「Process」を含む例文一覧(50000)
＜前へ 1 2 .... 746 747 748 749 750 751 752 753 754 .... 999 1000 次へ＞- The process (b) includes a process for writing a duplication use image which forms a part of the processed notable block image and is used in the second processing step prepared for other block images into an external RAM region.
工程（ｂ）は、処理済み注目ブロック画像の一部を構成し、他のブロック画像のための第２処理で利用される重複利用画像を、外部ＲＡＭ領域に書き込む工程を含む。 - 特許庁 - It is preferable that a groove is formed at the center of the part to be peeled before the second peeling process and peeling is executed from both sides toward the center of the peeling part in the second peeling process.
第２の剥離工程前に、被膜剥離する部分の中央部を溝加工し、その後の第２の剥離工程が被膜剥離される部分の中央に向って両方から被膜剥離するのが好ましい。 - 特許庁 - Only one program NC executing an abnormality process in accordance with information stored in a work condition memory means is prepared, so that the tap return process relating to a tap of arbitrary specification can be performed.
また、加工条件記憶手段に記憶されている情報に従って異常処理を実行するＮＣプログラムを１つ用意するだけで、任意の仕様のタップに対するタップ戻し処理が可能となる。 - 特許庁 - Imaged images in each different inspection voltage value are acquired (imaged image acquisition process S2), and each difference between every two picked up images is taken successively, and a differential image is generated (differential image generation process S4).
異なる検査用電圧値ごとの撮像画像を取得し（撮像画像取得工程Ｓ２）、２つの撮像画像ごとに順次差分をとって差分画像を作成する（差分画像作成工程Ｓ４）。 - 特許庁 - A coating machine for coating a substrate by means of sputtering, comprises a process chamber and, in the process chamber, targets 3, 3' from which target material is sputtable in the direction of the substrate for coating the substrate.
スパッタリングによって基板をコーティングするためのコーティング機はプロセスチャンバを備えており、プロセスチャンバ内では、基板をコーティングするために、ターゲット３，３’からターゲット材料を基板の方向にスパッタ可能である。 - 特許庁 - In the deposit removal process, deposits P generated in a first growth process S1 are removed by performing mirror polishing, for example, on chamfered parts 10C of the silicon single crystal substrate 10.
この堆積物除去工程では、シリコン単結晶基板１０の面取り部１０ｃを、例えば鏡面研磨することによって、第一の成長工程Ｓ１で生じた堆積物Ｐを除去する。 - 特許庁 - The process for forming the multiple parts of different affinities with respect to functional liquid has a process for giving an organosiloxane film onto the substrate and exposing it through an optical mask.
機能性液体に対する親和性が互いに異なる複数の部分を形成する工程は、例えば基板上にオルガノシロキサン膜を付与し、これに光学マスクを介して露光させる工程を有する。 - 特許庁 - In manufacturing the SIMOX wafer, the SOI film having a thickness larger than a target SOI film thickness is formed in advance, and the final adjustment of the SOI film thickness is performed by an etching process provided differently from a cleaning process.
SIMOXウェーハの製造に際し、予め目標とするSOI膜厚よりも厚めのSOI膜を形成しておき、最終的なSOI膜厚の調整を、洗浄工程とは別途に設けたエッチング工程により行う。 - 特許庁 - This method for producing confectionery comprises a primary foaming process for mixing and foaming raw materials in a vertical mixer 1 and a secondary foaming process for agitating and foaming the primary foamed dough in a mixer 4.
縦型ミキサ１において、原料を混合するとともに発泡させる一次発泡工程と、ミキサ４において、一次発泡生地を撹拌し、さらに発泡させる二次発泡工程とを有する。 - 特許庁 - To provide a statistical quality/process control management device for managing the statistical quality/process of the management step to be managed or all the management steps to the end from manufacture start.
製造開始から管理対象の管理工程、あるいは、終了までの各管理工程全ての統計的品質プロセスの管理をすることができる統計的品質プロセス制御管理装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a production process of a mononuclear detergent particle group without requiring a drying process inhibiting the growth of particles with a sharp particle distribution and powder characteristics such as fluidity.
乾燥工程が不要であり、粒子成長を抑制した、粒径分布がシャープでかつ流動性等の粉末特性の良好な単核性洗剤粒子群の製造方法を収率よく提供すること。 - 特許庁 - To provide a mold for tire vulcanization molding which can improve exhaust efficiency in a tire vulcanization process and save labor in a process for processing/assembling piece blocks and its production method.
タイヤ加硫工程時の排気効率を向上させ、更にピースブロックの加工・組立て工程の省力化を図ることが出来るタイヤ加硫成形用金型及びその製造方法を提供することにある。 - 特許庁 - To provide an image forming apparatus in which an image carrier etc., arranged on a process cartridge side is accurately positioned by attaching the process cartridge to a prescribed position in an image forming apparatus body.
