「Phase shift」を含む例文一覧(2649)
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位相シフトマスクブランクおよび位相シフトマスク並びに位相シフトマスクブランクの製造方法および位相シフトマスクの製造方法 - 特許庁 - METHOD FOR MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK BLANK, METHOD FOR MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK, PHASE SHIFT MASK BLANK AND PHASE SHIFT MASK
位相シフトマスクブランクの製造方法および位相シフトマスクの製造方法並びに位相シフトマスクブランクおよび位相シフトマスク - 特許庁 - PHASE SHIFT MASK BLANK, PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR TRANSFERRING PATTERN
位相シフトマスクブランク、位相シフトマスク及びパターン転写方法 - 特許庁 - HALFTONE PHASE SHIFT MASK AND HALFTONE PHASE SHIFT MASK BLANK
ハーフトーン型位相シフトマスク及びハーフトーン型位相シフトマスクブランク - 特許庁 - METHOD OF MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK, PHASE SHIFT MASK AND DEVICE
位相シフトマスクの製造方法、位相シフトマスク、および、装置 - 特許庁 - PHASE SHIFT MASK BLANK, PHASE SHIFT MASK AND PATTERN TRANSFER METHOD
位相シフトマスクブランク、位相シフトマスク及びパターン転写方法 - 特許庁 - PHASE-SHIFT MASK WITH ASSIST PHASE REGION
アシスト位相領域を有する位相シフトマスク - 特許庁 - PRODUCTION OF PHASE SHIFT MASK
位相シフトマスクの製造方法 - 特許庁 - PHASE SHIFT METHOD AND CIRCUIT
位相シフト方法および回路 - 特許庁 - ACCURATE DIGITAL PHASE SHIFT SYSTEM
正確なデジタル位相シフトシステム - 特許庁 - VARIABLE PHASE SHIFT LOCK GENERATOR
可変位相シフトクロック発生器 - 特許庁 - METHOD FOR FORMING PHASE SHIFT MASK
位相シフトマスクの形成方法 - 特許庁 - MANUFACTURING METHOD OF PHASE SHIFT MASK
位相シフトマスクの製造方法 - 特許庁 - METHOD FOR FABRICATING PHASE SHIFT MASK, AND PHASE SHIFT MASK
位相シフトマスクを製作するための方法および位相シフトマスク - 特許庁 - HALFTONE-PHASE SHIFT MASK BLANK AND THE HALFTONE-PHASE SHIFT MASK
ハーフトーン型位相シフトマスクブランク及びハーフトーン型位相シフトマスク - 特許庁 - PHASE SHIFT MASK BLANK, PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR PRODUCING THESE
位相シフトマスクブランク、位相シフトマスク及びこれらの製造方法 - 特許庁 - CHROMELESS PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR PRODUCING CHROMELESS PHASE SHIFT MASK
クロムレス位相シフトマスク及びクロムレス位相シフトマスクの製造方法 - 特許庁 - METHOD FOR DESIGNING PHASE SHIFT MASK
位相シフトマスクの設計方法 - 特許庁 - PHASE SHIFT MASK, METHOD FOR MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK AND EXPOSURE METHOD
位相シフトマスク、位相シフトマスクの製造方法及び露光方法 - 特許庁 - To provide a phase shift oscillation circuit that can arbitrarily shift a phase.
発振回路において、任意に位相シフトできるようにする。 - 特許庁 - METHOD OF REPAIRING PHASE SHIFT MASK
位相シフトマスクの修理方法 - 特許庁 - PHASE SHIFT MASK BLANK, PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME
位相シフトマスクブランク、位相シフトマスク及びこれらの製造方法 - 特許庁 - PHASE SHIFT MASK BLANK, PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR PRODUCING THE SAME
位相シフトマスクブランク、位相シフトマスク及びこれらの製造方法 - 特許庁 - METHOD FOR INSPECTION OF PHASE SHIFT MASK
位相シフトマスクの検査方法 - 特許庁 - HALF TONE TYPE PHASE SHIFT MASK BLANK AND HALF TONE TYPE PHASE SHIFT MASK
ハーフトーン型位相シフトマスクブランク及びハーフトーン型位相シフトマスク - 特許庁 - METHOD FOR DESIGNING AND MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK, AND APPARATUS FOR DESIGNING THE PHASE SHIFT MASK
位相シフトマスクの設計方法／製造方法／設計装置 - 特許庁 - PHASE SHIFT MASK BLANK AND HALF TONE TYPE PHASE SHIFT MASK BLANK, PHASE SHIFT MASK AND PATTERN TRANSFERRING METHOD
位相シフトマスクブランク、及びハーフトーン型位相シフトマスクブランクと、位相シフトマスク、及びパターン転写方法 - 特許庁 - PHASE SHIFT MASK, METHOD OF MANUFACTURING THE PHASE SHIFT MASK, AND EXPOSURE METHOD USING THE PHASE SHIFT MASK
