「Patterned」を含む例文一覧(3854)

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  • The image recorder comprises the intermediate transfer member where an ink-philic part and ink-phobic part are patterned depending on the resolution of a recording image, a means for ejecting ink to the intermediate transfer member depending on the recording image, and a means for transferring the ink, ejected from the ink ejecting means to the intermediate transfer member, to a recording medium.
    親インク部および撥インク部が、記録画像の解像度に応じてパターンニングされた中間転写体と、記録画像に応じて中間転写体にインクを吐出するインク吐出手段と、インク吐出手段から中間転写体に吐出されたインクを、被記録媒体に転写する転写手段とを有することにより、前記課題を解決する。 - 特許庁
  • (Those remains excavated in this area are considered to be produced in the first half of the early Tumulus period, constructed in about 23 square meters in 3.6 meters x 5.45 meters dimension, and also some other accompanying remains have been excavated including; an archeological feature representing a sign of a collapsed building, along with a wooden artifact in black lacquer with arc patterns; a small building measuring 1.8 meters x 1.8 meters; another 3.6 meters x 3.6 meters all-pillared building along with black lacquered, arc patterned wooden relics; it may be inferred from these artifacts that buildings of a major palace existed at this location.)
    （古墳時代前期前半の2×3間で床面積約23平方メートルの建物、家屋倒壊遺構と黒漆塗りの弧文を持つ木製品、1×1間の小家屋と2×2間の総柱建物と弧文黒漆塗木製品、纏向玉城宮跡の石碑、宮殿居館の存在が疑われる。) - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
  • The semiconductor device comprises a lower electrode 76, a capacitor dielectric film 78 formed on the lower electrode 76, an upper electrode 88 of noble metal formed on the capacitor dielectric film 78, and a film 82 containing no oxygen as a constitutive element formed on the upper electrode 88 while being patterned in the substantially same shape as the upper electrode 88.
    下部電極７６と、下部電極７６上に形成されたキャパシタ誘電体膜７８と、キャパシタ誘電体膜７８上に形成された貴金属よりなる上部電極８８と、上部電極８８上に形成され、上部電極８８とほぼ等しい形状にパターニングされ、構成元素に酸素を含まない膜８２とを有する。 - 特許庁
  • This thread 10 for preventing counterfeit is a thread to be used by making a patterned paper with the thread, and has a resin layer 12 having an optical diffraction grating or a hologram pattern 13 formed on a base material 11 composed of a resin film, and a ferromagnetic thin membrane layer 15 attached onto the resin layer 13.
    本発明の偽造防止用スレッド１０は、偽造防止用紙に抄き込んで使用するためのスレッドであって、樹脂フィルムからなる基材１１上に光回折格子またはホログラムパターン１３が形成された樹脂層１２を有し、当該樹脂層上に被着された強磁性材薄膜層１５をさらに備えることを特徴とする。 - 特許庁
  • This thread 10 for preventing counterfeit is a thread to be used by making a patterned paper with the thread, and has a roughened part 13 by an ink for forming the roughened surface, formed on a base material 11 composed of a resin film, and a ferromagnetic thin membrane layer 15 attached onto the resin film base material 11 and the roughened part 13.
    本発明の偽造防止用スレッド１０は、偽造防止用紙に抄き込んで使用するためのスレッドであって、樹脂フィルムからなる基材１１上に粗面化インクによる粗化部１３が設けられ、当該樹脂フィルム基材上および粗化部上に被着された強磁性材薄膜層１５をさらに備えることを特徴とする。 - 特許庁
  • The servo master includes: a membrane which includes a first face and a second face; a plurality of stamp areas which are formed in the first face and includes a magnetic layer patterned in a servo pattern shape which is going to perform magnetic transfer to the magnetic recording medium; and a pressure means which is formed in the second face and applies the pressure to a plurality of the stamp areas.
    第１面及び第２面を有するメンブレンと、第１面に形成されたものであり、磁気記録媒体に磁気転写しようとするサーボパターン形状にパターン化された磁性層を含む複数のスタンプ領域と、第２面に形成されたものであり、複数のスタンプ領域に圧力を加える加圧手段とを備えているサーボマスターである。 - 特許庁
  • The process for manufacturing a patterned circuit board 4 by applying a mask 3 onto a metal plate 2 and removing the non-masked part by wet etching comprises a step for previously forming a groove 2b in the center of the non-masked part on the metal plate and the wet etching is carried out after the step for forming the groove.
