「Plasma processing」を含む例文一覧(3220)
＜前へ 1 2 .... 5 6 7 8 9 10 11 12 13 .... 64 65 次へ＞- PLASMA PROCESSING APPARATUS AND OPTICAL MONITORING DEVICE
プラズマ処理装置及び光学モニタ装置 - 特許庁 - SUBSTRATE SUPPORT DEVICE AND PLASMA PROCESSING APPARATUS
基板保持装置およびプラズマ処理装置 - 特許庁 - PLASMA PROCESSING APPARATUS AND OPERATION METHOD THEREOF
プラズマ処理装置及びその運転方法 - 特許庁 - NORMAL PRESSURE PLASMA PROCESSING METHOD AND DEVICE THEREFOR
常圧プラズマ処理方法及びその装置 - 特許庁 - METHOD AND SYSTEM FOR DISCHARGE PLASMA PROCESSING
放電プラズマ処理方法及びその装置 - 特許庁 - METHOD AND APPARATUS FOR PLASMA PROCESSING
プラズマ処理方法、およびプラズマ処理装置 - 特許庁 - PLASMA PROCESSING APPARATUS AND CONSTITUENT PART THEREOF
プラズマ処理装置及びその構成部品 - 特許庁 - METHOD AND APPARATUS FOR PLASMA PROCESSING
プラズマ加工方法及びプラズマ加工装置 - 特許庁 - PLASMA PROCESSING METHOD AND ELEMENT ISOLATION METHOD
プラズマ処理方法、及び素子分離方法 - 特許庁 - DISCHARGE PLASMA PROCESSING METHOD AND ITS EQUIPMENT
放電プラズマ処理方法及びその装置 - 特許庁 - TEMPERATURE MEASURING APPARATUS AND PLASMA PROCESSING APPARATUS
温度測定装置及びプラズマ処理装置 - 特許庁 - PLASMA PROCESSING METHOD FOR POROUS INSULATING FILM
多孔質絶縁膜のプラズマ処理方法 - 特許庁 - PLASMA LEAKAGE DETECTION APPARATUS AND PROCESSING SYSTEM
プラズマリーク検出装置及び処理システム - 特許庁 - PLASMA GENERATING DEVICE AND WORKPIECE PROCESSING DEVICE
プラズマ発生装置及びワーク処理装置。 - 特許庁 - METHOD AND SYSTEM FOR PLASMA PROCESSING
プラズマ処理方法およびプラズマ処理装置 - 特許庁 - METHOD OF PLASMA PROCESSING AND SUBSTRATE RETAINER
プラズマ処理方法及び基板保持装置 - 特許庁 - WORKPIECE PROCESSING DEVICE AND PLASMA GENERATING DEVICE
ワーク処理装置及びプラズマ発生装置 - 特許庁 - PLASMA GENERATING DEVICE AND WORKPIECE PROCESSING DEVICE
プラズマ発生装置及びワーク処理装置 - 特許庁 - METHOD AND DEVICE FOR PLASMA PROCESSING
プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 - 特許庁 - METHOD AND DEVICE FOR PLASMA PROCESSING
プラズマ処理方法及びプラズマ処理装置 - 特許庁 - METHOD AND DEVICE FOR PLASMA PROCESSING
プラズマ処理方法およびプラズマ処理装置 - 特許庁 - DEVICE AND METHOD FOR PLASMA PROCESSING
プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法 - 特許庁 - PLASMA PROCESSING DEVICE, AND CONTROL METHOD THEREFOR
プラズマ処理装置及びその制御方法 - 特許庁 - PARALLEL PLATE ELECTRODE PLASMA PROCESSING DEVICE
平行平板型電極プラズマ処理装置 - 特許庁 - IMAGE PROCESSING APPARATUS AND PLASMA DISPLAY PANEL
画像処理装置及びプラズマ・ディスプレイ・パネル - 特許庁 - PLASMA PROCESSING EQUIPMENT AND METHOD
プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 - 特許庁 - PLASMA PROCESSING APPARATUS AND ITS ASSEMBLING METHOD
プラズマ処理装置及びその組立方法 - 特許庁 - GAS SUPPLY MEMBER AND PLASMA PROCESSING APPARATUS
ガス供給部材及びプラズマ処理装置 - 特許庁 - PLASMA DISPLAY APPARATUS AND ITS PROCESSING METHOD
プラズマディスプレイ装置及びその処理方法 - 特許庁 - PLASMA PROCESSING APPARATUS AND RESIST TRIMMING METHOD
プラズマ処理装置及びレジストトリミング方法 - 特許庁 - PLASMA GENERATING DEVICE AND WORK PROCESSING DEVICE
プラズマ発生装置及びワーク処理装置 - 特許庁 - PLASMA PROCESSING METHOD AND DEVICE
プラズマ処理方法およびプラズマ処理装置 - 特許庁 - PLASMA PROCESSING DEVICE AND METHOD
プラズマ処理装置およびプラズマ処理方法 - 特許庁 - MICROWAVE FEEDER, PLASMA PROCESSING APPARATUS USING IT, AND PLASMA PROCESSING METHOD
マイクロウェーブ供給装置、それを用いたプラズマ工程装置及びプラズマ工程方法 - 特許庁 - To provide a plasma processing system for processing a workpiece by a down-stream type plasma.