プロセスカートリッジを画像形成装置本体の所定位置に装着することにより、プロセスカートリッジ側に設けた像担持体等の位置決めを精度良く行うことができる画像形成装置を提供すること。 - 特許庁 - To secure detergency by selecting a soak washing time of a soak washing process according to the degree of dirt and optimizing the necessary time of the soak washing process in a washing machine performing the soak washing.
つけ洗いを行う洗濯機において、汚れの程度に応じて、つけ洗い行程のつけ洗い時間を選択できるようにし、つけ洗い行程の所要時間を適正化して洗浄力を確保する。 - 特許庁 - To provide a network system in a manufacturing process which recognizes occurrence of a failure in a short time and keeps a stable quality by securing traceability in the manufacturing process.
製造工程でのトレーサビリティーを確保することにより不具合の発生を短時間で認定して安定した品質を維持することができる製造工程におけるネットワークシステムを提供すること。 - 特許庁 - To provide a system that is comprised of coal gasification and direct iron manufacture and can reconcile heat recovery in a process of coal-base direct iron manufacture and reduction of plant-and-equipment investment in a process of coal gasification.
石炭ベース直接製鉄プロセスにおける熱回収と、石炭ガス化プロセスにおける設備投資の低減とを両立させることができる石炭ガス化及び直接製鉄システムを提供する。 - 特許庁 - When the utilization of bath water is set in the rinsing process, the water-saving rinsing is executed in a first rinsing process after water is supplied by a pump under-saving water to a rinsing water level (Step 19).
すすぎ工程時に風呂水利用が設定されている場合には、第１すすぎ工程で、ポンプ給水によりすすぎ水位迄の水が洗濯槽に溜まったあと、ためすすぎが実行される（ステップＳ１９）。 - 特許庁 - To perform a safe and appropriate business process by extracting/evaluating risk information and synergy information caused by role relations between people to be an essential part of the business process.
ビジネスプロセスの本質部分である人間同士の役割関係から生じるリスク情報およびシナジー情報を抽出・評価し、安全かつ的確なビジネスプロセスを可能とする方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a sheet metal process work support system allowing desired information searched by a worker such as a position of a target sheet material or a component name to be immediately recognized in a sheet metal process.
板金工程において、作業者が探している対象板材の位置、あるいは部品名などの希望の情報を即座に認識することを可能とした板金工程作業支援システムを提供する。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method for a laminated ceramic electronic part, by which a lateral spreading deformation due to a pushing process for a lamination can be inhibited even through the pushing process when the electronic part is manufactured.
積層セラミック電子部品を製造する際、積層のための押圧工程を経てもその押圧工程による横広がり変形が抑制できる積層セラミック電子部品の製造方法を提供する。 - 特許庁 - This manufacturing method of the brush 4 having contact surface parts 4a and 4a slidingly contacting with the commutator on one surface, comprises a process of molding a mold 40 and a process of cutting the mold 40.
整流子に摺接する接触面部４ａ、４ａを一面に備えるブラシ４の製造方法において、成型体４０を成型する工程と、成型体４０を切削する工程とを備える。 - 特許庁 - When the output of the specific information 12 and the processing process information from the processes 24a, 24b, and so on is confirmed, a series of the outputted specific information 12 and processing process information is preserved in a data base 25.
処理装置24a，24b…からの固有情報12および処理プロセス情報の出力が確認されたとき、出力された固有情報12および処理プロセス情報を一連にデータベース25に保存する。 - 特許庁 - To provide a process cartridge which can reduce a space required in an apparatus body of an image forming apparatus in order to open and close a protection member, and the image forming apparatus including the process cartridge.
保護部材を開閉するために画像形成装置の装置本体内に必要なスペースを縮小することができるプロセスカートリッジ、およびこのプロセスカートリッジを備える画像形成装置を提供する。 - 特許庁 - The method comprises: obtaining the sequential relationship of every two engines on the basis of a historical engine process; and constructing the engine process according to the sequential relationship of every two engines.
エンジン履歴プロセスに基づいて各２つのエンジン間におけるシーケンス関係を取得するステップと、各２つのエンジン間におけるシーケンス関係に基づいてエンジンプロセスを構築するステップとを備える。 - 特許庁 - To provide a stamper which is short in the time needed for an electroforming process and a rear-surface polishing process and can mold a resin substrate with nearly the same characteristics with a conventional stamper.
電鋳工程及び裏面研磨工程に費やされる時間が短く、かつ、従来のスタンパと同等の特性で樹脂基板を成形することができるスタンパを提供することを目的とする。 - 特許庁 - The light emitting device in a structure shown by Fig. 1 (d) is obtained by performing a resin curing process for forming a color conversion layer 3 by curing the non-cured resin layer 2b containing phosphors after the blast process.