    金属板２上にマスク３を施して、マスクされていない部分をウェットエッチングにより除去してパターンニングされた回路基板４を製造する方法であって、前記金属板上のマスクされていない部分の中央に溝２ｂを予め形成する溝形成工程を有し、該溝形成工程後に、前記ウェットエッチングを行うことを特徴とする。 - 特許庁
  • To provide a semiconductor device and its manufacturing method wherein crack generation based on membranous stress can be induced in an appropriate position which does not have impact in the semiconductor device or the like, when at least one film is formed on a substrate and patterned and at least one device is formed, and strength of the substrate is not reduced.
    基板上に少なくとも１つの膜を形成しパターニングを行い、少なくとも１つのデバイスを形成する際に、膜の応力に基づくクラック発生を半導体デバイス等に影響の無い適切な位置で誘発させることができ、かつ基板の強度も減ずることのない半導体装置及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁
  • To provide a photosensitive resin composition and its coating film prepared by dissolving a poly(amide acid-imide) copolymer having high i-line transparency in an organic solvent to obtain a stable varnish and uniformly dissolving a diazo naphthoquinone photosensitive agent in the varnish, and to provide a finely patterned polyimide film obtained from the above coating film, and a production method of the film.
    本発明は高いｉ線透明性を有するポリ（アミド酸−イミド）共重合体を有機溶媒に溶解して得られる安定なワニスにジアゾナフトキノン系感光剤を均一に溶解して成る感光性樹脂組成物とその塗膜、および該塗膜より得られる、微細パターン化されたポリイミド膜およびその製造方法を提供するものである。 - 特許庁
  • In the method for manufacturing the microstructure array, a thermoplastic resin material 2 is applied to a substrate 1 in a desired patterning shape corresponding to the arrangement of a desired microstructure array, the patterned thermoplastic material layer 2 is deformed in a discrete state by heat treatment, and a continuous film 3 is formed on the deformed surface of the thermoplastic material layer 2 and the substrate 1.
    マイクロ構造体アレイの作製方法において、基板1上に熱可塑材料層2を所望のマイクロ構造体アレイの配列に応じて所望の形状でパターニングし、離散状態においてパターニングした熱可塑材料層2を熱処理にて変形させ、変形した熱可塑材料層2面及び基板2上に連続膜3を形成する。 - 特許庁
  • In the cell array substrate having cell-adhesiveness variation pattern that comprises regions having good cell adhesiveness and regions having inhibited cell adhesiveness patterned on a substrate and having a water contact angle of 10 to 40° at the good cell adhesiveness regions, and cells are adhered to the good cell adhesiveness region.
    基材上に細胞接着性良好領域と細胞接着性阻害領域がパターン化された細胞接着性変化パターンを有し、該細胞接着性良好領域の水接触角が１０〜４０°である細胞配列用基材において、該細胞接着性変化パターンの細胞接着性良好領域に細胞が接着された細胞接着基材。 - 特許庁
  • The method has wettability improving treatment ST 5 and ST 7 which improve the wettability of a patterned substrate 1 to be treated with respect to the liquid materials 11, 12 and 13 by bringing the substrate 1 into contact with water 4 prepared by dissolving gaseous ozone into pure water when coating the liquid materials and film deposition treatment ST 6 and ST 8 which deposit the film of the liquid materials after the wettability improving treatment.
    液体材料１１，１２，１３を塗布する際に、パターニングされた被処理基板１を純水にオゾンガスを溶解させた水４に接触させて、基板１の液体材料に対する濡れ性を向上させる濡れ性向上処理ＳＴ５，ＳＴ７と、濡れ性向上処理後に液体材料を成膜する成膜処理ＳＴ６，ＳＴ８とを有する。 - 特許庁
  • A lithography projection apparatus is provided with a substrate holder for supporting at least one substrate, a patternizing means for patterning a projection beam according to a desired pattern, and at least one vacuum chamber including a projection means for projecting the above patterned projection beam at the target portion of the above substrate.
