Then the mask material pattern and resist pattern are used as a mask to process the substrate. そして、マスク材パターンとレジストパターンをマスクに基板を加工する。 - 特許庁
PATTERN GENERATOR AND SEMICONDUCTOR TESTING DEVICE EQUIPPED WITH PATTERN GENERATOR パターン発生器及びパターン発生器を備えた半導体試験装置 - 特許庁
RESIN COMPOSITION FOR FORMING FINE PATTERN AND METHOD FOR FORMING FINE PATTERN 微細パターン形成用樹脂組成物及び微細パターン形成方法 - 特許庁
CIRCUIT BOARD EQUIPPED WITH RADIATION PATTERN AND RADIATION PATTERN FORMING METHOD 放熱パターンを備えた回路基板及び放熱パターン形成方法 - 特許庁
METHOD FOR FORMING PSEUDO-PATTERN AND PILLAR-LIKE ARTICLE PROVIDED WITH PSEUDO-PATTERN 擬似模様の形成方法および擬似模様を付した柱状物 - 特許庁
PATTERN TRANSFER PAPER, OVERCOATING PAPER, PATTERN TRANSFER METHOD, AND OVERCOATING METHOD 絵柄転写紙、オーバーコート紙、絵柄転写方法およびオーバーコート方法 - 特許庁
COMPOSITION FOR COATING PHOTORESIST PATTERN フォトレジストパターンコーティング用組成物 - 特許庁
IRREGULARITY INSPECTION DEVICE OF CYCLIC PATTERN AND CYCLIC PATTERN IMAGING METHOD 周期性パターンムラ検査装置および周期性パターン撮像方法 - 特許庁
PATTERN INSPECTION APPARATUS, IMAGE DISPLAY APPARATUS, PATTERN INSPECTION METHOD AND PROGRAM パターン検査装置、画像表示装置、パターン検査方法およびプログラム - 特許庁
Pattern development processing is terminated when the generated pattern exceeds memory capacity and a combination pattern stored in the pattern memory is sorted by using amounts. メモリ容量を超える場合にはパターン展開処理を終了し、パターンメモリ23に格納した合算パターンを、金額を用いてソートする。 - 特許庁
PATTERN PLATING METHOD FOR GLASS SUBSTRATE SURFACE AND PATTERN PLATED GLASS SUBSTRATE ガラス基板表面のパターンメッキ方法及びパターンメッキしたガラス基板 - 特許庁
A Young fringe pattern was superimposed on the main pattern of the diffractograms.
ヤング縞パターンが、ディフラクトグラムの主なパターンの上に重ね焼きされた。 - 科学技術論文動詞集
PREPARATION OF PAPER PATTERN FOR OUTERWEAR 上着用型紙の作成方法 - 特許庁
METHOD FOR DETECTING SIGNAL PATTERN, SIGNAL PATTERN DETECTION DEVICE, SIGNAL PATTERN DETECTION PROGRAM, AND RECORDING MEDIUM 信号パターン検出方法、信号パターン検出装置、信号パターン検出プログラム、および記録媒体 - 特許庁
TRAVEL PATTERN INFORMATION ACQUISITION DEVICE, TRAVEL PATTERN INFORMATION ACQUISITION METHOD, AND TRAVEL PATTERN INFORMATION ACQUISITION PROGRAM 走行パターン情報取得装置、走行パターン情報取得方法および走行パターン情報取得プログラム - 特許庁
PATTERN DISTORTION CORRECTING DEVICE, PATTERN DISTORTION CORRECTING METHOD AND RECORDING MEDIUM RECORDED WITH PATTERN DISTORTION CORRECTING PROGRAM パターン歪み補正装置、パターン歪み補正方法、およびパターン歪み補正プログラムを記録した記録媒体 - 特許庁
MATERIAL PATTERN, MOLD, METAL THIN-FILM PATTERN, METAL PATTERN USING THE SAME, AND METHOD OF FORMING THE SAME 物質のパターン、それを利用した金型、金属薄膜パターン、金属パターン、および、それらの形成方法 - 特許庁
At a first special pattern display device 70, the first special pattern is displayed in the form of pattern variation. 第1特別図柄表示装置70には、第1特別図柄が図柄変動のかたりで表示される。 - 特許庁
To provide a pattern forming device and a pattern forming method capable of inexpensively forming a pattern on a substrate. 基板にパターンを安価に形成できるパターン形成装置及びパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁
A pattern data processing section divides pattern data according to predetermined drawing patterns to produce division pattern data. パターンデータ処理部は、所定の描画パターンに応じたパターンデータを分割し、分割パターンデータを生成する。 - 特許庁
PATTERN FORMING METHOD, PATTERN VERIFICATION METHOD, PATTERN FORMING-VERIFICATION PROGRAM, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE パターン作成方法、パターン検証方法、パターン作成・検証プログラム、および半導体装置の製造方法 - 特許庁
