「Process」を含む例文一覧(50000)
＜前へ 1 2 .... 828 829 830 831 832 833 834 835 836 .... 999 1000 次へ＞- The method includes: an arrangement process for arranging a reference member at a position having a specific relation with the mounting part; a measurement process for measuring respective coordinate values of the reference member; and a calculation process for calculating the rotational error distribution by the moving part based on a difference between respective measurement coordinate values by at least two measurement probes.
載置部上と所定の関係を持った位置に基準部材を配置する配置工程と、測定プローブの少なくとも２つが、基準部材の座標値をそれぞれ測定する測定工程と、各々の測定座標値の差分に基づいて移動部による回転誤差分布を算出する算出工程と、を備える。 - 特許庁 - To provide an apparatus which adjusts a developer solution recovered from a developing process to a specified concentration and then again supplies the resultant developer solution to the developing process, in particular, an apparatus for recycling and supplying a developer solution which can supply the developer solution having the concentration more accurately adjusted to the developing process and enhance the recovery rate of the developer solution.
現像プロセスから回収された現像液を一定濃度に再調節して再び現像プロセスに供給する装置であって、一層正確に濃度調節された現像液を現像プロセスへ供給し得ると共に、現像液の回収率を高め得る現像液のリサイクル供給装置を提供する。 - 特許庁 - An ironing process of the cylindrical portion and a protruding diameter shrinking process in its lower part are executed between a forming punch 34 and an arresting die 36 in the two stages plastic forming of the semi-finished product A1 so that the thickness generated through the ironing process supplements the shoulder part at the time of diameter shrinking and a shortage of the thickness in the extruding diameter shrinking portion.
半製品Ａ１は第２段階の塑性加工において成形パンチ３４と拘束ダイス３６との間で筒状部のしごき減肉とその下部における突き出し縮径を行い、しごきにより生じた肉の移動により縮径時の肩部及び突き出し縮径部における肉の不足を補充する。 - 特許庁 - The method of manufacturing this printed wiring board is constituted of a process of bonding a metal foil having the metallic anchor 503 to the insulating board 51, a process of removing a part of the metal foil and forming an anchor-scattered section, where the metallic anchors 503 are left on the insulating substrate 51, and a process of forming a wiring pattern at the anchor scattered section.
このプリント配線板を製造する方法は，絶縁基板に金属アンカーを有する金属箔を接着する工程と，金属箔の一部を除去して，絶縁基板の上に上記金属アンカーが残ったアンカー点在部を形成する工程と，アンカー点在部に配線パターンを形成する工程とから構成される。 - 特許庁 - The method is provided with a first process of assigning an area 25 including an intersection point 24 of two fibrous particles 20 and 21, a second process of cutting the area 25, and a third process of connecting images with fibrous particles, facing the same direction of images 22a, 22b, 23a, and 23b of fibrous particles left outside the area 25.
本方法は、２つの繊維状粒子２０、２１の交点２４を含む領域２５を指定する第一の過程と、領域２５をカットする第二の過程と、領域２５外に残っている繊維状粒子の画像２２ａ、２２ｂ、２３ａ、２３ｂのうち、同じ方向を向いているものを連結する第三の過程と、を備える。 - 特許庁 - The communication board is equipped with a target setting area 4, a priority process area 5 and a proper work-in-process area 6 to display target data indicating a production goal, priority processing data indicating lots to be processed with priority and differential data indicating a difference from a proper work-in-process quantity in respective steps on the single screen.
そして、このコミュニケーションボードに目標設定エリア４、優先処理エリア５および適正仕掛かりエリア６を設けて、生産目標を示す目標データ、優先して処理すべきロットを示す優先処理データおよび各工程における適正仕掛かり量からのずれを示す差分データを一画面上に表示する。 - 特許庁 - A construction method for embankment on the backside of the substructure comprises a process for constructing the substructure 3, a process for constructing backside fill 5 by providing a prescribed separation section 6 on the backside 3a of the substructure 3, and a process for infilling a filling material 8 into a cavity W which is formed by providing the prescribed separation section after a lapse of a predetermined period.
橋台背面盛土工法は、橋台３を施工する工程と、橋台３の背面３ａに所定の離隔６を設けて背面盛土５を構築する工程と、所定期間経過後に所定の離隔により形成される空隙Ｗに間詰材８を充填する工程と、を有する。 - 特許庁 - This image forming device 10 has a body 12 of the image forming device, an opening and closing cover 39, the process cartridge 200, and a projecting part 40 provided to interfere with the process cartridge 200 when improper process cartridge 200 is mounted in the body 12 of the image forming device and the opening and closing cover 39 is closed.
