「Phase shift」を含む例文一覧(2649)
＜前へ 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 .... 52 53 次へ＞- PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR FORMING PATTERN
位相シフトマスク及びパターン形成方法 - 特許庁 - PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR FORMING PATTERN
位相シフトマスクおよびパターン形成方法 - 特許庁 - PHASE SHIFT CALCULATION DEVICE AND POSITIONING APPARATUS
位相ずれ算出装置及び測位装置 - 特許庁 - MASK BLANK AND HALFTONE PHASE SHIFT MASK
マスクブランク及びハーフトーン型位相シフトマスク - 特許庁 - HALFTONE PHASE SHIFT MASK AND MASK BLANK
ハーフトーン型位相シフトマスク及びマスクブランク - 特許庁 - PHASE SHIFT DISTRIBUTION FEEDBACK TYPE SEMICONDUCTOR LASER
位相シフト分布帰還型半導体レーザ - 特許庁 - MANUFACTURING METHOD OF HALFTONE PHASE SHIFT PHOTOMASK
ハーフトーン位相シフトフォトマスクの製造方法 - 特許庁 - HALFTONE PHASE SHIFT MASK BLANK, HALFTONE PHASE SHIFT MASK AND PATTERN TRANSFER METHOD
ハーフトーン型位相シフトマスク用ブランク、ハーフトーン型位相シフトマスク及びパターン転写方法 - 特許庁 - BLANK FOR PHASE SHIFT MASK, PHASE SHIFT MASK, AND PATTERN TRANSFER METHOD USING THE SAME
位相シフトマスク用ブランク及び位相シフトマスク及びそれを用いたパターン転写法 - 特許庁 - BLANK FOR HALFTONE TYPE PHASE SHIFT MASK, AND METHOD FOR MANUFACTURING HALFTONE TYPE PHASE SHIFT MASK
ハーフトーン型位相シフトマスク用ブランク及びハーフトーン型位相シフトマスク製造方法 - 特許庁 - PHASE SHIFT IMAGING DEVICE, COMPONENT TRANSFER DEVICE, AND PHASE SHIFT IMAGING METHOD
位相シフト画像撮像装置、部品移載装置および位相シフト画像撮像方法 - 特許庁 - PHASE SHIFT MASK, METHOD FOR MANUFACTURING THE PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE
位相シフトマスク、位相シフトマスクの製造方法及び半導体装置の製造方法 - 特許庁 - A plurality of phase code patterns are formed by a combination of the phase shift amounts of the phase shift element array.
位相変位素子アレイの位相変位量の組み合わせにより複数の位相コードパターンを形成する。 - 特許庁 - The value of the chosen current phase shift correction is added to the previous phase shift to obtain a current phase shift.
選択された現在の位相偏移訂正値は現在の位相偏移を取得するために以前の位相偏移に加算される。 - 特許庁 - The sound adjusting console is provided with an operating knob (knob) for designating a phase shift value and a phase shift circuit for performing phase adjustment on the basis of a phase shift value designated by the operating knob.
位相シフト値を指定する操作子（摘まみ）と、操作子により指定された位相シフト値に基づいて位相調整を行う位相シフト回路と、を設ける。 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET, PHASE SHIFT MASK BLANK USING THIS SPUTTERING TARGET, AND METHOD OF MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK
スパッタターゲット、該スパッタターゲットを用いた位相シフトマスクブランク及び位相シフトマスクの製造方法 - 特許庁 - EXPOSURE METHOD AND HALFTONE PHASE SHIFT MASK
露光方法及びハーフトーン型位相シフトマスク - 特許庁 - CORRECTION METHOD FOR HALFTONE TYPE PHASE SHIFT MASK, PHASE SHIFT MASK AND MANUFACTURING METHOD THEREFOR
ハーフトーン型位相シフトマスクの修正方法及び位相シフトマスク及びその製造方法 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET, PHASE SHIFT MASK BLANK USING THE SPUTTERING TARGET AND METHOD OF MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK
スパッタターゲット、該スパッタターゲットを用いた位相シフトマスクブランク及び位相シフトマスクの製造方法 - 特許庁 - MEASUREMENT METHOD AND DEVICE BY PHASE SHIFT METHOD
位相シフト法による計測方法と装置 - 特許庁 - A non-phase shift region extends beyond the narrow phase shift portion at both sides of the structure.
