「Patterned」を含む例文一覧(3853)
＜前へ 1 2 .... 67 68 69 70 71 72 73 74 75 .... 77 78 次へ＞- Next, the high melting point metal film is patterned, thereby exposing a first area of the gate insulating film forming film, forming a metal mask 16b that covers a second area of the gate insulating film forming film, and forming a dummy metal mask 16c that covers a third area of the gate insulating film forming film.
次に、高融点金属膜をパターニングして、ゲート絶縁膜形成膜における第１の部分を露出する一方、ゲート絶縁膜形成膜における第２の部分を覆う金属マスク１６ｂを形成すると共に、ゲート絶縁膜形成膜における第３の部分を覆うダミー金属マスク１６ｃを形成する。 - 特許庁 - Thereafter, the silicon nitride layer 3 within the memory cell array area 1a that does not overlap with the sidewall core 4 or the embedded hard mask 7, and the silicon nitride layer 3 within a peripheral circuit area 1b that overlaps with a positioning monitor mark 8b are exposed by etching the silicon oxide layer 6, and then the silicon nitride layer 3 as an etched member is patterned.
その後、酸化シリコン層６をエッチングすることにより、サイドウォールコア４又は埋込ハードマスク７と重ならないメモリセルアレイ領域１ａ内の窒化シリコン層３と、目合わせモニタマーク８ｂと重なる周辺回路領域１ｂ内の窒化シリコン層３を露出させ、被エッチング部材としての窒化シリコン層３をパターニングする。 - 特許庁 - Upon forming the overclad layer, the recess 21 of the molding die 20 is filled with a photosensitive resin for forming the overclad layer, and the photosensitive resin is exposed through the molding die 20 and cured while a patterned core formed on a surface of an underclad layer is immersed in the photosensitive resin.
そして、オーバークラッド層を形成する際には、上記成形型２０の凹部２１内に、オーバークラッド層形成用の感光性樹脂を充填し、その感光性樹脂内に、アンダークラッド層の表面にパターン形成されたコアを浸した状態で、上記成形型２０を透して上記感光性樹脂を露光し硬化させる。 - 特許庁 - The above problem can be solved by using this bonding sheet for multilayered printed wiring board used by being laminated on a patterned circuit board, and in which (A) a terminal carboxylic acid urethane imide oligomer and (B) a thermosetting resin composition containing an epoxy resin are laminated on a support base film.
パターン加工された回路基板上にラミネートするためのボンディングシートであって、（Ａ）末端カルボン酸ウレタンイミドオリゴマーと、（Ｂ）エポキシ樹脂とを含有する熱硬化性樹脂組成物が、支持ベースフィルム上に積層されていることを特徴とする多層プリント配線板用ボンディグシートを用いることにより、上記の課題を解決できる。 - 特許庁 - This imprint lithography method includes: bringing an imprint template into contact with an imprintable medium provided on a substrate; and guiding actinic radiation at the imprintable medium, the actinic radiation being oriented such that it is not perpendicularly incident upon a patterned surface of the imprint template.
インプリントテンプレートを基板上に設けられたインプリント可能媒体に接触させることと、化学線をインプリント可能媒体に誘導することと、を含むインプリントリソグラフィ方法であって、化学線は、インプリントテンプレートのパターン付けされた表面に垂直に入射しないように方向付けられる、インプリントリソグラフィ方法、が開示される。 - 特許庁 - A polysilicon film is formed on the entire surface, and then is patterned with a resist film as a mask, to form a common contact section 11A stretched over the adjacent first gate electrodes 4 in a source and drain formation region, and a second gate electrode 11B on the second gate oxide film 9.
全面に形成したポリシリコン膜をレジスト膜をマスクにパターニングして、前記絶縁膜を介して隣り合う第１のゲート電極４に跨り、かつソース・ドレイン形成領域上にコンタクトする共通コンタクト部１１Ａを形成すると共に、前記第２のゲート酸化膜９上に第２のゲート電極１１Ｂを形成する。 - 特許庁 - A method is provided for manufacturing the semiconductor device having a semiconductor element 8a and a support member 6 mounted with the semiconductor element 8a, using a photosensitive adhesive which has insulating properties and adhesive properties (re-adhesive properties) for an adhered body and can be alkali-developed after being patterned through exposure and development.