    本発明は、さらに、少なくとも１つの基板を保持するための基板ホルダと、所望のパターンに従って投影ビームをパターン化するためのパターン化手段と、前記パターン化された投影ビームを前記基板の目標部分に投影するための投影手段とを含む少なくとも１つの真空チャンバを備えるリソグラフィ投影装置を提供する。 - 特許庁
  • To provide a radiation-sensitive composition having high radiation sensitivity and such a development margin as to form a good pattern shape even by development for over an optimum developing time in a developing step, the composition easily forming a patterned thin film excellent in adhesion and being suitable for forming an interlayer dielectric or microlenses.
    高い感放射線感度を有し、現像工程において最適現像時間を越えてもなお良好なパターン形状を形成できるような現像マージンを有し、密着性に優れたパターン状薄膜を容易に形成することができる、層間絶縁膜またはマイクロレンズの形成に好適な感放射線性組成物を提供すること。 - 特許庁
  • An architecture and method of fabrication for an integrated circuit having a reinforced bond pad 241 comprises at least one portion of the integrated circuit disposed under the bond pad 241; and this at least one circuit portion comprises at least one dielectric layer and a patterned electrically conductive reinforcing structure disposed in this at least one dielectric layer.
    補強されたボンドパッド２４１を有する集積回路のための構造と製作方法がボンドパッド２４１の下に配置される集積回路の少なくとも１つの部分を含み、この少なくとも１つの回路部分が少なくとも１つの誘電層とこの少なくとも１つの誘電層に配置されるパターン形成された電導性補強構造とを含んでいる。 - 特許庁
  • This method includes a first process in which Al or a material layer primarily composed of Al is patterned and a prescribed pattern wiring is formed, and a second process in which a photoresist 100, having a prescribed size of aperture on the wiring is formed and a prescribed area of the wiring is etched with an etching solution including at least nitric acid.
    ＡｌまたはＡｌを主成分とする材料層をパターニングして所定のパターンの配線を形成する第１の工程と、上記配線上に所定の大きさの開口を有するマスク用フォトレジスト１００を形成して、上記配線の所定の領域を少なくとも硝酸を含むエッチング液でエッチングする第２の工程とを含む。 - 特許庁
  • Besides, since the inter-layer insulating film 6 is formed between the respective terminals as well, even when etching is performed for the etching time for the ITO formed on the inter-layer insulating film 6, no ITO is left between the terminals, the ITO can be patterned through one time of resist pattern forming process and etching process, and the occurrence of a leak defect between terminals can be prevented.
    また、各端子間にも層間絶縁膜６が形成されているため、層間絶縁膜６上に形成されたＩＴＯに対するエッチング時間でエッチングを行っても端子間にＩＴＯが残ることなく、一回のレジストパターン形成工程及びエッチング工程でＩＴＯのパターン形成を行うことができ、端子間のリーク不良の発生を防止できる。 - 特許庁
  • To provide an organic glass film containing a copolymer of a diallyl carbonate compound and an acid-decomposable allyl carbonate compound and/or an acid-decomposable acrylic ester compound (particularly a monomer forming a hydrophilic group by acid decomposition) and a compound which generates an acid under electron beams and to provide a method for producing a patterned film by patterning the organic glass film with electron beams.
    ジアリルカーボネート化合物と、酸で分解するアリルカーボネート化合物又は／及び酸で分解するアクリル酸エステル化合物（特に、酸により分解し親水性基を生じるモノマー）との共重合体、並びに電子線で酸を発生する化合物を含む有機ガラス膜に関し、又その膜の電子ビームによるパターン形成を行い、パターン形成された膜を作製する方法に関する。 - 特許庁
  • A previously patterned groove shape is formed along the cleavage direction of the ground substrate in the rear surface of the ground substrate so as to cross the whole surface of the ground substrate.
    ＩＩＩ族窒化物半導体自立基板の製造方法が、下地基板上にＩＩＩ族窒化物半導体層を気相成長させる工程と、前記ＩＩＩ族窒化物半導体層から下地基板を除去する工程とを含み、前記下地基板の裏面には下地基板の劈開方向に沿って、前記下地基板全面を横断する様に、予めパターン化した溝形状が形成されている。 - 特許庁
  • A plurality of switch circuits 19 for turning on/off ultrasonic signals exchanged with a plurality of ultrasonic vibrators 17 formed by using a semiconductor substrate 21 are formed on the semiconductor substrate 21 on which the ultrasonic vibrators 17 are formed, and connection wiring between the switch circuits 19 and the ultrasonic vibrators 17b are patterned by semiconductor production technology.