The driving pattern arrangement part 103 arranges a driving pattern to a space based on the driving pattern information. 運転パターン配置部103は、運転パターン情報に基づいて空間に運転パターンを配置する。 - 特許庁
PATTERN RECOGNITION APPARATUS, PATTERN RECOGNITION METHOD, PATTERN RECOGNITION PROGRAM, AND RECORDING MEDIUM WHICH RECORDS THE SAME PROGRAM パターン認識装置、パターン認識方法、パターン認識プログラムおよびそのプログラムを記録した記録媒体 - 特許庁
METHOD FOR CORRECTING MASK PATTERN, MASK PATTERN CORRECTION DEVICE, CIRCUIT DESIGN DEVICE, AND PROGRAM FOR CORRECTING MASK PATTERN マスクパターンの補正方法、マスクパターンの補正装置、回路設計装置及びマスクパターンを補正するプログラム - 特許庁
To suppress the pattern thinning and pattern collapsing of a resist pattern, by suppressing the applied shocks of developers to a resist surface. レジスト面への現像液の衝撃を抑制して、レジストパターンのパターン細りやパターン崩れを抑制する。 - 特許庁
A pattern totalizing part 105 totalizes the pattern recorded by the pattern recording part 104 for each retrieval keyword. パターン集計部105は、検索キーワードごとに、パターン記録部104が記録したパターンを集計する。 - 特許庁
PROGRAM PATTERN ANALYZING DEVICE, PATTERN APPEARANCE STATUS INFORMATION PRODUCTION METHOD, PATTERN INFORMATION GENERATION DEVICE, AND PROGRAM プログラムパターン分析装置、パターン出現状況情報生産方法、パターン情報生成装置、およびプログラム - 特許庁
TIME SEQUENTIAL PATTERN EXTRACTION APPARATUS, TIME SEQUENTIAL PATTERN EXTRACTION PROGRAM AND TIME SEQUENTIAL PATTERN EXTRACTION METHOD 時系列パターン抽出装置、時系列パターン抽出プログラムおよび時系列パターン抽出方法 - 特許庁
MICRO-PATTERN MEASURING METHOD, MICRO-PATTERN MEASURING DEVICE AND RECORDING MEDIUM HAVING MICRO- PATTERN MEASURING PROGRAM RECORDED THEREIN 微細パターン測定方法、微細パターン測定装置及び微細パターン測定プログラムを記録した記録媒体 - 特許庁
TELOP CHARACTER PATTERN EXTRACTION PROGRAM, TELOP CHARACTER PATTERN EXTRACTION DEVICE, AND TELOP CHARACTER PATTERN EXTRACTION METHOD テロップ文字パターン抽出プログラム、テロップ文字パターン抽出装置、およびテロップ文字パターン抽出方法 - 特許庁
To effectively use a common pattern group, pointer reference to a common pattern is done from plural pattern groups. 共通パターン群を有効利用するために、複数のパターン群から共通パターンをポインタ参照する。 - 特許庁
A plurality of test pattern groups (A-E) composed of a first test pattern 101 and a second test pattern 102 are formed. 第1のテストパターン101と、第2のテストパターン102と、で構成された複数のテストパターン群(A〜E)を形成する。 - 特許庁
The pattern N1 is used as a mask to etch the pattern R1 to form a pattern R2 of the resist film (Fig.7(f)). パターンN1をマスクとしてパターンR1をエッチングし、レジスト膜のパターンR2を形成する(図7(f))。 - 特許庁
The substrate pattern is generated by combining a plurality of substrate pattern data each having at least one pattern cell. 少なくとも1つのパターンセルを有する複数の基板パターンデータを組み合わせて基板パターンを作成する。 - 特許庁
In S102, a pattern parameter for defining the shape of a virtual pattern corresponding to a target pattern is set. S102で、目標パターンに対応する仮パターンの形状を規定するためのパターンパラメータを設定する。 - 特許庁
When the striped pattern of the transparent sheet 30 is overlapped with the concentric pattern 52, a line-symmetric moire pattern is displayed. 透明シート30の縞パターンが同心円パターン52に重なると、線対称のモアレパターンが表れる。 - 特許庁
LACQUER PATTERN PRODUCTION METHOD, LACQUER PATTERN FORMED BY USING THE METHOD, AND LACQUER PATTERN DISPLAY METHOD 漆模様製造方法及びそれを使用して形成された漆模様、並びに漆模様の展示方法 - 特許庁