本発明は、露光及び現像によってパターニングされた後に絶縁性及び被着体に対する接着性（再接着性）を有しアルカリ現像が可能な感光性接着剤を使用し、半導体素子８ａと、半導体素子８ａが搭載される支持部材６とを備える半導体装置を製造する方法に関する。 - 特許庁 - The lithographic projection apparatus comprises a radiation system for providing a projection beam of radiation having a wavelength λ_1 smaller than 50 nm, a support structure for supporting the patterning means that serves to pattern the projection beam according to a desired pattern, a substrate table for holding a substrate, and a projection system for projecting the patterned beam onto a target portion of the substrate.
５０ｎｍ未満の波長λ_1を有する放射線の投影ビームを提供する放射システムと、所望のパターンに従って投影ビームをパターン化するパターン化手段を支持する支持構造体と、基板を保持する基板テーブルと、パターン化したビームを基板の目標部分に投影する投影システムとを含む。 - 特許庁 - The lithographic apparatus is comprised of a radiation system for providing a projection beam of radiation, a first support structure for supporting patterning means which serves to pattern the projection beam according to a desired pattern, a second support structure for supporting a substrate, and a projection system for projecting the patterned beam onto a target portion of the substrate.
リソグラフィ機器は、放射投影ビームを提供する放射システムと、所望のパターンに従って投影ビームをパターン化する働きをするパターン化手段を支持する第１支持構造と、基板を支持する第２支持構造と、基板の目標部分上にパターン化されたビームを投影する投影システムとを備える。 - 特許庁 - This tooth form forming film 1 is a lid-shaped thin film having such a dimension as covering a single tooth upper face and used when forming the artificial crown for cavity treatment and the like, and is formed with delicate recessed/projecting tooth forms 2 and 3 patterned based on the shape of a real tooth continuously in the inside upper face part and an edge inside part.
虫歯治療等の人工歯冠を形成するときに使用するもので、ひとつの歯上面を覆う大きさの蓋形の薄いフィルムであって、実歯の形状を基にパターン化された繊細な凹凸歯形（２）（３）を内部上面部及び縁部内面部に連続して形成した歯形形成フィルム（１）である。 - 特許庁 - A first conductive layer containing aluminum as a major component is formed on a substrate, a second conductive layer is formed including a material different from the relevant first conductive layer on the first conductive layer, and the first and second conductive layers are patterned to form gate electrodes.
基板上にアルミニウムを主成分とする第１の導電層を形成し、前記第１の導電層上に当該第１の導電層と異なる材料からなる第２の導電層を形成し、前記第１の導電層及び前記第２の導電層をパターニングしてゲート電極を形成することを特徴とする。 - 特許庁 - A seal base material 10 is composed of: a transparent cylinder 20; a patterned sheet body 30 which has a prescribed pattern laminated on an inner peripheral surface of the cylinder 20; and a prescribed synthetic resin which is injected inside the sheet body 30; and a seal part with an engraved surface is attached to the base material 10.
透明な筒体２０と、この筒体２０の内周面に積層された所定の絵柄を有する絵柄付きシート体３０と、この絵柄付きシート体３０の内側に注入された所定の合成樹脂とから印鑑基材１０が構成され、該印鑑基材１０には、刻面を有する印鑑部が取り付けられていることにある。 - 特許庁 - To provide a method for efficiently manufacturing a high-performance electronic device including a high-density organic thin film patterned into a predetermined shape with high dimensional precision, an electronic device manufactured by the method for manufacturing an electronic device, and an electronic apparatus including the electronic device.
高い寸法精度で所定の形状にパターニングされた高密度の有機薄膜を備える高性能の電子デバイスを、効率よく製造することができる電子デバイスの製造方法、かかる電子デバイスの製造方法により製造された電子デバイス、およびかかる電子デバイスを備える電子機器を提供すること。 - 特許庁 - The manufacturing method for the circuit board includes a process for forming the adhesive layer 33 to the conductor having at least one patterend surface and bonding the patterned conductor and the board, wherein the adhesive layer 33 contains (a) an organic solvent soluble polyimide, (b) an epoxy compound and (c) a curative agent.