ブラスト工程の後、蛍光体含有未硬化樹脂層２ｂを硬化させることで色変換層３を形成する樹脂硬化工程を行うことによって、図１（ｄ）に示す構造の発光装置を得る。 - 特許庁 - To provide DMA (Direct Memory Access) to accelerate a process which rearranges data recorded in a memory in order of bytes matching a transfer destination as compared with performing the process by allowing a CPU to execute rearrangement software on the memory.
メモリに記録されたデータを転送先に適合するバイト順に並び替える処理を、CPUがメモリ上で並び替えソフトウェアを実行して行なう場合に比較して、高速化するDMA（Direct Memory Access）を提供。 - 特許庁 - The software of a ball counter client 10 serving as a caller side client comprises a communication basic library, a request telegram creation event, a response telegram process event, a communication end process event, and a protocol driver.
呼出側の端末である玉計数機クライアント１０のソフトウェアは、通信基本ライブラリ、要求電文作成イベント、応答電文処理イベント、通信終了処理イベント、プロトコルドライバにより構成されている。 - 特許庁 - A method is constituted of a first process producing U3O8 monocrystal and a second process producing UO2 sintered body with large grain by using mixed powder of U3O8 monocrystal and UO2 powder.
Ｕ_３Ｏ_８単結晶を製造する第１の工程と、Ｕ_３Ｏ_８単結晶とＵＯ__２粉末との混合粉末を使用し結晶粒が大きいＵＯ_２焼結体を製造する第２の工程とよりなる。 - 特許庁 - As just described, at the initial stage of growth, a good single crystal is grown in the first process, and thereafter the single crystal is further grown at a higher growth speed in the second process.
このように、成長初期においては、第１工程によって良好な単結晶を成長させ、その後は、第２工程によって速い成長速度で単結晶を成長させるようにする。 - 特許庁 - The detecting means includes a means, which finds a frequency distribution showing the quality of the signal, after the partial response(PR) process and a means which finds a dispersion value of the signal after the partial response(PR) process from the frequency distribution.
検知手段は、パーシャルレスポンス（ＰＲ）処理後の信号の品位を示す度数分布を求める手段と、度数分布からパーシャルレスポンス（ＰＲ）処理後の信号の分散値を求める手段とを含む。 - 特許庁 - To provide an image processing program and an image processing device for transmitting information between a process using a paper document and a process using an electronic document created by means of the paper document.
紙文書による工程とその紙文書に基づき生成された電子文書による工程との間で情報伝達を行うことができる画像処理プログラム及び画像処理装置を提供する。 - 特許庁 - Since a process for forming the negative film and a process for aligning the negative film with the surface of the photosensitive resin plate 200 for flexographic printing become unnecessary, the printing plate can be manufactured simply and inexpensively.
ネガフィルムを作成する工程およびネガフィルムをフレキソ印刷用感光性樹脂板表面に位置合わせする工程が不要となるので、簡単かつ廉価に印刷用刷版を製作できる。 - 特許庁 - Radiation exposure treatment is carried out by a radiation source emitting the short ultraviolet ray having a wavelength of a range from 150 nm to 300 nm having 10 mj/mm^2 of energy, during a production process or after the process.
また製造工程の間又は後に、１０ｍＪ／ｍｍ^２のエネルギーを有する１５０ｎｍから３００ｎｍまでの範囲の短紫外線を発する放射線源で放射線露光処理をする。 - 特許庁 - In plural editing processes for preparing a document D, contents to be edited instructed from the outside part at executing of each editing process are stored as a historical information H for each editing process.
ドキュメントＤを作成するための複数の編集過程において、それぞれの編集過程実行時に外部指示された編集内容を、それぞれの編集行程ごとにヒストリ情報Ｈとして記憶する。 - 特許庁 - In switching the process from the last time to the next time, a delay processing mode is executed to delay the start of an evaporation process by a condensation/evaporation heat exchanger 23a by stopping a pump 52 for a prescribed time.
前回から次回への工程切換の際に、所定時間だけポンプ５２を停止させて凝縮／蒸発用熱交換器２３ａでの蒸発工程の開始を遅延させる遅延処理モードを実行する。 - 特許庁 - A processing means 1d refers to a process identifier, an argument, and the sender address included in the parameters supplied from the parameter extracting means 1c and performs a process specified by them.
処理手段１ｄは、パラメータ抽出手段１ｃから供給されたパラメータに含まれている処理識別子と引数ならびに差出人アドレスを参照し、これらによって特定される処理を実行する。 - 特許庁 - In more practical, a pre- process to form a surface oxide layer 6s on the amorphous silicon film 6a with a solution including ozone and a post-process to remove the surface oxide layer 6s with a solution including fluoric acid are performed.
