「Plasma processing」を含む例文一覧(3220)
＜前へ 1 2 .... 4 5 6 7 8 9 10 11 12 .... 64 65 次へ＞- UPPER ELECTRODE AND PLASMA PROCESSING APPARATUS
上部電極及びプラズマ処理装置 - 特許庁 - INSULATOR-INTERPOSED PLASMA PROCESSING APPARATUS
絶縁体介装型プラズマ処理装置 - 特許庁 - To provide a plasma processing apparatus for processing a substrate.
基板を処理するプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁 - PLASMA PROCESSING SYSTEM AND METHOD
プラズマ処理装置及びその処理方法 - 特許庁 - MATCHING DEVICE, PLASMA PROCESSING METHOD AND DEVICE
整合器、プラズマ処理方法及び装置 - 特許庁 - PLASMA GENERATOR AND WORKPIECE PROCESSING DEVICE
プラズマ発生装置及びワーク処理装置 - 特許庁 - ATMOSPHERIC PRESSURE PLASMA PROCESSING METHOD AND DEVICE
大気圧プラズマ処理方法及び装置 - 特許庁 - AGEING PROCESSING METHOD OF PLASMA DISPLAY PANEL
プラズマディスプレイパネルのエージング処理方法 - 特許庁 - To provide a gas for plasma processing capable of enhancing the plasma processing capabilities.
プラズマ処理能力を高くすることができるプラズマ処理用ガスを提供する。 - 特許庁 - STAGE STRUCTURE OF NORMAL-PRESSURE PLASMA PROCESSING APPARATUS
常圧プラズマ処理装置のステージ構造 - 特許庁 - VIDEO IMAGE PROCESSING DEVICE AND PLASMA TELEVISION
映像処理装置およびプラズマテレビジョン - 特許庁 - To provide a plasma processing device and a plasma processing method that can cool not only a wafer, but also a tray during plasma processing.
プラズマ処理中にウエハだけでなくトレイの冷却も可能なプラズマ処理装置及びプラズマ処理方法を提供する。 - 特許庁 - SUBSTRATE HOLDING MECHANISM AND PLASMA PROCESSING APPARATUS
基板保持機構及びプラズマ処理装置 - 特許庁 - TESTPIECE MOUNTING ELECTRODE FOR PLASMA PROCESSING APPARATUS
プラズマ処理装置用試料載置電極 - 特許庁 - MOVABLE GROUND RING FOR PLASMA PROCESSING CHAMBER
プラズマ処理チャンバ用の可動接地リング - 特許庁 - SLOT ARRAY ANTENNA AND PLASMA PROCESSING APPARATUS
スロットアレイアンテナおよびプラズマ処理装置 - 特許庁 - TEST PIECE INSTALLATION ELECTRODE OF PLASMA PROCESSING APPARATUS
プラズマ処理装置の試料載置電極 - 特許庁 - PLASMA PROCESSING DEVICE, AND METHOD FOR MONITORING STATE OF DISCHARGE IN PLASMA PROCESSING DEVICE
プラズマ処理装置およびプラズマ処理装置における放電状態監視方法 - 特許庁 - PLASMA PROCESSING METHOD AND DEPOSITION METHOD
プラズマ処理方法及び成膜方法 - 特許庁 - PLASMA PROCESSING APPARATUS AND METHOD
プラズマプロセス装置およびプラズマプロセス方法 - 特許庁 - PLASMA PROCESSING APPARATUS AND PRETREATMENT METHOD
プラズマ処理装置及び前処理方法 - 特許庁 - To improve plasma processing characteristics and the reproducebility of the plasma processing characteristics, and to decrease the cost of the plasma processing.
プラズマ処理特性の向上、プラズマ処理特性の再現性の向上を図るとともにプラズマ処理コストの低減する。 - 特許庁 - To provide a plasma processing device capable of executing plasma processing.
プラズマ処理を効率よく行うことができるプラズマ処理装置を提供すること。 - 特許庁 - EVACUATING STRUCTURE FOR ATMOSPHERIC PRESSURE PLASMA PROCESSING APPARATUS
常圧プラズマ処理装置の排気構造 - 特許庁 - SEMICONDUCTOR PLASMA PROCESSING DEVICE AND METHOD
半導体プラズマ処理装置及び方法 - 特許庁 - HELICAL RESONATOR TYPE PLASMA PROCESSING APPARATUS
ヘリカル共振器型のプラズマ処理装置 - 特許庁 - APPARATUS AND METHOD FOR MICROWAVE PLASMA PROCESSING
マイクロ波プラズマ処理装置及び方法 - 特許庁 - To provide a plasma processing method and a plasma processing device for processing a pattern that is finer in dimension than plasma.