    半導体基板２１を用いて形成された複数の超音波振動子１７との間で送受する超音波信号をオン・オフする複数のスイッチ回路１９を、超音波振動子１７が形成された半導体基板２１上に形成し、スイッチ回路１９と超音波振動子１７の接続配線を半導体製造技術によってパターン形成することを特徴とする。 - 特許庁
  • The method includes steps of depositing a hard mask on a substrate in a first processing chamber, depositing a resist layer on the substrate, patterning the resist layer, etching the hard mask through apertures formed in the patterned resist layer in a second chamber, and etching a chromium layer through apertures formed in the hard mask in a third chamber.
    また、第１の処理チャンバにおいて基板上にハードマスクを堆積するステップと、レジスト層を該基板上に堆積するステップと、該レジスト層をパターニングするステップと、第２のチャンバにおいて該パターニング済みレジスト層上に形成されたアパーチャを介して該ハードマスクをエッチングするステップと、第３のチャンバにおいて該ハードマスクに形成されたアパーチャを介してクロム層をエッチングするステップと、を含んでいる。 - 特許庁
  • The exposure device is equipped with a lighting system for providing a projection radiation beam, a support structure which is equipped with a pattern and supports equipment functioning to impart a pattern to a section of the projection beam, a table for holding a target object, a projection system for projecting a patterned beam on the target object, and the tilt equipment for providing a tilted projection beam.
    本発明は、投影放射ビームを提供するための照明システムと、パターンを備えた、投影ビームの断面にパターンを付与するように機能する機器を支持するための支持構造と、目標対象を保持するためのテーブルと、パターン化されたビームを目標対象に投射するための投影システムと、傾斜した投影ビームを提供するための傾斜機器とを備えた露光装置に関する。 - 特許庁
  • To provide a bulky and three-dimensionally patterned basis having uneven patterns on which a number of large or small strained foams (bubble shaped parts) are scattered or aggregated and crinkling patterns surrounded with the uneven patterns, which are shaped by effectively using properties that the raw material of the basis such as cloth shrinks by a heat treatment.
    布地等素地の原材料が熱処理により収縮するという特性を上手に利用することにより賦形した、多数個の大・小粒の歪形泡（バブル形状部）が点在もしくは集合したような凹凸模様および当該凹凸模様によりできた襞状模様をもつ脹れ感のある新規な立体的模様付きの素地およびその製法を提供する。 - 特許庁
  • A system includes a magnetic recording medium having a magnetic layer with features in a discrete track configuration or a bit patterned configuration and an underlayer adjacent to the magnetic layer, the underlayer comprising a material capable of forming surface plasmon resonance; and a magnetic head having: a writer for writing to the medium; and a near-field transducer for heating the medium for thermally assisted recording.
    システムは、ディスクリートトラック構成またはビットパターン構成の特徴部を備える磁気層、および磁気層に隣接した下地層であって、表面プラズモン共鳴の形成が可能な材料を有する下地層を有する磁気記録媒体と、磁気ヘッドであって、媒体に書き込むための書込部および熱アシスト記録のために媒体を加熱する近接場トランスデューサを有する磁気ヘッドとを含む。 - 特許庁
  • A resist film is patterned precisely on a substrate, a hydrophilized film is formed in an opening of the resist film, GO (graphene oxide) is selectively and chemically bonded/fixed to only a portion of the hydrophilized film by means of the hydrophilicity of the GO and the bonded/fixed GO is deoxidized to obtain such the graphene structure that the graphene is fixed selectively to only the portion of the hydrophilized film.
    基板上にレジスト膜を精度よくパターニングし、そのレジスト膜の開口内に親水化膜を形成した後、ＧＯが親水性を有することを利用して、親水化膜の部分にのみ、ＧＯを選択的に化学的に結合させて固定化し、更にそのＧＯを還元して親水化膜の部分にのみグラフェンが選択的に固定化されたグラフェン構造体を得る。 - 特許庁
  • The shield material includes: a transparent substrate 10; a first adhesive layer 12 formed on the transparent substrate 10; a resin layer 14 formed on the first adhesive layer 12; a patterned metal layer 16a formed on the resin layer 14; and an antireflective layer 20 formed on the pattern 16a on the metal layer and the resin layer 14 via a third adhesive layer 12b.