非位相シフト領域は、構造の両側の狭い位相シフト部分を越えて延びる。 - 特許庁 - CORRECTION METHOD FOR PHASE SHIFT MASK, PHASE SHIFT MASK, PATTERN TRANSFER METHOD AND WAFER
位相シフトマスクの修正方法と位相シフトマスク及びパターン転写方法並びにウェハー - 特許庁 - METHOD FOR MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK, PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE
位相シフトマスクの製造方法及び位相シフトマスク並びに半導体素子の製造方法 - 特許庁 - HALFTONE PHASE SHIFT MASK BLANK, ITS MANUFACTURING METHOD AND HALFTONE PHASE SHIFT MASK
ハーフトーン型位相シフトマスク用ブランクス及びその製造方法並びにハーフトーン型位相シフトマスク - 特許庁 - PHASE SHIFT MASK USING CrAlON AS PHASE SHIFT MATERIAL AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME
ＣｒＡｌＯＮを位相シフト物質として使用した位相シフトマスクおよびその製造方法 - 特許庁 - PHASE SHIFT CONTROLLER, PHASE SHIFT METHOD, AND LIGHT-EMITTING DEVICE AND ELECTRONIC EQUIPMENT USING THOSE
位相シフトコントローラ、位相シフトの方法、およびそれらを用いた発光装置、電子機器 - 特許庁 - MANUFACTURING METHOD FOR HALFTONE TYPE PHASE SHIFT MASK
ハーフトーン型位相シフトマスクの製造方法 - 特許庁 - EAVES QUANTITY MEASURING METHOD FOR PHASE SHIFT MASK
位相シフトマスクのひさし量測定方法 - 特許庁 - METHOD FOR SETTING PHASE SHIFT AMOUNT, AND PHASE SHIFT PHOTOMASK AND METHOD FOR FABRICATING PHOTOMASK
位相シフト量設定方法、並びに、位相シフト型のフォトマスク及びその作製方法 - 特許庁 - HALFTONE PHASE SHIFT PHOTOMASK AND BLANK FOR HALFTONE PHASE SHIFT PHOTOMASK FOR PRODUCING SAME
ハーフトーン位相シフトフォトマスク及びこれを作製するためのハーフトーン位相シフトフォトマスク用ブランクス - 特許庁 - METHOD FOR MANUFACTURING TRANSMISSION TYPE PHASE SHIFT PHOTOMASK
透過型位相シフトフォトマスクの製造方法 - 特許庁 - ATTENUATING PHASE SHIFT MASK BLANK AND PHOTOMASK
減衰性移相マスクブランク及びフォトマスク - 特許庁 - PHASE SHIFT MASK HAVING THREE DIFFERENT PHASE SHIFT REGION AND METHOD FOR MANUFACTURING THE SAME
３つの異なる位相シフト領域を有する位相シフトマスクおよびその製造方法 - 特許庁 - PHASE SHIFT PHOTOMASK BLANK, PHASE SHIFT PHOTOMASK, AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE
位相シフトフォトマスクブランクス及び位相シフトフォトマスク並びに半導体装置の製造方法 - 特許庁 - To detect an excitation phase shift based on motor behavior to correct the excitation phase shift.
モータの挙動に基づいて励磁相のずれを検出し、励磁相のずれを補正する。 - 特許庁 - METHOD OF MANUFACTURING HALFTONE TYPE PHASE SHIFT MASK
ハーフトーン型位相シフトマスクの製造方法 - 特許庁 - An optimal phase shift value-setting unit 24 extracts such a phase shift offset value P_o as to minimize the antenna gain deterioration D from the gain deterioration memory 23, calculates an optimal quantization phase shift value ϕQ_opt_k with the phase shift offset value P_o as an optimal phase shift offset value P_oopt, and outputs the optimal quantization phase shift value as a phase shift setting value.
