「Phase shift」を含む例文一覧(2649)
＜前へ 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 11 .... 52 53 次へ＞- METHOD OF MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK BLANK AND METHOD OF MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK
位相シフトマスクブランクの製造方法及び位相シフトマスクの製造方法 - 特許庁 - PHASE SHIFT MASK BLANK, PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR MANUFACTURING THEM
位相シフトマスクブランク及び位相シフトマスク並びにそれらの製造方法 - 特許庁 - METHOD FOR EXPOSURE AND PHASE SHIFT MASK
露光方法および位相シフトマスク - 特許庁 - In the event of a phase shift photomask, the double-sided photomask is equipped with a phase shift layer.
位相シフトマスクの場合、両面フォトマスクは位相シフト層を備える。 - 特許庁 - METHOD OF MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK BLANK AND PHASE SHIFT MASK
位相シフトマスクブランクの製造方法、及び位相シフトマスクの製造方法 - 特許庁 - BLANKS FOR HALF TONE TYPE PHASE SHIFT MASK AND HALF TONE TYPE PHASE SHIFT MASK
ハーフトーン型位相シフトマスク用ブランクス及びハーフトーン型位相シフトマスク - 特許庁 - PHOTOMASK, PHASE SHIFT MASK AND EXPOSURE APPARATUS
フォトマスク、位相シフトマスク、露光装置 - 特許庁 - PHASE SHIFT MASK BLANK, PHASE SHIFT MASK, AND METHOD FOR FABRICATING THEM
位相シフトマスクブランクおよび位相シフトマスクならびにこれらの製造方法 - 特許庁 - LITHOGRAPHY METHOD USING PHASE SHIFT MASK
位相シフトマスクを用いたリソグラフ法 - 特許庁 - PHASE-SHIFT QUANTITY CORRECTION DEVICE AND PHASE-SHIFT QUANTITY CORRECTION SYSTEM OF PHASED-ARRAY RADAR
フェイズドアレイレーダの移送量補正装置及び移送量補正システム - 特許庁 - DEFECT INSPECTION APPARATUS OF PHASE SHIFT MASK
位相シフトマスクの欠陥検査装置 - 特許庁 - DATA CORRECTING METHOD FOR PHASE SHIFT MASK
位相シフトマスク用データ補正方法 - 特許庁 - HALFTONE TYPE PHASE SHIFT MASK, BLANK FOR HALFTONE TYPE PHASE SHIFT MASK, AND PRODUCTION OF HALFTONE TYPE PHASE SHIFT MASK
ハーフトーン型位相シフトマスク、ハーフトーン型位相シフトマスク用ブランク及びハーフトーン型位相シフトマスクの製造方法 - 特許庁 - SPUTTERING TARGET, METHOD FOR PRODUCING THE SAME, PHASE SHIFT MASK BLANK AND PHASE SHIFT MASK
スパッタリングターゲット、その製造方法、位相シフトマスクブランクおよび位相シフトマスク - 特許庁 - METHOD OF MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK BLANK AND APPARATUS FOR MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK BLANK
位相シフトマスクブランクの製造方法、及び位相シフトマスクブランクの製造装置 - 特許庁 - MANUFACTURING METHOD OF PHASE SHIFT MASK BLANK AND MANUFACTURING METHOD OF PHASE SHIFT PHOTOMASK
位相シフトマスクブランクの製造方法及び位相シフトフォトマスクの製造方法 - 特許庁 - HALFTONE PHASE SHIFT MASK BLANK AND HALFTONE PHASE SHIFT MASK USING THE SAME
ハーフトーン型位相シフトマスクブランク及びそれを用いたハーフトーン型位相シフトマスク - 特許庁 - PHASE SHIFT MASK AND SEMICONDUCTOR DEVICE
移相マスクおよび半導体デバイス - 特許庁 - HALFTONE PHASE SHIFT MASK AND BLANK
ハーフトーン型位相シフトマスクおよびブランク - 特許庁 - METHOD AND DEVICE FOR MEASUREMENT OF PHASE DIFFERENCE OF PHASE SHIFT MASK
位相シフトマスクの位相差測定方法および装置 - 特許庁 - The phase shift amount of the phase shifter 22b is -π/4.
位相シフタ２２ｂの位相シフト量は−π／４である。 - 特許庁 - The 1st phase shifter 34 uses two APF 3, 4 whose phase shift is fixed to form 90-degree phase shift, while the 2nd phase shifter 35 uses an APF1 whose phase shift is fixed and an APF2 whose phase shift is adjustable to form a phase shift.