    透明基材１０と、透明基材１０上に形成された第１の粘着層１２と、第１の粘着層１２上に形成された樹脂層１４と、樹脂層１４上にパターン化されて形成された金属層１６ａと、金属層のパターン１６ａ及び樹脂層１４の上に、第３の粘着層１２ｂを介して形成された反射防止層２０とを含む。 - 特許庁
  • In a region in which a coverage of an active region where a gate electrode 14 is formed is ≥50% and an area thereof is ≥0.02 mm^2, carbon 15 is introduced into a polycrystalline silicon film 14' and then phosphorus 16 is introduced into the polycrystalline silicon film 14', which is patterned to form the gate electrode 14 on a gate insulating film 13.
    ゲート電極１４が形成されたアクティブ領域による被覆率が５０％以上かつその面積が０．０２ｍｍ^２以上の領域において、多結晶シリコン膜１４´に炭素１５を導入してから、多結晶シリコン膜１４´にリン１６を導入し、多結晶シリコン膜１４´をパターニングすることにより、ゲート絶縁膜１３上にゲート電極１４を形成する。 - 特許庁
  • The test strip 100 additionally has a second electrically conductive layer 120 including a second working electrode disposed above the second patterned spacer layer, a second insulating layer 122 disposed above the second electrically conductive layer, a first analyte reagent layer 106 disposed on the first working electrode within the first sample-receiving chamber, and a second analyte reagent layer 118 disposed on the second working electrode within the second sample-receiving chamber.
    第二パターンスペーサー層の上に配置された第二作用電極を備える第二導電層１２０、第二導電層の上に配置された第二絶縁層１２２、第一試料受け取り室内の第一作用電極の上に配置された第一検体試薬層１０６、及び第二試料受け取り室内の第二作用電極の上に配置された第二検体試薬層１１８を有する。 - 特許庁
  • To provide a black ink composition for forming fine patterns, which can accurately form the fine patterns having a higher black degree by a relief reverse printing method, gives patterned ink films having sufficient film hardness, is excellent in adhesiveness to substrates and in solvent resistance, can repeatedly be printed, and is suitably used for shading films and color filter black matrices.
    凸版反転印刷法により高い黒色度を有する微細パターンを正確に形成することができ、そのパターン化されたインキ膜が十分な膜硬度を有し、基材への付着性、耐溶剤性に優れ、さらに繰り返し印刷することが可能な、遮光膜並びにカラーフィルターのブラックマトリクスに好適に用いられる微細パターン形成用黒色インキ組成物を提供する。 - 特許庁
  • To provide an inorganic light-emitting element and a method for manufacturing the same which attain the inorganic light-emitting element by using a patterned metal electrode in place of a transparent electrode generally used for the inorganic light-emitting element and without using the transparent electrode which requires a complicated process and a high cost, and in which the manufacturing process is simplified with reduced cost.
    無機発光素子で一般的に使用されていた透明電極の代わりにパターニングされた金属電極を使用することにより、複雑な工程と高コストを要する透明電極を使用することなく無機発光素子を実現できるようにして、製造工程が単純化されるとともにコストが低減された無機発光素子及びその製造方法を提供する。 - 特許庁
  • The semiconductor package may include: a circuit board 110 with an accommodation space formed in its inside; a semiconductor chip 120 inserted in the accommodation space of the circuit board; and an electrode pattern part 130 formed on one surface of the semiconductor chip in a patterned shape and directly brought into contact with a via part 117 of the circuit board to electrically connect them each other.
    半導体パッケージは、内側に収容空間が形成される回路基板１１０と、上記回路基板の収容空間に挿入される半導体チップ１２０と、上記半導体チップの一面にパターン状で形成され、上記回路基板のビア部１１７と直接接触され互いを電気的に連結するための電極パターン部１３０とを含むことができる。 - 特許庁
  • When balls such as solder balls are mounted on substrates 400 to be mounted, a cutting process of cutting a multiple patterning substrate 500 patterned with the plurality of substrates 400 to divide into the respective substrates 400 and electric inspection on the respective substrates 400 are performed in predetermined order, and balls are mounted only on substrates 400 determined as conforming articles through the electric inspection.