画像形成装置１０は、画像形成装置本体１２と、開閉カバー３９と、プロセスカートリッジ２００と、不適切なプロセスカートリッジ２００が画像形成装置本体１２内に装着され、開閉カバー３９が閉じられると、プロセスカートリッジ２００と干渉する位置に設けられた凸部４０と有する。 - 特許庁 - The control method includes a closeness determination process (step S10) for determining being approached to the execution timing of the periodical cleaning, a business time determination process (step S11) for determining whether it is out of business hours, and an execution process (step S04-S07) for executing the periodical cleaning when it is determined to be out of the business time.
定期クリーニングの実行タイミングに近づいたことを判定する近似判定工程（ステップＳ１０）と、営業時間外であるか否かを判定する営業時間判定工程（ステップＳ１１）と、営業時間外であると判定した際に、定期クリーニングを行う実行工程（ステップＳ０４〜Ｓ０７）とを含む。 - 特許庁 - The instrument has a sounding instruction operation element which instructs a start of sounding and a sounding control means which starts a sounding process by the operation of the operation element, continues the process after the release of the operation element and conducts a muffling process when the same operation element is operated again.
本発明の電子楽器は、発音開始を指示するための発音指示操作子と、発音指示操作子の操作により発音処理を開始し、発音指示操作子の解放後も発音処理を継続し、再度同一の発音指示操作子が操作されたことにより消音処理を行う発音制御手段とを有する。 - 特許庁 - The carbon powder having high packing property for an electrode plate of a nonaqueous electrolyte secondary battery is manufactured through a process of imparting high packing property to a carbonaceous powder by adding dynamic energy to the carbonaceous powder to obtain spherical powder particles having 1.1 or more ratio of apparent densities before and after the process and 1 or less ratio of median diameters before and after the process.
炭素質粉末に力学的エネルギーを加えることで球形化し、処理前後の見かけ密度比を１．１以上、処理前後のメジアン径比が１以下とする炭素質粉末を高充填化処理する工程から製造される、非水電解液二次電池の極板用の高充填性炭素粉末。 - 特許庁 - In polishing metal films 24, 27, the method for manufacturing a semiconductor device includes has a first process that performs polishing where polishing speeds of insulating films 22, 25 is certain speeds or more and polishing is performed with a polishing agent 11 containing an oxidizing agent concentration and a second process that performs polishing with the polishing agent 11 at a lower concentration of the oxidizing agent concentration than in the first process.
金属膜２４、２７の研磨において、絶縁膜２２、２５の研磨速度が一定以上となり、酸化剤濃度を含んだ研磨剤１１で研磨する第一の工程と、第一の工程よりも酸化剤濃度が低い研磨剤１１で研磨する第二の工程を有する半導体装置の製造方法である。 - 特許庁 - The method includes the process in which a recessed groove 5 having a depth equal to a buffing depth desired during buffing is formed in a region on which the member is stuck in the tire inner surface 4, the process in which the tire inner surface 4 is buffed until the recessed groove 5 vanishes, and the process for sticking the member on the tire inner surface 4.
かかる方法は、タイヤ内面４にて部材を貼り付ける領域に、バフ処理時に所望されるバフ処理深さと同一の深さを有する凹溝５を設ける工程と、かかる凹溝５が消失するまでタイヤ内面４をバフ処理する工程と、タイヤ内面４に部材を貼り付ける工程とを含む。 - 特許庁 - The method includes a process 710 for determining the shunt capacitance of the transducer, a process 730 for calculating the temperature of the transducer on the basis of the shunt capacitance of the transducer, and a process 745 for providing a warning to the user of a hand piece if one of the temperature of the transducer and the rate of change of temperature is excessive.
トランスデューサのシャント・キャパシタンスを求める過程７１０と、トランスデューサのシャント・キャパシタンスに基づいてトランスデューサの温度を計算する過程７３０と、トランスデューサの温度および温度の変化率の一方が過剰な場合にハンド・ピースの使用者に警告を提供する過程７４５とを有する。 - 特許庁 - The management device can appropriately support the compensation process even if the blocked replenishment and the trouble of a game machine 1 simultaneously occur, and can appropriately deal with a player requesting the compensation process for a jackpot which can not be an object of the compensation process because the trouble of the game machine 1 does not occur while simple blocked replenishment only occurs.