第１移相器３４は、位相量が固定の２つのＡＰＦ３、４で９０度移相を形成しているが、第２移相器３５は、位相量が固定のＡＰＦ１と位相調整できるＡＰＦ２で移相を形成する。 - 特許庁 - HALFTONE TYPE PHASE SHIFT MASK AND BLANK
ハーフトーン型位相シフトマスクおよびブランク - 特許庁 - PRODUCTION OF STRONG PHASE-SHIFT MASK
強い位相シフトマスクを製造する方法 - 特許庁 - DEFECT CORRECTION METHOD FOR PHASE SHIFT MASK
位相シフトマスクの欠陥修正方法 - 特許庁 - PHASE SHIFT MASK AND ITS DESIGN METHOD
位相シフトマスクおよびその設計方法 - 特許庁 - PHASE SHIFT MASK AND ITS MANUFACTURING METHOD
位相シフトマスク及びその製造方法 - 特許庁 - PHASE SHIFT MASK AND ITS MANUFACTURING METHOD
位相シフトマスクおよびその製造方法 - 特許庁 - PHASE SHIFT MASK AND PATTERN FORMING METHOD
位相シフトマスク及びパターン形成方法 - 特許庁 - PATTERN FORMING METHOD AND PHASE SHIFT MASK
パターン形成方法及び位相シフトマスク - 特許庁 - HALFTONE PHASE SHIFT MASK BLANK AND METHOD FOR MANUFACTURING HALFTONE PHASE SHIFT MASK
ハーフトーン型位相シフトマスクブランク及びハーフトーン型位相シフトマスクの製造方法 - 特許庁 - PHASE SHIFT MASK AND SEMICONDUCTOR DEVICE PRODUCED BY USING THIS PHASE SHIFT MASK
位相シフトマスクおよびその位相シフトマスクを用いて製造された半導体装置 - 特許庁 - HALFTONE TYPE PHASE SHIFT MASK BLANK AND METHOD OF MANUFACTURING HALFTONE TYPE PHASE SHIFT MASK BLANK
ハーフトーン型位相シフトマスクブランク、及びハーフトーン型位相シフトマスクの製造方法 - 特許庁 - METHOD FOR DETERMINING ALIGNMENT WHEN PHASE SHIFT REGION IS FORMED IN MANUFACTURE OF PHASE SHIFT MASK
位相シフトマスクの製造における位相シフト領域形成時のアライメント決 - 特許庁 - METHOD FOR PRODUCING HALFTONE PHASE SHIFT MASK BLANK, HALFTONE PHASE SHIFT MASK BLANK, HALFTONE PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR TRANSFERRING PATTERN
ハーフトーン位相シフトマスクブランクの製造方法、ハーフトーン位相シフトマスクブランク、ハーフトーン位相シフトマスク及びパターン転写方法 - 特許庁 - HALFTONE PHASE SHIFT MASK BLANK AND HALFTONE PHASE SHIFT MASK USING THE SAME
ハーフトーン型位相シフトマスク用ブランク及びそれを用いたハーフトーン型位相シフトマスク - 特許庁 - HALFTONE PHASE SHIFT MASK BLANK AND HALFTONE PHASE SHIFT MASK USING THE SAME
ハーフトーン型位相シフトマスク用ブランク、及びそれを用いたハーフトーン型位相シフトマスク - 特許庁 - METHOD FOR MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK, PHASE SHIFT MASK, AND METHOD FOR TRANSFERRING PATTERN
位相シフトマスクの製造方法及び位相シフトマスク並びにパターン転写方法 - 特許庁 - Note that the terms 'frequency shift keying' and 'phase shift keying' are effectively synonymous with frequency modulation and phase modulation.
用語「周波数変位方式」('frequency shift keying')および「位相シフトキーイング」('phase shift keying')は,事実上,周波数変調と位相変調と同義語であることに注意してください． - コンピューター用語辞典 - A phase selection section 102 selects a symbol phase at which a phase shift is minimized.
位相選択部102で、位相ズレが最小となるシンボル位相を選択する。 - 特許庁 - PRODUCTION OF PHASE SHIFT MASK AND METHOD FOR MEASURING PHASE DIFFERENCE
位相シフトマスクの製造方法および位相差測定方法 - 特許庁 - METHOD FOR MEASURING PHASE DIFFERENCE AND METHOD FOR MANUFACTURING PHASE SHIFT MASK
位相差測定方法及び位相シフトマスク製造方法 - 特許庁 - The phase-shift quantity table may be provided on each phase shifter.
移相量テーブルは移相器毎に設けてもよい。 - 特許庁 - METHOD FOR MANUFACTURING HALFTONE PHASE SHIFT MASK
ハーフトーン型位相シフトマスクの製造方法 - 特許庁 - PHASE SHIFT MASK AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME
位相シフトマスク及びその製造方法 - 特許庁 - PHASE SHIFT MASK, AND METHOD OF MANUFACTURING THE SAME
位相シフトマスク及びその製造方法 - 特許庁 - HALFTONE TYPE PHASE SHIFT MASK AND MASK BLANK
ハーフトーン型位相シフトマスク及びマスクブランク - 特許庁 - MODULATOR OF PHASE SHIFT MODULATION TYPE
位相偏移変調方式の変調器 - 特許庁 - HALFTONE PHASE SHIFT MASK BLANK AND MASK
ハーフトーン型位相シフトマスクブランク及びマスク - 特許庁 - VORTEX PHASE SHIFT MASK FOR PHOTOLITHOGRAPHY
光学リソグラフィー用ボルテックス位相シフトマスク - 特許庁
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