    搭載対象の基板４００に半田ボール等の球状体を搭載する際に、基板４００が複数面付けされた多面付け基板５００を切断して各基板４００に分割する切断処理、および各基板４００に対する電気的検査を所定の順序で実行し、電気的検査において良品と判別された基板４００にのみ球状体を搭載する。 - 特許庁
  • To provide a method for forming a metal oxide thin film pattern by applying a photosensitive metal-organic material precursor solution onto a substrate without using a photosensitive prepolymer resin and directly patterning a coating film layer of the applied solution by a nanoimprint system and to provide the metal oxide thin film pattern patterned directly by this forming method and a method for producing an LED element including a photonic crystal layer by using this forming method.
    本発明は、感光性プレポリマーレジンを使用せずに、感光性金属有機物前駆体溶液を基板に塗布して、ナノインプリント方式で直接パターニングする金属酸化薄膜パターンの形成方法、当該形成方法によって直接パターニングされた金属酸化薄膜パターン、および、当該形成方法によって光結晶層を含むＬＥＤ素子の製造方法を提供する。 - 特許庁
  • The wiring board includes: a base material 12 formed of an insulating resin material; a substrate layer 16 formed on a surface of the base material, comprising a material prepared by mixing metal particles 20 and a binder resin, the metal particles serving as a plating catalyst, and patterned to form a pattern corresponding to a wiring pattern; and a metal film deposited on the substrate layer by plating to form the wiring pattern 18.
    配線基板は、絶縁性を有する樹脂材料で形成された基材１２と、めっきの触媒となる金属粒子２０とバインダ樹脂とを混合した材料により基材の表面に形成され、配線パターンに対応してパターン化された下地層１６と、下地層上にめっきにより析出され配線パターン１８を形成する金属膜と、を備えている。 - 特許庁
  • The transfer member 10 includes: a base material 11; a metal film 14 that is a conductive film formed on a surface of the base material 11 and patterned into a predetermined shape so as to become an electrode 4; and a bonding film 3 that is formed so as to cover at least the conductive film, which is the metal film 14, and is capable of exhibiting adhesiveness when energy is applied thereto.
    転写体１０は、基材１１と、基材１１の表面に形成され所定の形状にパターニング加工されて電極４となるべき導電性膜である金属膜１４と、少なくとも金属膜１４となる導電性膜の部分を覆うように形成されエネルギーを付与されると接着性を発現することが可能な接合膜３と、を備えている。 - 特許庁
  • To provide a radiation-sensitive resin composition excellent in heat-resistant shape retention of an obtained resin film, having a wide temperature margin in melt flow when a patterned resin film is formed, and suitably usable also as a resist material, a laminate comprising a substrate and a resin film comprising the radiation-sensitive resin composition laminated thereon, and a method for producing the laminate.
    得られる樹脂膜の耐熱形状保持性に優れ、パターン化樹脂膜を形成する際のメルトフロー時の温度マージンが広く、しかもレジスト材としても好適に用い得る感放射線性樹脂組成物、基板とこの上に積層された前記感放射線性樹脂組成物からなる樹脂膜とからなる積層体、及び、この積層体の製造方法を提供すること。 - 特許庁
  • The color filter is characterized by comprising coloring pixels 14 disposed on a transparent substrate 10 and patterned with a plurality of colors and having a dot pattern with a number of parts where no coloring part constituting the coloring pixel exist (transparent non-coloring parts 16) formed inside at least a certain segment in the pixel in the layer thickness direction or in the layer formation direction of the coloring pixel.
    透明基板１０上に設けられた複数色パターン化されている着色画素１４中の一画素内の少なくとも一部の領域内に、着色画素の層厚み方向又は層形成面方向に着色画素を構成する着色部が存在しない部分（透明無着色部１６）を多数有する網点状パターンが形成されていることを特徴とするカラーフィルター。 - 特許庁
  • The inductor has a sheet (11) formed of a porous insulator having a front face and a rear face, a patterned conductive part (13) which is formed continuously by charging the sheet selectively with a conductive matter and can be connected to an outside and an insulation part (12) which is charged with an insulation matter in a region except for the conductive part inside the sheet.