補給詰まりと遊技機１のトラブルが併発した場合であっても適切に補償処理をサポートでき、しかも、単なる補給詰まりが発生したのみで遊技機１のトラブルは発生せずに補償処理の対象となり得ない大当たりについて補償処理を要請する遊技者に対しても適切に対処できる。 - 特許庁 - The manufacturing method successively executes a process (A) for forming film of a seed layer 20 and a lower electrode 30 on a substrate 10 successively, a process (B) for diffusing elements contained in the seed layer 20 for depositing on the surface of the lower electrode 30 and a process (C) for film-forming the piezoelectric film 40 on the lower electrode 30.
基板１０上にシード層２０と下部電極３０とを順次成膜する工程（Ａ）と、シード層２０に含まれる元素を拡散させて、該元素を下部電極３０の表面に析出させる工程（Ｂ）と、下部電極３０上に圧電膜４０を成膜する工程（Ｃ）とを順次実施する。 - 特許庁 - This belt is manufactured by the manufacturing method having (1) a base material layer formation process where an unvulcanized base material layer is formed by spirally winding an unvulcanized composition and a topping tape around the outer periphery of a cylindrical mold without any gap, (2) a vulcanization process where the unvulcanized base material layer is vulcanized, and (3) a surface layer formation process where the surface layer is formed.
このベルトは、（１）未加硫ゴム組成物をトッピングテープを円筒状金型の外周に隙間なくらせん状に巻き付けて未加硫基材層を形成する基材層形成工程、（２）前記未加硫基材層を加硫する加硫工程、（３）表面層を形成する表面層形成工程を有する製造方法により製造する。 - 特許庁 - The production method includes a first kneading process for obtaining a first kneaded material by kneading water and a water-soluble resin 8 with ceramic- or glass-based balloon particles 6 having specific gravity of <1 and a second kneading process for obtaining a second kneaded material 11 by kneading a photocatalytic material 10 having specific gravity of >1 with the first kneaded material obtained in the first kneading process.
比重が１未満のセラミック系またはガラス系のバルーン粒子６に、水および水溶性樹脂８を混錬して一次混錬物を得る第１混錬工程と、第１混錬工程で得られた一次混錬物に、比重が１を超える光触媒材料１０を混錬して二次混錬物１１を得る第２混錬工程とを含む。 - 特許庁 - This Pachinko game machine 1 has a first display section 11 on which the result of a first big jackpot drawing process is led and displayed, a second display section 12 on which the result of a second big jackpot drawing process is led and displayed, and a third display section 13 on which the result of a third big jackpot drawing process is led and displayed.
本発明のパチンコ遊技機１は、第一大当たり抽選処理の結果が導出表示される第一表示部１１と、第二大当たり抽選処理の結果が導出表示される第二表示部１２と、第三大当たり抽選処理の結果が導出表示される第三表示部１３とを有する。 - 特許庁 - By the addition of the second process (S2), the quantity of a shift caused after adjustment to an ideal position, such as an error relating to the movement of the hologram lens 2 caused in the first process, an error caused by the contraction due to the curing of the adhesive in the third process (S3) and so on, is corrected to perform a position adjustment for highly precise production.
２番目の工程（Ｓ２）追加により、従来の１番目の工程で生じたホログラムレンズ２の移動に係る誤差、および３番目の工程（Ｓ３）で生じた接着剤硬化時の収縮による誤差等の理想位置への調整後に生じるずれ量を補正して高精度な製造を行うための位置調整をする。 - 特許庁 - The control method includes a process to display a caption for a first screen when setting of caption display for the first screen is "ON" during two-screen display mode, a process for suppressing caption display for the first screen when the setting of caption display for the first screen is "OFF", and a process which displays caption of the second screen at all times.
２画面表示のときに、第１の画面の字幕表示の設定が“ＯＮ”の場合には第１の画面に対する字幕を表示する工程と、第１の画面の字幕表示の設定が“ＯＦＦ”の場合には第１の画面に対する字幕表示を抑制する工程と、第２の画面の字幕は必ず表示する工程とを含む。 - 特許庁 - Cutting, a broken stone foundation process, a process, in which the foamed lightweight material 5 is laid between a space as the girder section 3 and the ground surface 4 while forms and bar arrangement are executed, and a process in which concrete is placed and cured and the foundation upstanding section 2 and the girder section 3 are formed integrally by one-time concrete placing are contained.