具体的には、オゾンを含む溶液でアモルファスシリコン膜６ａに表面酸化層６ｓを形成する前処理と、フッ酸を含む溶液で表面酸化層６ｓを除去する後処理を行なう。 - 特許庁 - To provide a plasma process system and a plasma control method by which generation and preservation of a plasma can be stably and efficiently performed and the process uniformity using the plasma can be improved.
プラズマの生成・維持を安定的かつ効率的に行うとともに、プラズマを用いた処理の均一性を向上させることが可能なプラズマプロセス装置およびプラズマ制御方法を提供する。 - 特許庁 - The method includes a pattern forming process of forming a conductive pattern on a surface of a substrate using lithography technique and a process of cutting the conductive pattern using a mechanical cutting means.
リソグラフィ技術を用いて基板の表面に導体パターンを形成するパターン形成工程と、機械的切削手段を用いて前記導体パターンを切削加工する工程を含むことを特徴とする。 - 特許庁 - If an optical zoom operation is recognized, a difference between the move vector detected in the move vector detection process and the optical zoom vector computed in the optical zoom computation process is computed.
光学ズーム操作がなされたと判別したときに、動きベクトル検出工程で検出された動きベクトルと光学ズーム分算出工程で算出された光学ズーム分ベクトルとの差分を演算する。 - 特許庁 - When shifting from a washing process to a rinsing process, since the subsequent dripping time from the jetting holes 33a and 34a becomes short, shifting time is shortened and a rinsing performance is improved.
また、洗浄工程から濯ぎ工程に移行するに際し、噴射穴３３ａ，３４ａからの後垂れ時間が短くなるので、移行時間の短縮やすすぎ性能の向上を図ることができる。 - 特許庁 - To provide a fastening information input system which can process fastening information to be inputted at a designing division so that the fastening information may be effectively used at a structure analyzing division as a posterior process.
設計部門で入力する締結情報を、後工程としての構造解析部門にて有効に利用することができるように加工することのできる締結情報入力システムを提供する。 - 特許庁 - Further, in a process 4 for preliminarily pickling the washed roes and then in a process 5 for mainly pickling the preliminarily pickled roes, the roes are pickled in pickling liquids containing the ocean deep water for prescribed periods, respectively.
また、洗浄した卵を下漬け込みする工程４および、下漬け込みした後に本漬け込みする工程５において、海洋深層水を含んだ漬け込み液に卵を所定期間漬け込む。 - 特許庁 - The method consists of a first process for forming an almost concentric circle like a mark on the surface of a substrate 21 and a second process for forming the texture streak on the surface of the substrate with this mark as a base.
基板２１の表面に略同心円状の条痕を形成する第一の工程、及び基板の表面にこの条痕をベースとしたテクスチャ条痕を形成する第二の工程から成る。 - 特許庁 - To provide a wafer unloader and a method for manufacturing a wafer capable of stably receiving a wafer with its polishing process completed from a polishing head and securely giving it to the next process.
研磨工程の終了したウェーハを研磨ヘッドから安定して受け取り、確実に次工程に受け渡すことができるウェーハアンローディング装置及びウェーハの製造方法を提供することを目的としている。 - 特許庁 - In relation to that, is the process of review already underway, or is the process of selecting members taking time? I am asking this because you said that the first meeting will be held by the end of the month.
今の関連ですけれども、それは既に検証作業が始まっているのですか、それともメンバーを選ぶのに（時間がかかっているのですか）。第1回会合が月内というお話だったので。 - 金融庁 - Whether the credit rating agency has clearly established the authority and responsibility of the credit rating committee, and whether it has properly established the process for appointing committee members, the process by which the credit rating committee will make decisions and other procedures pertaining to the administration of the committee.
格付委員会の権限及び責任を明確にし、構成員の選任方法、格付委員会の意思決定の方法その他の運営に関する手続を適切に定めているか。 - 金融庁 - (ii) Whether the credit rating agency has clearly established the authority and responsibility of the supervisory committee, and whether it has properly established a process for appointing committee members, a policy for administering the supervisory committee, and a process for independent members to periodically submit their opinions.
②監督委員会の権限及び責任を明確にし、委員の選任方法、監督委員会の運営方針及び独立委員による定期的な意見の提出方法を適切に定めているか。 - 金融庁 - An epitaxial growth device 1 comprises a process chamber 2, and a liner part 2A which forms a part of the side part of the process chamber 2 is provided with gas support openings 3a to 3e and gas exhaust opening 4 which each other.
エピタキシャル成長装置１は処理チャンバ２を有し、この処理チャンバ２の側部の一部を形成するライナー部２Ａには、ガス供給口３ａ〜３ｅとガス排気口４とが対向して設けられている。 - 特許庁