少なくとも片面がパターニングされた導電体に接着剤層を設け、パターニングされた導電体と基板とを貼り付ける工程を含む回路基板の製造方法であって、接着剤層が、（ａ）有機溶媒可溶性ポリイミド、（ｂ）エポキシ化合物、（ｃ）硬化剤を含有することを含む回路基板の製造方法。 - 特許庁 - This method comprises a step of processing a first wafer with two faces and providing at least one semiconductor layer patterned and made plane, on at least one face of these two faces, and a step of connecting a second wafer of monocrystal silicon to the semiconductor layer on the first wafer.
本方法は、２つの面を有する第１のウェーハを処理し、これらの２つの面の少なくとも一方の上に少なくとも１つのパターン化されて且つ平面化された半導体層を設けるステップと、単結晶シリコンの第２のウェーハを、第１のウェーハ上の半導体層に結合させるステップとを含む。 - 特許庁 - After forming a conductive layer 12a composed of chromium film or chromium alloy film for a lower electrode on an insulating substrate 11, a resist layer 9 is formed on the conductive layer 12a (fig.(a)), then the conductive layer 12a is patterned by a wet etching process, thereby, the lower electrode 12 is formed (fig.(b)).
絶縁性基板１１上に下部電極用のクロム膜若しくはクロム合金膜からなる導電性層１２ａを成膜した後、導電性層１２ａ上にレジスト層９を形成し（図１（ａ））、導電性層１２ａをウェットエッチング工程にてパターニングすることで下部電極１２を形成する（図１（ｂ））。 - 特許庁 - The visible light irradiating system is provided with a light intensity distribution forming means which patterns the light intensity distribution of the plurality of visible-light laser beams emitted from the visible-light laser sources and an imaging optical system which images the light with light intensity distribution patterned by the light intensity distribution forming means in an irradiation region on the substrate to be treated.
可視光照射系は、各可視光レーザー光源から発せられた複数の可視光レーザー光の光強度分布をパターンニングする光強度分布形成手段と、この光強度分布形成手段でパターンニングした光強度分布の光を被処理基板上の照射域に結像する結像光学系とを備える。 - 特許庁 - To provide a mask holder for laser beam machining, which when a workpiece is irradiated with laser light patterned by a mask so as to perform machining, effectively cools the mask, simultaneously prevents the deformation of the mask, and is applicable even to the mask obtained by drilling transparent patterns in an opaque substrate, and to provide a laser beam machining device using the same.
マスクによりパターン化したレーザー光を被加工物に照射して加工を行うに際し、マスクを有効に冷却すると同時に、マスクの変形を防止し、不透明基板に透光パターンを孔開け成形したマスクにも適用できるレーザー加工用マスクホルダー及びそれを用いたレーザー加工装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive resin composition having high sensitivity to radiation, having a development margin allowing formation of a preferable pattern even through development exceeding the optimum developing time in a developing process, and capable of easily forming a patterned thin film having excellent adhesiveness with a substrate.
高い感放射線感度を有し、現像工程において最適現像時間を越えて現像処理を行ってもなお良好なパターン形状を形成できるような現像マージンを有し、且つ基板との密着性に優れたパターン状薄膜を容易に形成することができる感放射線性樹脂組成物を提供すること。 - 特許庁 - To lessen dispersion in etched dimensions in a base barrier metal layer by completing with one patterning of a resist into an etching mask when an aluminum alloy wiring layer not less than 3 μm in thickness deposited on the base barrier metal layer is patterned as desired in a semiconductor device manufacturing process.
半導体装置の製造プロセスにおいて、下地バリアメタル層の上に、３μｍ以上の厚さのアルミニウム合金層が積層された積層配線層を所望のパターンに成形するにあたり、エッチングマスクとなるレジストのパターニングを１回で済ませ、下地バリアメタル層のエッチング寸法のばらつきを小さくすること。 - 特許庁 - Subsequently the cholesteric film 13 is patterned by irradiating the cholesteric film 13 with a laser beam 20 consisting essentially of a circularly polarized light component in an optical rotatory direction reverse to that of light selectively reflected by the cholesteric film 13 and removing a part of the cholesteric film 13 by partial evaporation.
次に、コレステリック膜１３に対して当該コレステリック膜１３が選択的に反射する旋光方向とは逆方向の円偏光成分を主成分として含むレーザ光２０を照射し、当該コレステリック膜１３の一部を部分的に蒸散させて取り除くことにより、コレステリック膜１３のパターニングを行う。 - 特許庁 - An insulating protective layer is formed on the surface of the layout substrate and patterned to expose a pad and then a well is formed to surround the pad.