ダウンストリーム型プラズマで加工物を処理するプラズマ処理システムを提供すること。 - 特許庁 - PLASMA NITRIDING PROCESSING METHOD, PLASMA NITRIDING PROCESSING DEVICE, AND METHOD OF MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE
プラズマ窒化処理方法、プラズマ窒化処理装置および半導体装置の製造方法 - 特許庁 - PLASMA PROCESSING APPARATUS AND SEMICONDUCTOR PLASMA PROCESSING APPARATUS AND METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR USING THE SAME
プラズマ処理装置およびこのプラズマ処理装置を用いた半導体製造方法 - 特許庁 - PLASMA PROCESSING APPARATUS, PLASMA PROCESSING SYSTEM, PERFORMANCE CONFIRMING SYSTEM THEREFOR AND INSPECTION METHOD
プラズマ処理装置，プラズマ処理システムおよびこれらの性能確認システム，検査方法 - 特許庁 - PLASMA PROCESSING APPARATUS, PLASMA PROCESSING METHOD, AND COMPUTER READABLE STORAGE MEDIUM
プラズマ処理装置及びプラズマ処理方法及びコンピュータ読み取り可能な記憶媒体 - 特許庁 - PLASMA ETCHING PROCESSING APPARATUS, PLASMA ETCHING PROCESSING METHOD AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR DEVICE
プラズマエッチング処理装置、プラズマエッチング処理方法、および半導体素子製造方法 - 特許庁 - ATTRACTION METHOD, RELEASING METHOD, PLASMA PROCESSING METHOD, ELECTROSTATIC CHUCK, AND PLASMA PROCESSING APPARATUS
吸着方法、脱離方法、プラズマ処理方法、静電チャック及びプラズマ処理装置 - 特許庁 - To provide a plasma processing device allowing plasma density at an optional part of a plasma processing surface to be locally changed; and a plasma processing method.
プラズマ処理面の任意の箇所のプラズマ密度を局所的に変化させることが可能なプラズマ処理装置及びプラズマ処理方法を提供する。 - 特許庁 - To improve the plasma production efficiency by raising plasma density in a plasma processing apparatus.
プラズマ処理装置において、電子密度を高くしてプラズマ生成効率を向上する。 - 特許庁 - PLASMA POTENTIAL MEASUREMENT METHOD, PLASMA POTENTIAL MEASUREMENT DEVICE AND PLASMA PROCESSING APPARATUS USING IT
プラズマ電位計測方法、プラズマ電位計測装置及びそれを用いたプラズマ処理装置 - 特許庁 - PLASMA DENSITY INFORMATION MEASURING PROBE, PLASMA DENSITY INFORMATION MEASURING DEVICE, AND PLASMA PROCESSING DEVICE
プラズマ密度情報測定プローブ、プラズマ密度情報測定装置、及びプラズマ処理装置 - 特許庁 - PLASMA PARTICLE SIMULATION METHOD, STORAGE MEDIUM, PLASMA PARTICLE SIMULATOR, AND PLASMA PROCESSING DEVICE
プラズマ粒子シミュレーション方法、記憶媒体、プラズマ粒子シミュレータ、及びプラズマ処理装置 - 特許庁 - PLASMA MONITORING METHOD, PLASMA PROCESSING METHOD, METHOD FOR MANUFACTURING SEMICONDUCTOR DEVICE, PLASMA PROCESSOR
プラズマモニタ方法、プラズマ処理方法、半導体装置の製造方法、およびプラズマ処理装置 - 特許庁 - MICROWAVE PLASMA PROCESSING APPARATUS, DIELECTRIC BOARD FOR MICROWAVE PLASMA PROCESSING APPARATUS, AND MICROWAVE FEEDING METHOD OF MICROWAVE PLASMA PROCESSING APPARATUS
マイクロ波プラズマ処理装置、マイクロ波プラズマ処理装置用の誘電体板、及びマイクロ波プラズマ処理装置のマイクロ波給電方法 - 特許庁 - The plasma processing system is at least provided with a plasma processing chamber for plasma processing to an object to be processed, an object holding means for arranging the object in the plasma processing chamber, and a plasma generating means for generating a plasma in the plasma processing chamber.
被処理体にプラズマ処理を行うためのプラズマ処理室と；該被処理体を、前記プラズマ処理室内に配置するための被処理体保持手段と；該プラズマ処理室内にプラズマを発生させるためのプラズマ発生手段とを少なくとも含むプラズマ処理装置。 - 特許庁 - To perform plasma processing on a processing object with a desired in-plane processing distribution.
処理対象物を所望の面内処理分布でプラズマ処理する。 - 特許庁
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