    表面および裏面を有する多孔質絶縁体からなるシート（１１）と、前記シートに選択的に導電性物質を充填することにより連続して形成され、外部に接続可能なパターン化された導電部分（１３）と、前記シート内の前記導電部分以外の領域に絶縁物質が充填された絶縁部分（１２）とを具備することを特徴とする。 - 特許庁
  • In the method of cleaning the patterning device used for the lithographic projector, the patterning device includes the blank layer and the patterned layers of the opaque material existing on the surface of the blank layer and the PFPE liquid covering the surface is applied on the surface of the blank layer in order to form the PFPE liquid layer and at least a portion of the PFPE liquid layer is removed.
    フォトリソグラフィ投影装置に使用するパターニング・デバイスのクリーニング方法、素材層と、素材層の表面上にある不透明材料のパターン状層とを含むパターニング・デバイス、ＰＦＰＥ液層を形成するため、ＰＦＰＥ液の表面に表面を覆うＰＦＰＥ液体を塗布することと、ＰＦＰＥ液層の少なくとも一部を除去することとを含む方法。 - 特許庁
  • This electro-optical device 2 having an electro-optical layer E between a pair of facing electrodes 13 and 17 is so structured that the one-side electrode 13 within the pair of electrodes is formed on a surface of a light absorption layer 19 capable of absorbing external light; and the absorption layer 19 is patterned in accordance with the shape of the one-side electrode 13.
    対向する一対の電極１３，１７間に電気光学層Ｅを有してなる電気光学装置２において、前記一対の電極の内の一方の電極１３が、外部光を吸収可能な光吸収層１９の表面に形成されており、該光吸収層１９が前記一方の電極１３の形状に合わせてパターニングされた構成とする。 - 特許庁
  • This conditioning disc 1 adapted to be rotated around a rotary axis A and to make into contact with the outer surface of a polishing pad, is composed of a dressing plate 3 formed on a base 6 electrodeposited thereon with diamond particles which are patterned in a ring-like shape extending from a position radially separated from the rotary axis A.
    回転軸（Ａ）回りに回転させられながら、研磨パッドの表面に接触させられるコンディショニングディスク（１）であって、台金（６）の表面にダイヤモンド粒子を電着してなるドレッシングプレート（３）を具備し、前記ダイヤモンド粒子が、前記回転軸（Ａ）に対して半径方向に離れた位置から円環状に前記台金（６）に電着されているコンディショニングディスクを提供する。 - 特許庁
  • This lithography equipment comprises a radiation system, a second support for supporting a first support substrate supporting a patterning device for patterning a radiation beam, a projection system for projecting the patterned beam on the target of the substrate, and an interferometric measurement system for providing an interferometric measurement beam extending along an axis in an elongated volume of gas extending under the projection system.
    リソグラフィ装置は、放射線システム、および放射線ビームをパターン化するパターニングデバイスを支持する第一支持体基板を支持する第二支持体、パターン化したビームを基板の目標部分に投影する投影システム、および投影システムの下に延在するガスの細長いボリューム内で、軸線に沿って延在する干渉計測定ビームを提供する干渉計測定システムを含む。 - 特許庁
  • This decorative panel is constituted by bonding the decorative sheet 11 having a monochromatic or patterned substrate 11a printed thereon to the surface of a substrate 10 by an adhesive 13 and laminating and bonding at least one permeable upper layer decorative sheet 12, on which a pattern 12a is printed or not printed, to the surface of the decorative sheet 11 by an permeable adhesive 13.
    基板１０の表面に、単色若しくは絵柄の下地１１ａが印刷された化粧シート１１が接着剤１３で接着されるとともに、この化粧シート１１の表面に、絵柄１２ａが印刷された、若しくは絵柄１２ａが印刷されていない、少なくとも１枚以上の透過性上層化粧シート１２が透過性接着剤１３で積層接着されている。 - 特許庁
  • The method of manufacturing the printed wiring board incorporating the resistor element includes at least a step (a) of forming a patterned resistance layer 2 on an insulating substrate 1, and a step (b) of manufacturing the printed wiring board incorporating the resistor element by forming a wiring pattern 3 which is brought into contact with the resistance layer 2 on the insulating substrate 1.