この方法によると、まず回路パターンがレイアウトされると共に少なくとも一つの表面に少なくとも一つの導電性のピンを具えた有機レイアウト基板を提供し、このレイアウト基板の表面上に絶縁保護層を形成し、該保護層をパターン化して該パッドを露出させ、且つパッドの周囲を囲むようにウエルを形成する。 - 特許庁 - The formed film is patterned using beams, and the exposed metal surface as the result of removal of the film is plated to manufacture the printed wiring board.
金属面が露出した絶縁基板上に、（Ａ）ポリアミド酸、（Ｂ）光重合可能な基を有する化合物および（Ｃ）光重合開始剤とを含有する樹脂組成物を用いてレジスト膜を形成し、形成した膜を光線を用いてパターニングし、膜が除かれて露出した金属面上にめっきを施してプリント配線板を製造する。 - 特許庁 - Double patterned regions 11 formed by superposing the same patterns are provided on the end parts in the directions Y of two deflecting strips 63 on a mask, which is transferred contiguous to the directions Y on a responsive substrate, and a gray splicing of a gradient illuminating method is performed by an exposure scanning of triangular parts 5a and 5c on both ends of hexagonal illuminating beam 5.
感応基板上でＹ方向に隣接して転写するマスク上の二つの偏向帯６３のＹ方向端部にそれぞれ同一のパターンが重複する二重パターン領域１１を設け、六角形の照明ビーム５の両端の三角形部５ａ、５ｃの露光走査によって傾斜照明方式のgray splicing をおこなう。 - 特許庁 - The lithographic apparatus includes an illumination system which forms a beam of radiation, the pattern grant equipment which is supported by a support structure and gives a desired pattern to a cross section of the beam of radiation, a substrate holder which holds the substrate, a projection system which projects the patterned beam of radiation onto a target portion of the substrate, and a conditioned chamber.
リトグラフ装置が、放射ビームを形成する照射系と、支持構造体により支持され、放射ビームの横断面に所望パターンを付与するパターン付与装置と、基板を保持する基板保持具と、パターン付与された放射ビームを基板のターゲット箇所に投影する投影系と、調整室とを含む。 - 特許庁 - To provide a pressure-sensitive transfer tape for ornament constituted by forming a metal deposit layer on a base material tape via a demolding layer and further forming a pressure-sensitive adhesive layer so as to pattern patterned characters, signals, pictures, patterns, halftone dots, figures and others on the same by printing and a coating film transfer tool.
基材テープ上に離型層を介して金属蒸着層が形成され、さらにその上に、印刷によりパターン化された文字、記号、絵柄、模様、網点、図形等を型取る様に感圧接着層が形成されたことを特徴とする装飾用感圧転写テープ及び塗膜転写具を提供する。 - 特許庁 - The metallic film patterns 22 are patterned and formed so as to extend in the central direction of the IC chip 19 beyond the bumps 23, by which the metallic film patterns 22 of the portions having a sufficient width and thickness may be conducted and connected by evading the convergent parts and tapered thin portions formed at the front ends of the metallic film patterns 22.
金属膜パターン２２は、バンプ２３を越えてＩＣチップ１９の中心方向へ延びるようにパターン形成され、これにより、金属膜パターン２２の先端に形成される先細り部やテーパ状薄肉部分を避けて幅及び厚さの十分な部分の金属膜パターン２２をバンプ２３に導電接続させることができる。 - 特許庁 - In signal processing means (transport controller 13) owned by communication control devices 10 and 20, the state transition of observation signal output from an observation device at real time is determined based on a state table in which the rhythm of life of a resident or the like is patterned to determine whether the state transition is abnormal or not.
通信制御装置１０，２０が有する信号処理手段（トランスポートコントローラ１３）において、居住者等の生活リズムをパターン化した状態テーブルに基づいて、観測装置からリアルタイムで出力される観測信号の状態遷移を判定して、状態遷移が異常であるか否かを判断する。 - 特許庁 - To provide a method for inspecting a color filter for a liquid crystal display device, with which errors in detecting shape defects are reduced without sacrificing inspection efficiency in detecting the translucent patterned shape defects such as photo-spacers, alignment control protrusions and so on formed on the color filter by using a visual inspection device for the color filter.
