slowly cooling process P10 of the plastic film 4, and then the film is subjected to the succeeding process.
    配向膜焼成工程Ｐ８によってプラスチックフィルム４に生じる熱変形を、粘着層３を剥離する剥離工程Ｐ９及びプラスチックフィルム４に対する徐冷工程Ｐ１０によって解消してから次工程へ進む。 - 特許庁
  • In this exhaust emission control device, a control device judges whether estimated PM accumulation quantity PMsm is not less than regeneration process start value PMst in process of step S11, and turns on start delay operation of regeneration process in process of step S12 if the judgment result is affirmative.
    制御装置は、ステップＳ１１の処理にて推定ＰＭ堆積量ＰＭｓｍが再生処理開始値ＰＭｓｔ以上であるかを判定し、この判定結果が肯定の場合にステップＳ１２の処理にて再生処理の開始遅延操作をオンにする。 - 特許庁
  • The processing method of semiconductor silicon wafer comprises a polishing process for polishing the surface of semiconductor wafer to the mirror-surface, an evaluation process for evaluating the flatness of a semiconductor wafer polished in the polishing process, an etching process for etching semiconductor wafer determined as defective in the flatness in the evaluation process using an alkali solution, and a re-polishing process for re-polishing the semiconductor wafer which etched in the etching process.
    半導体ウェーハの表面を鏡面研磨する研磨工程と、この研磨工程において研磨された半導体ウェーハの平坦度を評価する評価工程と、この評価工程により平坦度が不良と判定された半導体ウェーハをアルカリ溶液でエッチングするエッチング工程と、このエッチング工程によりエッチングされた半導体ウェーハを再研磨する再研磨工程とを有する半導体ウェーハの加工方法。 - 特許庁
  • This method is the image forming method which includes an electrifying process, an electrostatic latent image forming process, a developing process, a transferring process, a fixing process and a cleaning process and the method is characterized in that the residual toner which is recovered in the cleaning process is reused as the recycled toner and the percentage of the recycle toner in the whole quantity of supply toner to be supplied in developer is ≥15 mass %.
    帯電工程、静電潜像形成工程、現像工程、転写工程、定着工程、及びクリーニング工程を含む画像形成方法であって、前記クリーニング工程で回収された残留トナーをリサイクルトナーとして再使用し、かつ、前記現像剤に補給される補給トナー全量中の前記リサイクルトナーの割合が、１５質量％以上であることを特徴とする画像形成方法である。 - 特許庁
  • In a second exposure process, the second divided pattern portion 20C is doubly exposed to an exposure region, which has been exposed in the first exposure process.
    第二露光工程において、第一露光工程で露光された露光領域に第二分割パターン部２０Ｃが二重露光される。 - 特許庁
  • METHOD AND DEVICE FOR CONTROLLING BLADDER OUTSIDE DIAMETER IN TIRE PRODUCTION PROCESS
    タイヤ製造工程におけるブラダー外径制御方法及びその装置 - 特許庁
  • In a secondary mixing process, the mixture is extracted from the media type mill in the primary mixing process and transferred to a second mixer separately prepared.
    二次混合工程では、一次混合工程の媒体式粉砕機から混合物を取り出し、別途用意した第２の混合機に移す。 - 特許庁
  • METHOD AND DEVICE FOR RETRIEVING BOTTLENECK PRODUCTION PROCESS IN PRODUCTION LINE
    生産ライン内のボトルネック生産工程を探索する方法と装置 - 特許庁
  • In particular, a stable plasma can be obtained within two process regions.
    特に、安定なプラズマは2つの処理領域内で得ることが出来る。 - 特許庁
  • In the etching process, the wafer W is rotated by about 1500 rpm and the rinsing process is performed in the state of keeping this rotation speed.
    エッチング工程では、ウエハＷは約１５００ｒｐｍで回転され、この回転速度を保持した状態でリンス工程が行われる。 - 特許庁
  • As a result, an increase in the number of process is suppressed and the cost-up is avoided.
    その結果、工程数の増加を抑え、コストアップを回避できる。 - 特許庁
  • GAS PURIFICATION PROCESS AND ABSORBENT SOLUTION USED IN THE SAME
    ガスを精製する方法及びその精製に用いられる吸収液 - 特許庁
  • METHOD FOR RECOVERING SILICON COMPONENT IN STEREOSELECTIVE SYNTHESIS PROCESS
    立体選択的合成プロセスにおけるケイ素成分の回収方法 - 特許庁
  • To provide a noise reduction circuit in a signal process of a digital camera.
    デジタルカメラの信号処理におけるノイズ軽減回路を提供する。 - 特許庁
  • To prevent unevenness of polished amount of CMP in device-element isolation process.
    素子分離工程におけるＣＭＰ研磨量むらを抑制する。 - 特許庁
  • In the step 100, repeated extruding process is executed by a minidesk, and in the step 102, a positioning process of a player is executed by an elevator mechanism.
    ステップ１００でミニディスクの再度押し出し処理を行い、ステップ１０２でエレベータ機構によりプレーヤの位置決め処理を行う。 - 特許庁
  • Finally, in a process 3, inks and various coating agents are dried.
    最後に、工程３において、インキや各種塗布剤を乾燥させる。 - 特許庁
  • When the utilization of bath water is not set in the rinsing process, the dehydrating/rinsing is executed in the first rinsing process (Step 29).
    すすぎ工程時に風呂水利用が設定されていない場合には、第１すすぎ工程で脱水すすぎが実行される（ステップＳ２９）。 - 特許庁
  • To automate a drying process of plated parts or to save labor in the drying process and to dry the plated parts to which barrel plating is applied in lines.
    メッキ部品の乾燥工程を自動化または省力化し、バレルメッキされたメッキ部品をインラインで乾燥させることを可能にする。 - 特許庁
  • To provide a sheet for fumigation easy to handle in fumigation process, decomposed after fumigation process by burying in a soil.
    薫蒸処理中には取り扱いが容易であり、薫蒸処理後は土壌中に埋めることによって、分解される薫蒸用シートを得ること。 - 特許庁
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