「Plasma processing」を含む例文一覧(3220)

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  • PLASMA PROCESSING APPARATUS AND METHOD OF MANUFACTURING PLASMA PROCESSSING APPARATUS
    プラズマ処理装置、プラズマ処理装置の製造方法 - 特許庁
  • INDUCTIVE-COUPLING PLASMA PROCESSING APPARATUS
    誘導結合型プラズマ処理装置 - 特許庁
  • PLASMA PROCESSING METHOD AND FILM FORMING METHOD
    プラズマ処理方法、成膜方法 - 特許庁
  • MATCHING UNIT AND PLASMA PROCESSING DEVICE
    整合器およびプラズマ処理装置 - 特許庁
  • INDUCTIVELY COUPLED PLASMA PROCESSING APPARATUS
    誘導結合型プラズマ処理装置 - 特許庁
  • PRODUCTION METHOD OF PLASMA PROCESSING APPARATUS
    プラズマ処理装置の製造方法 - 特許庁
  • ENHANCED DC PLASMA PROCESSING SYSTEM
    エンハンスト直流プラズマ処理システム - 特許庁
  • DUAL-CHAMBER PLASMA PROCESSING APPARATUS
    デュアル反応チャンバプラズマ処理装置 - 特許庁
  • PLASMA PROCESSING EQUIPMENT AND FOCUS RING
    プラズマ処理装置及びフォーカスリング - 特許庁
  • BOTTOM ELECTRODE FOR PLASMA PROCESSING EQUIPMENT
    プラズマ処理装置用下部電極 - 特許庁
  • FOCUS RING AND PLASMA PROCESSING APPARATUS
    フォーカスリング及びプラズマ処理装置 - 特許庁
  • FAULT SUPERVISORY SYSTEM OF PLASMA PROCESSING APPARATUS
    プラズマ処理の異常監視システム - 特許庁
  • DISCHARGE PLASMA PROCESSING DEVICE AND PROCESSING METHOD
    放電プラズマ処理装置及びその処理方法 - 特許庁
  • HIGH-FREQUENCY PLASMA PROCESSING DEVICE AND PROCESSING METHOD
    高周波プラズマ処理装置および処理方法 - 特許庁
  • HELICON WAVE PLASMA DEVICE AND HELICON WAVE PLASMA PROCESSING METHOD
    ヘリコン波プラズマ装置及びヘリコン波プラズマ処理方法 - 特許庁
  • PLASMA ACCELERATOR AND PLASMA PROCESSING SYSTEM EQUIPPED THEREWITH
    プラズマ加速装置及び該装置を備えるプラズマ処理システム - 特許庁
  • PLASMA SURFACE PROCESSOR AND PLASMA SURFACE PROCESSING METHOD
    プラズマ表面処理装置およびプラズマ表面処理方法 - 特許庁
  • PLASMA DAMAGE DETECTION MEASURING DEVICE AND PLASMA PROCESSING DEVICE
    プラズマダメージ検出測定装置及びプラズマ処理装置 - 特許庁
  • PLASMA PROCESSING APPARATUS, CLUSTER TOOL AND PLASMA CONTROL METHOD
    プラズマ処理装置、クラスターツールおよびプラズマ制御方法 - 特許庁
  • PLASMA PROCESSING METHOD AND PLASMA PROCESSOR USING THE SAME
    プラズマ処理方法及びこれを用いたプラズマ処理装置 - 特許庁
  • PLASMA GENERATION METHOD AND ITS DEVICE, AND PLASMA PROCESSING DEVICE
    プラズマ生成方法及び装置並びにプラズマ処理装置 - 特許庁
  • PLASMA DISCHARGE STATE DETERMINATION METHOD AND PLASMA PROCESSING METHOD
    プラズマ放電状態判定方法とプラズマ処理装置 - 特許庁
  • PLASMA PROCESSING APPARATUS WITH MICROWAVE AND PLASMA PROCESS CONTROLLING METHOD
    マイクロ波プラズマプロセス装置及びプラズマプロセス制御方法 - 特許庁
  • ICP CIRCUIT, PLASMA TREATMENT DEVICE, AND PLASMA PROCESSING METHOD
    ICP回路、プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 - 特許庁
  • PHOTON DETECTING SENSOR FOR PLASMA PROCESS, AND PLASMA PROCESSING EQUIPMENT