カラーフィルタ用の外観検査機を用いてカラーフィルタ上に形成されたフォトスペーサーや配向制御突起など半透明パターンの形状欠陥を検出する際に、検査の効率を犠牲にせず、形状欠陥の検出のエラーを減少させる液晶表示装置用カラーフィルタの検査方法を提供することを課題とする。 - 特許庁 - To uniformly bring a pattern formed surface of a mold into pressure contact with the surface to be imprinted of a magnetic recording medium over the entire surfaces for forming a pattern shape which is uniform and has excellent reliability, in a process for performing patterning of a fine shape on a discrete track medium and a patterned medium using an imprint technique.
インプリント技術を用いてディスクリートトラックメディアやパターンドメディアに微細な形状パターニングを行うプロセスにおいて、均一かつ信頼性に優れた形状パターンの形成を行うためには、モールドのパターン形成面と磁気記録媒体の被インプリント面とを全面に渡って均一に圧接することが必要である。 - 特許庁 - In the step of forming the over-cladding layer, a photosensitive resin for forming the over-cladding layer is filled in the recess 21 of the mold M, and the photosensitive resin is exposed to light through the mold M and cured with a core which is patterned on the surface of an under-cladding layer immersed in the photosensitive resin.
そして、オーバークラッド層を形成する際には、上記成形型Ｍの凹部２１内に、オーバークラッド層形成用の感光性樹脂を充填し、その感光性樹脂内に、アンダークラッド層の表面にパターン形成されたコアを浸した状態で、上記成形型Ｍを透して上記感光性樹脂を露光し硬化させる。 - 特許庁 - A translucent film comprising a laminate film comprising two or more translucent films having transmissivity spectra different from each other with respect to the wavelength range of (i) rays to (g) rays of exposure light, and a light shield film which shields the exposure light are formed on a translucent substrate in this order, and the translucent film and light shield film are each patterned.
透光性基板上に、露光光のｉ線〜ｇ線の波長帯域に対する透過率スペクトルが互いに異なる２以上の半透光膜の積層膜からなる半透光膜と、露光光を遮光する遮光膜をこの順で有し、前記半透光膜と前記遮光膜にそれぞれパターニングが施される。 - 特許庁 - Therefore, since the bubble-patterned display plate 58 with the recesses 64a and 64b of the same shapes formed at the same positions, is repeatedly produced, the plate having the same structure for expressing the predetermined mode of floating bubbles is allowed to be mass-produced, compared with a conventional method by which the bubbles are formed from an actual liquid.
このため、同じ位置に同じ形状の凹部６４ａ，６４ｂを形成した気泡模様表示プレート５８を繰り返し製造できるので、実際の液体により泡を形成していた従来方法に比して、気泡の立ち昇る一定の態様を表現し得る同じ構造のものを量産化することができる。 - 特許庁 - To provide a manufacturing device of an electrooptical device having constitution in which a film to be processed can be patterned exactly into a desired shape by supplying liquid chemicals on the film to be processed so that film thickness of the liquid becomes uniform, without repelling the supplied liquid chemicals on the film to be processed.
供給した薬液が処理対象膜上で弾かれることなく、薬液を処理対象膜上に液の膜厚が均一となるよう供給できることにより、処理対象膜を所望の形状に正確にパターニングすることができる構成を有する電気光学装置の製造装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a magnetoresistive magnetic head made correspondent to narrow tracks and a method for manufacturing the magnetic head by which the level difference in the base is eliminated when the lead head track of the magnetoresistive magnetic head is formed, and degradation in the dielectric voltage due to overetching is prevented when the magnetoresistance film is patterned by etching.
電極間隔を決定するためのホトレジストパターンを形成する時点で下地パターンの段差が大きいと、安定的な狭トラック形成が不可能となる事、磁気抵抗効果膜をエッチングでパターンニングする時のオーバーエッチングによって、下部絶縁膜の膜厚が薄くなり、絶縁耐圧が悪化する事。 - 特許庁 - In an FPC substrate 400, copper foil bonded to both faces of a base film 410 having insulating property and flexibility without a bonding layer is patterned, an input wiring 420a and an output wiring 420b are formed on the mounting face of an electronic part and a dummy wiring layer 422 on a face opposite to the mounting face.