また、根切り、割栗地業工程と、桁部となる空間と地盤面との間に発泡軽量材を敷込むとともに、型枠、配筋を施す工程と、コンクリートを打設、養生して基礎立上り部と桁部を１回のコンクリート打設により一体形成する工程とが少なくとも含まれてなるものである。 - 特許庁 - The laser beam processing method is provided with; a process for forming a wax-film 6 on the surface to be processed in a material 3 to be processed; a process for laser beam-processing by condensing and emitting the laser beam onto a zone to be processed on the surface to be processed from the wax-film 6 side; and a process for removing the wax-film 6.
被加工物３の加工すべき表面にワックス皮膜６を形成する工程と、前記ワックス皮膜６側から前記加工すべき表面の加工すべき領域にレーザを集光照射してレーザ加工する工程と、前記ワックス皮膜６を除去する工程と、を有することを特徴とするレーザ加工方法。 - 特許庁 - By repeating the deposit process and the etch-back process, the thickness of the second mask 16 (18) is adjusted to have a desired thickness, and by repeating the thickness adjustment of the second mask and the in-opening etching process, the inner side face of the opening (the recessed section 19) is substantially inclined.
堆積工程とエッチバック工程とを繰り返すことにより、第２マスク１６（１８）の厚さを所望の厚さに調整し、この第２マスクの厚さの調整と、開口部内エッチング工程とを繰り返すことにより、開口部（凹部１９）の内側面を実質的に傾斜させる、傾斜形状の加工方法。 - 特許庁 - Consequently, the second piston 14 comes to be in the discharge process when the first piston 13 is in the intake process, it is possible to halve discharge of the pump at the time of the discharge process in comparison with the pump with which the discharge processes of the both pistons 13, 14 are simultaneously carried out, it is possible to reduce pulsation and it is possible to reduce noise due to discharging.
これにより、第１ピストン１３が吸入工程のときには第２ピストン１４は排出工程となり、両ピストン１３、１４の排出行程が同時になされるポンプに比べて排出工程時のポンプの排出量を半減でき、かつ、脈動も低減でき、排出による騒音を低減できる。 - 特許庁 - The processing of the molding surface can be completed by a shape creating process for forming the shape of the molding surface of the optical element of the mold 1, a smoothing process for smoothing the molding surface and a mirror surface grinding process for grinding the molding surface using the grindstone particles with a mean particle size of 10-150 nm without applying plating treatment to the molding surface.
金型１の光学素子の成形面の形状を形成する形状創成工程と、成形面を平滑化するスムージング工程と、成形面を平均粒径１０〜１５０ｎｍの砥粒を用いて研磨する鏡面研磨工程により成形面の加工においてメッキ処理を省略して完成させることができる。 - 特許庁 - The method for manufacturing a metal wire comprises a process S1 to form on the surface of a metal wire 2 a primary ternary alloy coated layer 3 composed of copper of 60-75%, copper containing nickel of 4-14%, zinc and nickel; a process S2 to form a copper coated layer 4 over the layer 3; and a wire drawing process S3 to draw the metal wire 2 with a die 5.
金属ワイヤ２の表面に銅比６０〜７５、かつニッケル比４〜１４％の銅、亜鉛、ニッケルの一次の３元合金メッキ層３を形成する工程Ｓ１と、その外側に銅メッキ層４を形成する工程Ｓ２と、この金属ワイヤ２をダイス５で引き抜きく伸線工程Ｓ３とを含む。 - 特許庁 - In the rotation process of an electrophotographic photoreceptor comprising a conductive support and a photosensitive layer formed on the support, when an electrophotographic process including electrostatic charge, exposure, development, and transfer is repeatedly carried out, surface potential of the photosensitive layer by electrostatic charge is lowered after the electrophotographic process is repeated for a prescribed number of times.
導電性支持体及び該支持体上に形成された感光層を有する電子写真感光体の回転過程において、帯電、露光、現像及び転写を含む電子写真プロセスが繰り返し行われる際に、電子写真プロセスが所定回数繰り返されたときに前記感光層表面の帯電電位を低下させる。 - 特許庁 - The stencil printing equipment is equipped with a storage part 12 for memorizing information, a stencil printing processing part 13 for executing a stencil printing process and a controlling part 15 for exclusively controlling the action of the storage part 12 and that of the stencil printing processing part 13 so as to prevent the simultaneous executions of the access process to the storage part and of the stencil printing process from developing.
