「Phase shift」を含む例文一覧(2649)
＜前へ 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 .... 52 53 次へ＞- PHASE SHIFT DETECTION FOR DSL AND HYPERFRAME ALIGNMENT
ＤＳＬ用の位相変化検出及びハイパーフレーム整列 - 特許庁 - To provide a phase shift mask which is capable of easily forming desired pattern shapes, a method of manufacturing the phase shift mask and an exposure method using the phase shift mask.
所望のパターン形状を容易に形成することのできる位相シフトマスク、位相シフトマスクの製造方法および位相シフトマスクを用いた露光方法を提供する。 - 特許庁 - PHASE SHIFT KEYING SIGNAL DEMODULATOR FOR DATA CARRIER DEVICE
データキャリア装置の位相偏移変調信号復調器 - 特許庁 - PHASE SHIFT AMOUNT MEASURING APPARATUS AND TRANSMITTANCE MEASURING APPARATUS
位相シフト量測定装置及び透過率測定装置 - 特許庁 - To obtain a transfer image with high resolution by enhancing a phase shift effect of a phase shift mask in irradiating a substrate with light via the phase shift mask.
光を位相シフトマスク経由で基板に照射する場合に、位相シフトマスクの位相シフト効果を向上させ、解像度の高い転写像を得ることを可能にする。 - 特許庁 - SELF ALIGNMENT TYPE PHASE SHIFT MASK AND A METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME
自己整合型位相シフトマスク及びその製造方法 - 特許庁 - PHASE SHIFT MASK AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME
位相シフトマスクおよびそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - SELF ALIGNMENT TYPE PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME
自己整合型位相シフトマスク及びその製造方法 - 特許庁 - DEVICE AND METHOD FOR INSPECTING PHASE SHIFT MASK
位相シフトマスク検査装置及び位相シフトマスク検査方法 - 特許庁 - HALF-TONE TYPE PHASE SHIFT MASK AND HOLE PATTERN FORMING METHOD
ハーフトーン型位相シフトマスク及びホールパターン形成方法 - 特許庁 - DUAL PHOTOMASK EQUIPPED WITH BINARY PATTERN AND PHASE SHIFT PATTERN
バイナリパタ—ン及び位相シフトパタ—ンを備えたデュアルフォトマスク - 特許庁 - SELF-ALIGNING PHASE SHIFT PHOTOMASK AND ITS MANUFACTURING METHOD
自己整合型位相シフトフォトマスク及びその製造方法 - 特許庁 - METHOD AND DEVICE FOR CLEANING PHASE SHIFT PHOTOMASK
位相シフトフォトマスクの洗浄方法および洗浄装置 - 特許庁 - These three phase shift regions are achieved by two times of etching steps for forming the first phase shift 430 and the second phase shift region 440.
これら３つの位相シフト領域の形成は、第１位相シフト４３０と第２位相シフト領域４４０を形成するための２回のエッチングステップによって達成される。 - 特許庁 - PHASE-SHIFT COMPENSATION DEVICE, LIQUID CRYSTAL DISPLAY DEVICE, AND PROJECTOR
位相差補償素子、液晶表示素子、及びプロジェクタ - 特許庁 - PHASE SHIFT MASK BLANK AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME
位相シフトマスクブランク及び位相シフトマスクの製造方法 - 特許庁 - This phase shift mask is formed by using the material containing Cr, Al, O and N as the phase shift material on a transparent substrate.
透明基板上に位相シフト物質としてCr、Al、OおよびNを含む物質を使用したことを特徴とする。 - 特許庁 - To provide alternating phase shift masks for multiple phase shift mask resolution levels for multiple feature classes.
多重造形クラスに対する多重位相偏移マスク解像度レベル用の交番位相偏移マスクを製作する。 - 特許庁 - To provide a halftone phase shift photomask blank, a halftone phase shift photomask, and a fabricating method thereof.
ハーフトーン型位相シフトフォトマスクブランクとハーフトーン型位相シフトフォトマスク及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁 - The phase shift region 102 has a phase shift from a light-transmitting region of the transparent substrate 100.