ＦＰＣ基板４００は、絶縁性および可撓性を有するベースフィルム４１０の両面に接着層なしで接合された銅箔をパターニングして、電子部品の実装面に入力配線４２０ａおよび出力配線４２０ｂを、実装面とは反対側の面にダミー配線層４２２を、それぞれ形成したものである。 - 特許庁 - The lithographic apparatus further comprises: a substrate table WT for holding a substrate W; a projection system PL for projecting the patterned beam onto a target portion of the substrate W; and a condenser which is structured to transmit a radiation R, received from a first radiation source SO, to the illumination system IL.
この装置は、基板Ｗを保持するための基板テーブルＷＴと、パターンの形成されたビームを基板Ｗのターゲット部分に投影するための投影装置ＰＬと、第１の放射源ＳＯから受け取った放射Ｒを照明装置ＩＬへ送るように構成された集光器Ｋとをさらに有する。 - 特許庁 - When a resist layer is patterned in a prescribed shape by selective exposure with X-rays, vacuum UV, extreme-ultraviolet radiation or soft X-rays, a high molecular material obtained by extending the π electron system of an aromatic ring in an aromatic ring-containing existing resist material is used as a high molecular material constituting the resist layer.
Ｘ線、真空紫外線、極紫外線、軟Ｘ線のいずれかでレジスト層を選択的に露光して所定の形状にパターニングするに際し、レジスト層を構成する高分子材料として、芳香族環を含む既存レジスト材料における芳香族環のπ電子系をより拡張した高分子材料を用いる。 - 特許庁 - To provide a system and a method utilizing a dynamic optical system which is adjustable, possibly automatically adjustable in response to measured or detected characteristics of an illumination beam and/or patterned beam, wherein the system and method do not affect throughput during correction and/or do not disturb other optical characteristics.
補正中のスループットに影響を及ぼさない、および／または、他の光学的な特性を妨害しない、照明ビームおよび／またはパターニングビームの測定または検出された特性に応じて、調節可能、ことによると自動的に調節可能な動的な光学系を使用するシステムと方法を提供する。 - 特許庁 - In a flow field 38 in which one wall of a flow passage 36 in a flow field plate of a solid oxide fuel cell is formed, the flow field includes a flat substrate 40 having a patterned array of flow barriers 52, 64, 66 having different shapes, and the flow barrier is protruded to the inside the flow passage from the substrate.
固体酸化物燃料電池の流れフィールドプレートにある流路３６の一方の壁を形成する流れフィールド３８において、流れフィールドは、形状の異なる流れ障壁５２、６４、６６のパターン化アレイを有する平坦な基板４０を含み、流れ障壁は、基板から流路の内部へ突出する。 - 特許庁 - In a plasma nitride silicon film forming step, a plasma nitride silicon film (plasma SiN film 22) is formed on a wiring layer 19, which is a patterned metal layer located above a photodiode 12, by a plasma CVD method for setting RF power representing plasma generation energy, set on a device side, to be 700-1,500 W.
フォトダイオード１２の上方で、パターニングされた金属層である配線層１９上に、装置側で設定するプラズマ発生エネルギーを示すＲＦパワーを７００Ｗ〜１５００Ｗに設定するプラズマＣＶＤ法によりプラズマ窒化シリコン膜（プラズマＳｉＮ膜２２）を成膜するプラズマ窒化シリコン膜成膜工程を有している。 - 特許庁 - The filtering part 5 operates patterned N tap horizontal filter processing to a decoded video signal 102 decoded by the decoding part 1, and a D/A converter 6 in the poststage operates digital/analog conversion, and an analog part 7 in the final stage outputs an output video signal 103 after an analog processing process.
フィルタリング部５は復号化部１にて復号処理された復号化映像信号１０２を、パターン化されているＮタップの水平フィルタ処理を行い、後段のＤ／Ａ変換部６にてディジタル→アナログ変換を行い、最終段のアナログ部７にてアナログ処理過程を経て、出力映像信号１０３を出力する。 - 特許庁 - As a result, not only a patterned photo resist film 34 but also the slope 16a function as a mask for an ion implantation, the n-type impurity ion is not implanted into the slope 16a but implanted into a bottom face 15 and each slope 16b to 16d to form high concentration n-type impurity regions 18, 20.