情報を記憶する記憶部１２と、孔版印刷処理を実行する孔版印刷処理部１３と、記憶部へのアクセス処理と孔版印刷処理とが同時に行われないように、記憶部１２および孔版印刷処理部１３の動作を排他制御する制御部１５とを具備する。 - 特許庁 - A lift-off method is used, soft magnetic thin films 1a are formed by a patternization process, a magnetic field neutral film forming process and an unnecessary part removal process and moreover, by repeating these processes once more, soft magnetic thin films 1b are formed, and a closed magnetic circuit thin film magnetic core 1 consisting of the soft magnetic thin films having an uniaxial anisotropy is formed.
リフトオフ法を用い、パターン化、磁場中成膜、不要部分の除去の工程により、軟磁性薄膜１ａを形成し、さらにこれらの工程をもう１回繰り返すことにより、軟磁性薄膜１ｂを形成し、一軸異方性を有する軟磁性薄膜からなる閉磁路薄膜磁心１を形成する。 - 特許庁 - To provide an apparatus for controlling a temperature of a PCR reaction liquid, adopting a temperature controlling procedure capable of sharply shortening times required for conducting "temperature raising/temperature lowering" operations between each of processes, when a temperature of the reaction liquid is changed according to a heat cycle comprising a "denature process" → an "annealing process" → an "extension process" of PCR reaction.
ＰＣＲ反応の「ディネーチャ工程」→「アニーリング工程」→「エクステンション工程」の熱サイクルに従って反応液温度を変更する際、各工程間の「昇温／降温」操作に要する時間を大幅に短縮することが可能となる温度制御方式を採用する、ＰＣＲ反応液の温度制御装置の提供。 - 特許庁 - In the processing apparatus in which a lithographic printing plate coated with a photosensitive material subjected to image formation with an FM screen or a high-definition AM screen is processed through at least a developing process and a washing process in order, the lower roller 62B of a pair of inlet rollers 62 present at the inlet of the washing process 10 has projected and recessed parts and grooves.
ＦＭスクリーンまたは高精細ＡＭスクリーンで画像形成する感光材料が塗設された平版印刷版を少なくとも現像プロセス、水洗プロセスを順に処理する処理装置において、水洗プロセス１０の入口にある一対の入口ローラ６２の下ローラ６２Ｂに凹凸部または溝を設けた。 - 特許庁 - The method is furnished with a molding process step of molding the diffractive optics by curing the photosetting resin material without heating, a parting process step of parting the molded goods formed by molding from molds and a curing process step of completely curing the molded goods parted from the molds by heating after irradiating the molded goods with light.
光硬化性の樹脂材料を型上で加熱せずに硬化させて回折光学素子を成形する成形工程と、成形された成形品を型から離型する離型工程と、離型された成形品に光を照射した後に加熱することにより完全硬化させる硬化工程とを具備する。 - 特許庁 - To provide a method capable of solving various problems concerning limitation of melt polymerization, small particles-forming conditions and solid polymerization conditions in production of a liquid crystalline polymer having high polymerization degree comprising a melt polymerization process, small particles-forming process and solid polymerization process and more simply producing liquid crystalline polymer having high polymerization degree.
溶融重合工程、小粒子化工程及び固相重合工程からなる高重合度の液晶性ポリマーの製造における溶融重合の限界、小粒子化条件、固相重合条件に関する各種問題点を解決し、高重合度の液晶性ポリマーをより簡単に製造できる方法を提供する。 - 特許庁 - The method for making synthetic fiber fabric with translucent print (dyeing) pattern comprises a printing process before etching process by sodium hydroxide or the like, wherein the printing process comprises printing of paste for dyeing on the surface of the fabric, and/or printing which contains a transparent developer.
水酸化ナトリウム等によるエッチング工程の前にプリント工程を含み、そのプリント工程は織物の表面上に染色用のペーストをプリントすること、および／または透明なプリント用顕色剤を含んでプリントすることを包含する、半透明なプリント（染色）パターンをその上に有する合成繊維織物を製造する。 - 特許庁 - A silicon substrate processing method, wherein hydrogen is introduced from the surface of a silicon substrate to inactivate the defect of the silicon substrate, comprises a process for heating the silicon substrate, a process for quickly cooling the silicon substrate, and a process for irradiating hydrogen against the surface of the silicon substrate.