また、位相シフト領域１０２は、透過性基板１００の光透過領域に対して位相差を有している。 - 特許庁 - METHOD OF MANUFACTURING PHASE SHIFT PHOTOMASK, PHASE SHIFT PHOTOMASK, METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, AND SEMICONDUCTOR DEVICE
位相シフト型フォトマスクの製造方法、位相シフト型フォトマスク、半導体装置の製造方法及び半導体装置 - 特許庁 - SYSTEM, EQUIPMENT, AND METHOD FOR MASKLESS LITHOGRAPHY EMULATING BINARY, ATTENUATION PHASE SHIFT, AND ALTERNATING PHASE SHIFT MASKS
バイナリ、減衰フェーズシフトおよび交番フェーズシフトマスクをエミュレートするマスクレスリソグラフィ用のシステムおよび装置および方法 - 特許庁 - HALFTONE PHASE SHIFT MASK BLANK, ITS MANUFACTURING METHOD AND HALFTONE PHASE SHIFT MASK AND ITS MANUFACTURING METHOD
ハーフトーン型位相シフトマスクブランク及びその製造方法並びにハーフトーン型位相シフトマスク及びその製造方法 - 特許庁 - The halftone phase shift mask is provided with a phase shift part 10, formed by using a halftone phase shift film 1 which inverts the phase of transmitted light by 180°, and the phase shift part 10 has a plurality of films 2, which are arranged at prescribed intervals and do not invert the phase of the transmitted light.
透過光の位相を１８０°反転させるハーフトーン位相シフト膜１を用いて形成された位相シフト部１０を備え、上記位相シフト部１０は、所定の間隔で配置された、上記透過光の位相を反転させない複数の膜２を有することを特徴とする。 - 特許庁 - A phase shift control unit 12 controls the phase amount of a phase signal, according to the phase delay time ▵ computed by the phase difference calculating part 11.
移相制御部１２は、位相差算出部１１で演算された位相遅延時間Δに応じて位相信号の位相量を制御する。 - 特許庁 - The phase correction apparatus includes a ratio calculation circuit for calculating the ratio of the subcarrier phase shift to the phase shift average, and estimates the weight factor to calculate the average of the phase shifts on the basis of the value obtained by multiplying the weight factor by each phase shift to correct the phase.
また、位相ずれ平均値に対するサブキャリア位相ずれの比率を算出する比率算出回路を備え、重み係数を推定し、位相ずれにその重み係数を乗積した値により位相ずれの平均値を算出し、位相補正する。 - 特許庁 - To provide a halftone phase shift mask having no black defect in a light shielding layer or in a phase shift layer and no decrease in the transmittance due to gallium stain, and no change in the phase difference due to a decrease in the thickness of the phase shift layer.
遮光層及び位相シフト層の黒欠陥のない、ガリウムステインによる透過率の低下、位相シフト層の厚み低下による位相差の変化のないハーフトーン型位相シフトマスクの製造方法。 - 特許庁 - The phase shift device 70 has a plurality of phase shifters (70a, 70b...70n).
位相シフト装置７０は、複数の位相シフト器（７０ａ、７０ｂ・・・７０ｎ）を有する。 - 特許庁 - Thereafter, phase shift is performed by phase shifters 74 to 80 as required.
その後、必要に応じて位相シフト器７４〜８０によって位相シフトが行われる。 - 特許庁 - HALFTONE PHASE SHIFTING MASK BLANK, HALFTONE PHASE SHIFT MASK AND PATTERN TRANSFER METHOD
ハーフトーン型位相シフトマスク用ブランク、ハーフトーン型位相シフトマスク及びパターン転写方法 - 特許庁 - APPARATUS AND METHOD FOR HIGHLY ACCURATELY MEASURING PHASE SHIFT IN HIGH-FREQUENCY PHASE MODULATOR
高周波位相変調器における位相シフトの高精度測定装置および方法 - 特許庁 - PHASE SHIFT CIRCUIT, PHASE SHIFTING CIRCUIT USING THE SAME, OSCILLATION CIRCUIT, AND IMAGE REJECTION MIXER
位相シフト回路、それを用いた移相回路、発振回路、及びイメージリジェクションミキサ - 特許庁 - When the phase shift is detected, the phase alignment is performed by controlling the driving of the other photoreceptor drums YMCK in accordance with a maximum phase shift value.