すると、パターニングしたフォトレジスト膜３４だけでなく斜面１６ａについてもイオン注入用マスクとして機能し、斜面１６ａにはＮ形不純物イオンが注入されず、底面１５および各斜面１６ｂ〜１６ｄにＮ形不純物イオンが注入され、高濃度Ｎ形不純物領域１８，２０が形成される。 - 特許庁 - A p-type source/drain layer 37 is allowed to remain only at a p-type TFT region 12p by the reactive thermal CVD method via an etching stopper layer 35a, in a shape of the gate electrode 32 of a p-type TFT region 12n and a p-type TFT region 12p, and further the active layer 34 is patterned into an island shape.
ｎ型ＴＦＴ領域１２ｎと、ｐ型ＴＦＴ領域１２ｐのゲート電極３２の形状のエッチングストッパ層３５ａを介して、反応性熱ＣＶＤ法によって成膜したｐ型ソース・ドレイン層３７をｐ型ＴＦＴ領域１２ｐのみに残し、さらに活性層３４を島状にパターニングする。 - 特許庁 - In the liquid crystal display, a planarization layer covering pigment dispersion layers 14-R, 14-G, 14-B which are laminated and patterned for each of primary colors R, G, B(red, green, blue) separately and block matrices 13 is provided, and thereon a number of columnar spacer protrusions 11 having uniform dimension of protrusion and distribution are constructed with resin coating and patterning.
Ｒ，Ｇ，Ｂの各原色について別個に積層、パターニングされる顔料分散層１４−Ｒ，１４−Ｇ，１４−Ｂ、及びブラックマトリクス１３を覆う平滑化層１６を設け、この上に、樹脂の塗布及びパターニングによって、突出寸法及び分布の均一な多数の柱状スペーサ突起１１を設ける。 - 特許庁 - In order to enable the multidirectional switching by an optical waveguide device, an optical waveguide layer formed of, specially, a piezoelectric thin film 2 is so patterned and arranged as to dispose a plurality of branch parts, and the refractive index of an optical transmission medium is varied by using acoustooptic effect, etc., to perform the switching.
光導波路装置において多方向のスイッチングを可能にするもので、特に、圧電性薄膜２からなる光導波路層を複数の分岐箇所を持つようにパターニングして配設しておくようにし、音響光学効果などを利用して、光伝送媒体の屈折率を変化させ、スイッチングを行うようにしている。 - 特許庁 - To provide a flat, thin film type diaphragm for a speaker and its manufacture in which the thickness of a conductive thin film, its pattern and impedance, and the heat resistant capacity can be set to desired values in a flat diaphragm in which a patterned thin film-like coil is formed on an insulation thin film.
絶縁性薄膜上にパターン化された薄膜状のコイルを形成した平面振動板に於いて、導体薄膜の厚さと共にそのパターンとインピーダンス及び耐熱容量とを所望する形状に設定する事ができる、薄膜平面状のスピーカ用振動板とその製造方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide a coloring pigment masterbatch reduced in coloration loss more than that in the conventional, being capable of giving a patterned appearance of a low dispersion, and being capable of forming a composition giving a clearly pattern-colored molding when it is added in a small amount even to a molding material containing a filler injurious to coloration and to provide a method for producing the masterbatch.
従来以上に着色ロスが少なく、バラツキの少ない模様外観が得られ、着色性を阻害するフィラーを含む成形材料に対しても、少量添加で、明瞭な模様着色の成形品を得ることができる着色顔料マスターバッチ及びその製造方法を提供する。 - 特許庁 - The thin film 2 is patterned by: forming the thin film 2 on a substrate 1 containing a sublimable coloring matter; irradiating the substrate 1 with light; subliming the sublimable color matter with heat generated by irradiation of light; and removing the thin film 2 corresponding to the region irradiated with the light.
昇華性色素を含む基材１上に薄膜２を設け、基材１に対して光を照射し、光の照射によって生じる熱により所望領域の昇華性色素を昇華させることにより、光が照射された照射領域に対応する薄膜２を除去することにより、この薄膜２をパターニングする。 - 特許庁 - The method of forming a conductor circuit is characterized in a silicon-containing polymer layer patterned is formed on an insulation layer by using a screen printer, and then, the formed layer is brought into contact with a solution of a transition metal salt or a suspension, thereby forming a transition metal layer on the silicon-containing polymer layer.
スクリーン印刷装置を用いることにより、パターン化されたケイ素含有重合体の層を絶縁層上に形成した後、遷移金属塩の溶液あるいは懸濁液と接触させることにより、該ケイ素含有重合体層上に遷移金属層を形成することを特徴とする導体回路の形成方法。 - 特許庁
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