本発明のシリコン基板の処理方法は、シリコン基板の表面から水素を導入し、シリコン基板の欠陥を不活性化する処理方法であって、シリコン基板を加熱する工程と、シリコン基板を急冷する工程と、シリコン基板の表面に水素を照射する工程とを含むことを特徴とする。 - 特許庁 - The regeneration method includes the dehydration process in which the asbestos-containing waste containing asbestos and cement is heated with superheated steam to remove crystal water in the asbestos, the crushing process for crushing the waste with the crystal water in the asbestos removed, and the burning process for burning the crushed waste.
本発明の再生処理方法は、アスベストおよびセメントを含有するアスベスト含有廃棄物を過熱蒸気で加熱し、アスベスト中の結晶水を脱水する脱水工程と、アスベスト中の結晶水が脱水された廃棄物を粉砕する粉砕工程と、粉砕された廃棄物を焼成する焼成工程とを含む。 - 特許庁 - The manufacturing method of a fluid transporting tube composed of a thermoplastic elastomer or a composite containing it comprises an extrusion molding process for performing extrusion molding, and a pulling process for pulling a molded product obtained in the above process in the extruding direction until a maximum pulling rate becomes 30% or more.
熱可塑性エラストマー又はそれを含む組成物からなる流体輸送用チューブの製造方法であって、押出成型する押出成型工程と、該工程で得られた成型品を押出方向に最大引張り率が３０％以上となるまで引張る引張工程とを含む流体輸送用チューブの製造方法である。 - 特許庁 - The method of manufacturing the glassy carbon-made profiled pipe includes a process for obtaining a thermosetting resin-made cylindrical molding by molding a thermosetting resin, a process for obtaining a thermosetting resin-made profiled pipe by heating and plastically deforming the thermosetting resin-made cylindrical molding and a process for carbonizing resultant thermosetting resin-made profiled pipe.
熱硬化性樹脂を成形して熱硬化性樹脂製円筒状成形体を得る工程と、熱硬化性樹脂製円筒状成形体を加熱しつつ塑性変形して熱硬化性樹脂製異形管を得る工程と、得られた熱硬化性樹脂製異形管を炭素化する工程と、を含むものである。 - 特許庁 - This method comprises a process for downloading the content to be used from a server to a base station; a process for storing the content in the storage memory of the base station; and a process for transmitting the content of the base station to the portable equipment for using the multimedia content.
本発明に係る方法は、使用されるコンテンツをサーバから基地局へダウンロードする工程と、基地局のストレージ・メモリに該コンテンツを格納する工程と、送信が進むにつれて利用できるように、上記基地局のコンテンツをマルチメディア・コンテンツを使用するための携帯機器へ送信する工程と、から成る。 - 特許庁 - In the method for surface-grinding a semiconductor wafer sliced thinly, at least a cleaning process for removing the heavy metal before surface-grinding the semiconductor wafer is performed, and a surface-grinding process is performed after the cleaning process is performed.
本発明は、薄板状にスライスされた半導体ウエーハを平面研削する方法であって、少なくとも、前記半導体ウエーハを平面研削する前に重金属を除去する洗浄工程を行い、該洗浄工程を行った後に平面研削工程を行うことを特徴とする半導体ウエーハの平面研削方法を提供する。 - 特許庁 - The treatment method for decoloring and detoxifying dyeing waste water comprises an azo dye decoloring treatment process for carrying out decomposing decoloring of the azo dye by azoreductase of an azo dye decomposing microorganism under an anaerobic condition and an amine decomposing treatment process for decomposing aromatic amines which are products after decomposing decoloring at the azo dye decoloring treatment process under an aerobic condition.
アゾ染料分解微生物のアゾレダクターゼによりアゾ染料を嫌気的条件下で分解脱色を行うアゾ染料脱色処理工程と、前記アゾ染料脱色処理工程による分解脱色後の産物である芳香族アミン類を好気的条件下で分解するアミン類分解処理工程とからなる。 - 特許庁 - To provide a process for sulfurizing a hydrotreatment catalyst, particularly, a sulfurization-resistant oxide of the hydrotreatment catalyst, the hydrotreatment catalyst sulfurized by the process and use of the hydrotreatment catalyst sulfurized by the process when a hydrocarbon supply raw material is hydro-refined and/or hydro-converted/hydrocracked.