    プラズマプロセス用フォトン検出センサおよびプラズマ処理装置 - 特許庁
  • PLASMA GENERATING APPARATUS IN LIQUID, PLASMA PROCESSING APPARATUS IN LIQUID, PLASMA GENERATING METHOD IN LIQUID, AND PLASMA PROCESSING METHOD IN LIQUID
    液中プラズマ発生装置、液中プラズマ処理装置、液中プラズマ発生方法、および液中プラズマ処理方法 - 特許庁
  • DEVICE FOR PLASMA PROCESSING, AND WAVE RETARDATION PLATE
    プラズマ処理装置及び遅波板 - 特許庁
  • SUBSTRATE SUPPORT TABLE OF PLASMA PROCESSING DEVICE
    プラズマ処理装置の基板支持台 - 特許庁
  • METHOD OF CLEANING PLASMA PROCESSING DEVICE
    プラズマ処理装置のクリーニング方法 - 特許庁
  • SURFACE WAVE EXCITATION PLASMA PROCESSING DEVICE
    表面波励起プラズマ処理装置 - 特許庁
  • SUBSTRATE SUPPORT STAGE OF PLASMA PROCESSING APPARATUS
    プラズマ処理装置の基板支持台 - 特許庁
  • PLASMA PROCESSING METHOD AND ITS DEVICE
    プラズマ処理方法及びその装置 - 特許庁
  • FOCUS RING AND PLASMA PROCESSING UNIT
    フォーカスリングおよびプラズマ処理装置 - 特許庁
  • CONTAINER PROCESSING APPARATUS USING PLASMA
    プラズマを使用した容器処理装置 - 特許庁
  • METHOD AND SYSTEM FOR PLASMA PROCESSING
    プラズマ処理方法及びその装置 - 特許庁
  • PLASMA PROCESSING MACHINE FOR LAMINATED MATERIAL
    積層材料用のプラズマ加工機 - 特許庁
  • ANTENNA UNIT AND PLASMA PROCESSING APPARATUS
    アンテナ装置及びプラズマ処理装置 - 特許庁
  • DUAL PLASMA PROCESSING OF SILICON CARBIDE FILM
    炭化ケイ素膜のデュアルプラズマ処理 - 特許庁
  • PLASMA PROCESSING DEVICE AND METHOD
    プラズマ工程装置及びその方法 - 特許庁
  • LOW PRESSURE/HIGH DENSITY PLASMA PROCESSING DEVICE
    低圧・高密度プラズマ処理装置 - 特許庁
  • To provide an atmospheric pressure plasma processing apparatus and an atmospheric pressure plasma processing method.
    大気圧プラズマ処理装置、大気圧プラズマ処理方法を提供する。 - 特許庁
  • PLASMA PROCESSING APPARATUS, PLASMA PROCESSING METHOD AND METHOD FOR MANUFACTURING VIBRATING REED
    プラズマ加工装置、プラズマ加工方法、および振動片の製造方法 - 特許庁
  • ANNULAR COMPONENT FOR PLASMA PROCESSING, PLASMA PROCESSING APPARATUS, AND OUTER ANNULAR MEMBER
    プラズマ処理用環状部品、プラズマ処理装置、及び外側環状部材 - 特許庁
  • CLEANING METHOD OF PLASMA PROCESSING APPARATUS, CLEANING METHOD AND PLASMA PROCESSING APPARATUS
    プラズマ処理装置の洗浄方法、洗浄方法及びプラズマ処理装置 - 特許庁
  • INNER WALL OF PROCESSING CHAMBER FOR PLASMA APPARATUS FOR THIN FILM PROCESSING
    薄膜加工用プラズマ装置加工室内壁 - 特許庁
  • SPUTTERING DEVICE AND PLASMA PROCESSING APPARATUS
    スパッタ装置およびプラズマ処理装置 - 特許庁
  • PROCESSING CONTAINER AND PLASMA TREATING APPARATUS
    処理容器およびプラズマ処理装置 - 特許庁
  • PLASMA PROCESSING DEVICE AND POWER SUPPLY ROD
    プラズマ処理装置及び給電棒 - 特許庁
  • METHOD OF PROCESSING PLASMA CVD APPARATUS
    プラズマCVD装置の処理方法 - 特許庁
  • PLASMA PROCESSING METHOD AND ITS DEVICE
    プラズマ処理方法およびその装置 - 特許庁
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