プラズマの寸法より微細なパターン処理を行なうためのプラズマ処理方法およびプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁 - To improve plasma processing efficiency, in a remote plasma processing method.
リモートプラズマ処理方法において、プラズマ処理効率を向上させることである。 - 特許庁 - ELECTRODE ASSEMBLY AND PLASMA PROCESSING APPARATUS
電極アッセンブリ及びプラズマ処理装置 - 特許庁 - PLASMA PROCESSING DEVICE AND METHOD
プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 - 特許庁 - WORK PROCESSING DEVICE AND PLASMA GENERATOR
ワーク処理装置及びプラズマ発生装置 - 特許庁 - To provide a plasma processing apparatus which is capable of providing uniform plasma processing and easy to ignite plasma.
プラズマプロセス処理の均一性が高く、かつプラズマ着火性の良好なプラズマプロセス装置を提供する。 - 特許庁 - To provide an antenna and a plasma processing apparatus easy to enhance a plasma density in a plasma processing chamber.
プラズマ処理室内のプラズマ密度を高くすることが容易なアンテナ、およびプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁 - METHOD FOR CONTROLLING ELECTRONIC TEMPERATURE OF PLASMA, PLASMA PROCESSING METHOD AND PLASMA PROCESSOR
プラズマの電子温度を制御する方法，プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置 - 特許庁 - PROCESSING METHOD OF SUBSTRATE FOR PLASMA DISPLAY, SUBSTRATE FOR PLASMA DISPLAY, PLASMA DISPLAY PANEL AND PLASMA DISPLAY DEVICE
プラズマディスプレイ用基板の加工方法、プラズマディスプレイ用基板、プラズマディスプレイパネルおよびプラズマディスプレイ装置 - 特許庁 - PLASMA PROCESSING APPARATUS, AND PROCESSING CHAMBER INNER WALL SURFACE STABILIZING PROCESSING METHOD
プラズマ処理装置および処理室内壁面安定化処理方法 - 特許庁 - To provide a method for producing plasma flows, a method for plasma processing, an apparatus for producing plasma, and an apparatus for plasma processing using the same, which enable plasma processing with rotating plasma to be controllably performed with stability and thereby improve quality of plasma processing.
回転プラズマによるプラズマ処理を安定且つ制御可能にして、プラズマ処理の品質を向上させることのできるプラズマ流生成方法、プラズマ処理方法、プラズマ発生装置及びそれを用いたプラズマ処理装置を提供する。 - 特許庁 - PLASMA PROCESSING SYSTEM, MEMBER FOR GENERATING AND INTRODUCING PLASMA, AND SLOT ELECTRODE
プラズマ処理装置、プラズマ生成導入部材及びスロット電極 - 特許庁 - PLASMA ETCHING APPARATUS AND METHOD OF FORMING INNER WALL IN PLASMA PROCESSING CHAMBER
プラズマエッチング装置及びプラズマ処理室内壁の形成方法 - 特許庁 - PLASMA RESISTANT RUBBER COMPOSITION AND RUBBER MATERIAL FOR PLASMA PROCESSING APPARATUS
耐プラズマ性ゴム組成物及びプラズマ処理装置用ゴム材料 - 特許庁 - METHOD OF MONITORING PLASMA PROCESSOR, PLASMA PROCESSING METHOD AND APPARATUS
プラズマ処理装置の監視方法、プラズマ処理方法及び装置 - 特許庁 - PLASMA PROCESSOR AND PLASMA PROCESSING METHOD USING INVERTER CIRCUIT
インバータ回路を用いたプラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 - 特許庁 - PLASMA PROCESSING METHOD AND PLASMA PROCESSOR USING MARX CIRCUIT
マルクス回路を用いたプラズマ処理方法及びプラズマ処理装置 - 特許庁 - PLASMA PROCESSOR, PLASMA PROCESSING METHOD, AND MANUFACTURE OF SEMICONDUCTOR
プラズマ処理装置、プラズマ処理方法および半導体製造方法 - 特許庁 - CHEMICAL PLASMA PROCESSING METHOD FOR CONTAINER INNER SURFACE
容器内面の化学プラズマ処理方法 - 特許庁 - METHOD AND DEVICE FOR PLASMA PROCESSING
プラズマ処理方法、及び、プラズマ処理装置 - 特許庁 - EQUIPMENT AND METHOD FOR PLASMA PROCESSING
プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 - 特許庁 - EQUIPMENT AND METHOD FOR PLASMA PROCESSING
プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 - 特許庁 - METHOD AND EQUIPMENT FOR PLASMA PROCESSING
プラズマ処理方法およびプラズマ処理装置 - 特許庁
- 特許庁
- Copyright © Japan Patent office. All Rights Reserved.