最適移相値設定手段２４は、利得劣化量メモリ２３から、アンテナ利得劣化量Ｄが最小となる移相オフセット値Ｐ_ｏを抽出し、これを最適移相オフセット値Ｐ_ooptとして最適量子化移相値φＱ_opt_kを算出し、これを移相設定値として出力する。 - 特許庁 - LINE CHANGE TYPE PHASE SHIFT UNIT AND LINE CHANGE TYPE PHASE SHIFTER
線路切換型移相ユニット及び線路切換型移相器 - 特許庁 - A phase shift part 9 shifts the second bandlimited signal 6 to the first phase shift signal 12 and the second phase shift signal 13 with a different phase for 90 degrees from the first phase shift signal.
移相部９は、第２の帯域制限信号６を第１の移相信号１２と、第１の移相信号から移相が９０度異なる第２の移相信号１３とに移相する。 - 特許庁 - HALFTONE PHASE SHIFT MASK BLANK, HALFTONE PHASE SHIFT MASK, METHOD FOR MANUFACTURING HALFTONE PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR TRANSFERRING PATTERN
ハーフトーン型位相シフトマスク用ブランク、ハーフトーン型位相シフトマスク、及びハーフトーン型位相シフトマスクの製造方法、並びにパターン転写方法 - 特許庁 - The exchange node adds the shift amount 1 to the phase difference from the high-order relay node, defines the shift amount 2, corrects the phase of the present node, adds it to the frame phase difference from the subordinate base station node and defines the shift amount 3.
交換ノードは上位の中継ノードに同期を合わせるマスタ・スレーブ方式により、フレーム位相同期を保持する。 - 特許庁 - To provide a variable phase shifter having a large amount of phase shift in output voltage and a high stability during phase shift.
出力電圧の位相変化量が大きく、位相変化時の安定度が高い可変位相器を提供する。 - 特許庁 - To achieve a phase shift amount measuring apparatus capable of further correctly measuring the phase shift amount of a phase shifter.
位相シフタの位相シフト量を一層正確に測定できる位相シフト量測定装置を実現することにある。 - 特許庁 - ACTIVE LAYER DISCRETE TYPE PHASE SHIFT DFB LASER
活性層分離型位相シフトＤＦＢレーザ - 特許庁 - SYSTEM FOR ZERO-CROSSING PSK (PHASE SHIFT KEYING) COMMUNICATION WITH BURST SIGNAL
バースト信号付ゼロクロスＰＳＫ（ＰｈａｓｅＳｈｉｆｔＫｅｙｉｎｇ）通信方式 - 特許庁 - HALFTONE TYPE PHASE SHIFT MASK WITH SHADING REGION
遮光領域つきハーフトーン型位相シフトマスク - 特許庁 - METHOD FOR DETERMINING PHASE SHIFT IN SIGNAL
信号中の位相シフトを決定する方法 - 特許庁 - The local phase shift signals are synchronized by using the clock signal to produce the phase shift signals whose phase difference is 90-degrees while suppressing a phase error of the local phase shift signals.
クロック信号でローカル移相信号の同期を取ることにより、ローカル移相信号の移相誤差を抑えて、互いに９０度の位相差を持つ移相信号が生成される。 - 特許庁 - MULTI-PHASE CLOCK GENERATION CIRCUIT, OVER-SAMPLING CIRCUIT, AND PHASE SHIFT CIRCUIT
多相クロック生成回路、オーバーサンプリング回路及び位相シフト回路 - 特許庁 - A Levenson-type phase shift mask, having different phase difference, is manufactured.
異なった位相差を持つレベンソン型位相シフトマスク２２を作成する。 - 特許庁
- 特許庁
- Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved.