位相ずれが検出された時には、最大位相ずれ値にあわせて他のＹＭＣＫ感光ドラムの駆動を制御して位相あわせをおこなう。 - 特許庁 - To easily and properly conduct phase correction on the basis of a phase shift amount by easily obtaining the phase shift amount between image signals in each color.
各色の画像信号間における位相ズレ量を簡易に求め、その位相ズレ量に基づいて、簡易かつ適切な位相補正を行う。 - 特許庁 - A phase difference controller 34 adjusts the phase shift amount of the phase shift part 19 to minimize the power of the output signal of the filter 32.
位相差制御部３４は、フィルタ３２の出力信号のパワーを最小化するように位相シフト部１９の位相シフト量を調整する。 - 特許庁 - A phase of a reference clock is shifted by 1/n width of a pulse width, n pieces of phase shift pulse are output, two phase shift pulses among each phase shift pulse are input, and a micro-width pulse is generated from a phase difference of both pulses.
基準クロックの位相をそのパルス幅の１／ｎ幅ずつシフトして、ｎ個の位相シフトパルスを出力し、各位相シフトパルスのうちの２つの位相シフトパルスを入力して、両者の位相差から微小幅パルスを生成する。 - 特許庁 - INSPECTION SYSTEM AND METHOD WITH MULTI-IMAGE PHASE SHIFT ANALYSIS
マルチイメージフェーズシフト解析を用いた検査システム及び方法 - 特許庁 - METHOD AND APPARATUS FOR DEFECT INSPECTION FOR PHASE SHIFT MASK
位相シフトマスクの欠陥検査方法及び欠陥検査装置 - 特許庁 - SHAPE MEASUREMENT METHOD AND MEASUREMENT DEVICE BY PHASE SHIFT METHOD
位相シフト法による形状測定方法及び測定装置 - 特許庁 - METHOD OF MANUFACTURING REFLECTION-TYPE PHASE SHIFT MASK FOR EUV LIGHT EXPOSURE
ＥＵＶ露光用反射型位相シフトマスクの製造方法 - 特許庁 - PHASE SHIFT MASK, ITS MANUFACTURING METHOD AND EXPOSURE METHOD THEREOF
位相シフトマスク及びその製造方法並びに露光方法 - 特許庁 - DEFECT-CORRECTING METHOD FOR PHASE SHIFT MASK, AND DEVICE FOR THE SAME
位相シフトマスクの欠陥修正方法およびその装置 - 特許庁 - TARGET FOR FORMING FILM AND METHOD FOR MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK BLANK
成膜用ターゲット及び位相シフトマスクブランクの製造方法 - 特許庁 - PHASE SHIFT CIRCUIT, SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT AND GYRO SENSOR SYSTEM
位相シフト回路、半導体集積回路及びジャイロセンサシステム - 特許庁 - PROGRAMMING METHOD OF PHASE SHIFT MEMORY AND WRITING DRIVER CIRCUIT
相変化メモリのプログラミング方法および書込みドライバ回路 - 特許庁 - PHASE SHIFT MASK, AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR INTEGRATED CIRCUIT
位相シフトマスクおよび半導体集積回路の製造方法 - 特許庁 - CLOCK MULTIPLICATION CIRCUIT, SOLID-STATE IMAGING DEVICE AND PHASE SHIFT CIRCUIT
クロック逓倍回路、固体撮像装置及び位相シフト回路 - 特許庁 - EMITTER-FOLLOWER CIRCUIT AND PHASE SHIFT CIRCUIT HAVING THE SAME
エミッタフォロワ回路及び同回路を有する位相シフト回路 - 特許庁 - WAVEGUIDED ALTERNATING PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME
ウェーブガイド型交互位相反転マスク及びその製造方法 - 特許庁 - PHOTOLITHOGRAPHIC LED FABRICATION USING PHASE-SHIFT MASK
位相シフトマスクを使用したフォトリソグラフィによるＬＥＤの作製 - 特許庁
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