水素化処理触媒、特に耐硫化性の水素化処理触媒酸化物の硫化方法、前記硫化方法によって硫化された触媒、炭化水素供給原料の水素化精製および／または水素化転化／水素化分解のための前記硫化方法によって得られた触媒の使用を提供する。 - 特許庁 - The silica is manufactured by the method including a hydrolysis and condensation process to hydrolyze a silicon alkoxide in the absence of a catalyst and condensing the obtained silica hydrosol to produce a silica hydrogel and a process of adjusting physical properties to subject the silica hydrogel to the hydrothermal treatment succeeding to the hydrolysis and condensation process without ageing.
斯かるシリカは、触媒の不存在下にシリコンアルコキシドを加水分解すると共に得られたシリカヒドロゾルを縮合してシリカヒドロゲルを形成する加水分解・縮合工程と、当該加水分解・縮合工程に引き続きシリカヒドロゲルを熟成することなく水熱処理する物性調節工程とを包含する方法で製造される。 - 特許庁 - The formation method of a silicon film includes: a process for applying a liquid material including a compound having at least a polymerization starting terminal onto a substrate; a process for applying a liquid material including at least a silicide onto the substrate; and a process for stopping a polymerization reaction.
本発明に係るシリコン膜の形成方法は、少なくとも重合開始末端を有する化合物を含む液体材料を基板の上に塗布する工程と、少なくともケイ素化合物を含む液体材料を前記基板の上に塗布する工程と、重合反応を停止させるための工程と、を含む。 - 特許庁 - This method for producing a first process for producing a higher alcohol ester of an α-hydroxy acid oligomer by subjecting an α-hydroxy acid ester and a higher alcohol to dealcoholization condensation and a second process for heating under reduced pressure the higher alcohol ester of an α-hydroxy acid oligomer obtained by the first process to distill off the glycolide.
α−オキシ酸のエステルと高級アルコールとを脱アルコール縮合することによりα−オキシ酸のオリゴマーの高級アルコールエステルを製造する第１工程、及び第１工程で得られたα−オキシ酸のオリゴマーの高級アルコールエステルを減圧下で加熱し、グリコリド類を留去する第２工程から製造方法。 - 特許庁 - The receive side executes a process of removing clipped components of converted digital data at a specified level after converting received OFDM signals to the digital data, and a process of obtaining demodulated signals by optimum estimation from the components removed by the clip component removing process.
受信側での処理として、受信したＯＦＤＭ信号をデジタルデータに変換し、変換されたデジタルデータから所定レベルにクリップされた成分を除去するクリップ成分除去処理と、クリップ成分除去処理で除去された成分から最適推定で復調信号を得る最適推定処理とを行う。 - 特許庁 - A process state measuring means 108 acquires information for the state of each process operating on an external system 120, and a HW (hardware) resource use process number comparison part 110 detects a HW unused state where the number of processes using HW resources is smaller than the number of HW resources from the acquired result.
プロセス状態計測手段１０８は、外部のシステム１２０の上で動作する各プロセスの状態に関する情報を取得し、取得した結果から、ＨＷ（ハードウェア）資源利用プロセス数比較部１１０は、ＨＷ資源を利用中のプロセスがＨＷ資源数より少ないＨＷ未活用状況を検出する。 - 特許庁 - Each process control graphical element identification uniquely identifies a process control graphical element of the operator display, each relationship is between various physical/logical entities and each relationship value reference uniquely identifies a logical and/or physical relationship between two or more entities within the process plant.
各プロセス制御画像要素ＩＤはオペレータディスプレイのプロセス制御画像要素を一意的に識別し、各々の関係性は種々の物理的／論理的エンティティ間のものであり、かつ各関係値リファレンスは、プロセスプラント内の２つ以上のエンティティ間の論理的および／または物理的関係性を一意的に識別する。 - 特許庁 - When entering a time-critical phase of a process, a process control application signals the operating system and utilities, whereupon transition to active procedure mode automatically occurs, in which access by system services and by other applications to resources of the computer is selectively limited in favor of the process control application.
処理の時間制約的な段階に入ると、処理制御アプリケーションはオペレーティングシステム及びユーティリティーに合図し、その時点で処置稼働モードへの遷移が自動的に発生し、処理制御アプリケーションを優先して、システムサービス及びその他のアプリケーションによるコンピューターのリソースへのアクセスは選択的に制限される。 - 特許庁
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