    抵抗素子内蔵プリント配線板の製造方法において、少なくとも（ａ）絶縁性基板１上にパターニングされた抵抗層２を形成する工程、（ｂ）前記絶縁性基板上に前記抵抗層に接する配線パターン３を形成し、抵抗素子内蔵プリント配線板を作製する工程、を含むことを特徴とする抵抗素子内蔵プリント配線板の製造方法。 - 特許庁
  • A process of manufacturing a semiconductor device that comprises a step of implementing plasma-etching 250 through a patterned hardmask layer 210 located over a semiconductor substrate 225, and forming a modified layer 210a on the hardmask layer 210; and a step of removing at least a substantial portion of the modified layer 210a by performing a post plasma clean process on the modified layer 210a.
    半導体基板２２５の上に位置するパターニングされたハードマスク層２１０を通してプラズマエッチング２５０を行い、ハードマスク層２１０上に変性層２１０ａを形成する工程と、変性層２１０ａに対してポストプラズマ洗浄プロセスを行い変性層２１０ａの少なくとも実質的な部分を除去する工程とを備える、半導体装置を製造するプロセスを提供する。 - 特許庁
  • The lithography device comprises a lighting system which supplies projection beams, a structure for supporting a pattern forming unit which is so constituted that the pattern forming device gives the section of a beam a pattern, a substrate table which retains a substrate, a projection system which projects a patterned beam to a target portion on the substrate, and an adjustment system which adjusts the substrate.
    本発明のリソグラフィ装置は、放射ビームを提供する照明系と、パターン形成装置を支持する構造体であって、パターン形成装置がビームの断面にパターンを与えるように構成された構造体と、基板を保持する基板テーブルと、パターンの形成されたビームを基板のターゲット部分に投影する投影システムと、基板を調節する調節システムとを含む。 - 特許庁
  • In the method for forming rugged surface whose cross-section has nonlinear symmetric shape, the rugged surface is obtained by a process of forming energy-sensitive negative type resin composition material including polymerizable monomer or oligomer of at least one kind, a process of applying active energy rays via a mask patterned with three or more gradations and a process of performing post-heating without etching operation.
    少なくとも一種類以上の重合可能なモノマー又はオリゴマーを含有する感エネルギー性ネガ型樹脂組成物質を形成する工程、３値以上の階調パターン形成されたマスクを介して活性エネルギー線を放射する工程、エッチング操作を行うことなく後加熱する工程により得られる表面凹凸の断面形状が、非線対称である表面凹凸形成方法。 - 特許庁
  • The printed circuit board for high frequency signal transmission comprises a plurality of transmission lines patterned in the printed circuit board to transmit a high frequency signal, a number of ground line blocks that have via holes and are disposed between the transmission lines with a predetermined space in the signal transmission direction to block noise, and ground electrodes connected to the ground line block by the via holes.
    本発明の高周波信号伝送用プリント回路基板は、プリント回路基板内にパターニングされ、高周波信号を伝達する複数の伝送線路と、ビアホールを有し、前記伝送線路の間に信号伝達方向に所定の間隔で配置されてノイズを遮蔽する多数の接地線路ブロックと、前記ビアホールによって前記接地線路ブロックに接続される接地電極部とを含む。 - 特許庁
  • This manufacturing method of the wiring board includes a process for forming a plurality of patterned wiring on a substrate, a process for depositing the insulating film on the wiring, a process for arranging the wiring in environment for allowing the wiring to be subjected to etching treatment, and a process for forming a conductive layer for electrically connecting the wiring to a contact hole provided in the insulating film.
    基板上に、パターニングされた複数の配線を形成する工程と、前記配線上に絶縁膜を成膜する工程と、前記基板を、前記配線をエッチング処理する環境に配置する工程と、前記配線と、前記絶縁膜に設けたコンタクトホールを介して電気的に接続する導電層を形成する工程と、を備えた配線基板の製造方法を提供する。 - 特許庁
  • A plurality of the resin pellet materials are blended and kneaded to previously form colorless molded products of desired shapes and the colorless molded products are dyed with acidic and/or basic dyes corresponding to the end-capping agent in a single dye bath or plural dye baths whereby the objective marble-patterned multicolor-molded products are produced.
    前記樹脂ペレット材料を複数ブレンドした配合物を混練して予め所望形状の無色成形品を製造した後、その中に含まれるエンドキャッピング剤に対応する酸性染料及び／又は塩基性染料の複数染料を含む１又は複数浴染液中で無色成形品に浸染を施す各工程からなるマーブル模様の多色成形品製造方法。 - 特許庁
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