位相シフトマスク、その位相シフトマスクの製造方法およびその位相シフトマスクを用いた露光方法 - 特許庁 - PHASE SHIFT GRATING FOR PHASE SHIFT DIFFERENTIAL PUSH-PULL TRACKING
位相シフト差動プッシュプル・トラッキングのための位相シフト回折格子 - 特許庁 - PHASE SHIFT MASK BLANK, PHASE SHIFT MASK, METHOD FOR MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK BLANK, AND METHOD FOR TRANSFERRING PATTERN
位相シフトマスクブランク、位相シフトマスク、位相シフトマスクブランクの製造方法、及びパターン転写方法 - 特許庁 - PHASE SHIFT DETECTION METHOD FOR TWO-PHASE OSCILLATOR AND PHASE SHIFT DETECTION APPARATUS THEREOF
２相発振器の位相ずれ検出方法およびその位相ずれ検出装置 - 特許庁 - PHASE SHIFT ELEMENT AND OPTICAL ELEMENT
位相差素子および光学素子 - 特許庁 - MANUFACTURING METHOD OF PHASE SHIFT RETICLE
位相シフトレチクルの製造方法 - 特許庁 - CORRECTING METHOD OF PHASE SHIFT MASK AND CORRECTING DEVICE OF PHASE SHIFT MASK
位相シフトマスクの修正方法と位相シフトマスクの修正装置 - 特許庁 - HALFTONE PHASE SHIFT MASK AND MANUFACTURING METHOD OF HALFTONE PHASE SHIFT MASK
ハーフトーン位相シフトマスク及びハーフトーン位相シフトマスクの製造方法 - 特許庁 - BLANK FOR HALFTONE TYPE PHASE SHIFT MASK AND HALFTONE TYPE PHASE SHIFT MASK
ハーフトーン型位相シフトマスク用ブランク及びハーフトーン型位相シフトマスク - 特許庁 - PHOTOMASK BLANK AND PHASE SHIFT MASK
フォトマスクブランク及び位相シフトマスク - 特許庁 - METHOD OF MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK AND METHOD OF INSPECTING PHASE SHIFT MASK
位相シフトマスクの製造方法および位相シフトマスクの検査方法 - 特許庁 - METHOD OF INSPECTING PHASE SHIFT MASK, METHOD OF MAKING PHASE SHIFT MASK AND PATTERN EXPOSURE METHOD BY PHASE SHIFT MASK
位相シフトマスクの検査方法、位相シフトマスクの作製方法、位相シフトマスクによるパターン露光方法 - 特許庁 - METHOD FOR MANUFACTURING HALFTONE PHASE SHIFT MASK BLANK, HALFTONE PHASE SHIFT MASK BLANK AND HALFTONE PHASE SHIFT MASK
ハーフトーン型位相シフトマスクブランクの製造方法、ハーフトーン型位相シフトマスクブランク及びハーフトーン型位相シフトマスク - 特許庁 - METHOD OF MANUFACTURING BLANK FOR PHASE SHIFT MASK, METHOD OF MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK AND BLANK FOR PHASE SHIFT MASK
位相シフトマスク用ブランクスの製造方法、位相シフトマスクの製造方法及び位相シフトマスク用ブランクス - 特許庁 - METHOD OF MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK, PHASE SHIFT MASK, PHASE SHIFT MASK BLANK AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE
位相シフトマスクの製造方法、位相シフトマスク、位相シフトマスクブランクス及び半導体装置の製造方法 - 特許庁 - PHOTOMASK BLANK FOR CHROMELESS PHASE SHIFT MASK, CHROMELESS PHASE SHIFT MASK, AND METHOD FOR MANUFACTURING CHROMELESS PHASE SHIFT MASK
クロムレス位相シフトマスク用フォトマスクブランク、クロムレス位相シフトマスク、及びクロムレス位相シフトマスクの製造方法 - 特許庁 - SIGNAL NON-PHASE SHIFT FEED CIRCUIT
信号無移相供給回路 - 特許庁 - PHASE SHIFT MASK FOR PREVENTING HAZE
ヘイズ防止のための位相シフトマスク - 特許庁 - PHASE SHIFT MASK BLANK, PHASE SHIFT MASK, AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME
位相シフトマスクブランクおよび位相シフトマスクならびにこれらの製造方法 - 特許庁 - PHASE SHIFT MASK BLANK AND PHASE SHIFT MASK AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME
位相シフトマスクブランク及び位相シフトマスク並びにこれらの製造方法 - 特許庁 - PHASE SHIFT MASK BLANK AND PHASE SHIFT MASK, AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME
位相シフトマスクブランク及び位相シフトマスク並びにそれらの製造方法 - 特許庁 - METHOD OF MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK BLANK, AND METHOD OF MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK
位相シフトマスクブランクの製造方法及び位相シフトマスクの製造方法 - 特許庁 - DEFECT REPAIR METHOD FOR PHASE SHIFT MASK, PHASE SHIFT MASK AND EXPOSURE METHOD
位相シフトマスクの欠陥修正方法、位相シフトマスク及び露光方法 - 特許庁
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