「Process」を含む例文一覧(50000)
＜前へ 1 2 .... 840 841 842 843 844 845 846 847 848 .... 999 1000 次へ＞- Moreover, within the complex, in order to reduce work-in-process and completed product inventory, production management information such as production plans and production volumes in each process is used in the unified management of the supply chain as a whole, from the upstream component and material plants to the downstream assembly plants, and incorporated into the unique automatic transfer system between each process.
また、コンビナート内では、仕掛品や完成品在庫の圧縮を図るため、生産計画や各工程の生産量などの生産管理情報が川上の部素材工場から川下の組立工場に至るサプライチェーン全体で一元管理されており、各工程間は独自の自動搬送システムで連携されている。 - 経済産業省 - This treatment process comprises, raising the temperature of the synthetic resins containing aluminum hydroxide, to a temperature range in which the synthetic resins do not burn, reforming the above aluminum hydroxide to alumina through thermal decomposition, and using the reformed synthetic resins in a smelting process or a refining process of a molten metal as an alumina raw material.
水酸化アルミニウムを含有する合成樹脂類を、この合成樹脂類が燃焼しない温度範囲に昇温して、前記水酸化アルミニウムを熱分解によりアルミナに改質させ、次いで、この改質された合成樹脂類を溶融金属の製錬工程若しくは精錬工程でアルミナ原料として使用する。 - 特許庁 - Consequently, it is possible to automatically and certainly carry out detection of a boundary point to start a honing work process from a speedy extension process of the honing grindstone 10, to shorten working cycle time of the honing work and to precisely control slitting motion of the honing grindstone 10 in the honing work process.
これにより、ホーニング砥石１０の急速拡張工程からホーニング加工工程開始への境界点の検出が、自動的にかつ確実に行うことが可能で、ホーニング加工の加工サイクルタイムの短縮を図ることができるとともに、ホーニング加工工程におけるホーニング砥石の切込み動作を精密に制御できる。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a semiconductor device capable of preventing an alignment mark used for overlapping in a manufacturing process from being deformed asymmetrically in a heat-treatment process, such as activation annealing treatment and epitaxial growth in a manufacturing process in the semiconductor device using SiC for a substrate.
本発明は、ＳｉＣを基板に用いた半導体装置において、製造工程の重ね合わせに用いるアライメントマークが、製造工程中の活性化アニール処理やエピタキシャル成長などの熱処理工程で非対称に変形することを防止することができる半導体装置の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁 - The method includes steps of: receiving process control information from at least one process control device included in the process control system; determining at least one issue associated with a part of the received process control information; receiving the selected status type; determining whether or not at least one issue is associated with the selected status type; and displaying the process control status rollups associated with the selected status type and including at least one issue.
本発明の方法は、プロセス制御システム内に含まれる少なくとも１つのプロセス制御デバイスからプロセス制御情報を受信することと、前記受信されたプロセス制御情報の一部と関連付けられた少なくとも１つの問題点を決定することと、選択された状態タイプを受信することと、前記少なくとも１つの問題点が前記選択された状態タイプと関連付けられているか否かを判定することと、前記選択された状態タイプと関連付けられかつ前記少なくとも１つの問題点を含むプロセス制御状態ロールアップを表示することと、を含む。 - 特許庁 - If the use of a different process cannot be proved, the product shall be deemed to have been manufactured according to the process protected as a utility model provided that, in spite of reasonable efforts, the owner of the utility model has not succeeded in determining the process actually used for manufacturing the product and the use of the process protected as a utility model is likely or if the product manufactured according to the process protected as a utility model is new.
異なる方法が使用されたことを証明することができない場合は，その製品は，実用新案として保護されている方法によって製造されたとみなされる。ただし，実用新案所有者が合理的な努力をしたにも拘らず，その製品の実際の製造に使用された方法を確定することができず，かつ，実用新案として保護されている方法が使用された可能性が高いこと又は実用新案として保護されている方法により製造される製品が新製品であることを条件とする。 - 特許庁 - The compressor 13 of the constitution is manufactured in such procedures that various manufacturing processes except a final process are carried out with only the valve 45 mounted thereon, and at a final process the valve cap 46 is further mounted.
この構成の圧縮機１３は、バルブ４５のみを取り付けた状態で最終工程以外の各製造工程を行い、最終工程でバルブキャップ４６をさらに取り付けるといった手順で製造が行える。 - 特許庁 - To provide a polyester film which keeps a smooth face even in a heating process such as a process to form a release layer and allows a precise checkup to be put into practice even in a test by a Cross Nicol prism method by a polarizing plate.
離型層を設置する工程等の加熱工程においても平面性を保持することができ、偏光板のクロスニコル法による検査においても精度ある検査を実施できるようなポリエステルフィルムを提供する。 - 特許庁 - In a test pattern for scan-designed LSIs, the generator performs a scan-out process 315 for picking up logic values from each flip flop and a scan-in process 316 for writing logic values for the next test in each flip flop at the same time.
スキャン設計されたＬＳＩに対するテストパターンにおいて、各フリップフロップから論理値を取り出すスキャンアウト処理３１５と、各フリップフロップへ次のテスト用の論理値を書き込むスキャンイン処理３１６とを同時に行う。 - 特許庁 - To provide a carrier tape, suitable as a masking tape for metal spray during the process of manufacturing a metallized film capacitor and suitable for subjecting an electronic component or the like to various treatments during a process for temporarily supporting, and conveying the electronic component or the like.
メタライズドフィルムコンデンサ製造工程における金属溶射のマスキングテープとして適し、その他、電気部品等を仮支持して搬送する工程で電気部品等に各種処理を施すに適したキャリア・テープを与える。 - 特許庁 - This manufacturing method consists of a central corrugation part forming process, forming a central corrugation part at the center of a flat plate, and a side corrugation part forming process, forming side corrugation parts at both ends in a state of holding the central corrugation part.
この製造方法は、平板中央に中央波部を形成する中央波部形成工程と、該中央波部を狭持した状態でその両側の側波部を形成する側波部形成工程と、からなる。 - 特許庁 - To solve the following problem: a bias adjusting mode is performed at every process speed in cleaning a second image carrier, so that it takes a long time to start the following image forming operation, regarding an image forming apparatus using a plurality of process speeds.
複数のプロセススピードを持つ画像形成装置において、第二の像担持体のクリーニングを行う時に、それぞれのプロセススピードでバイアス調整モードを実行するため、次の画像形成までに時間がかかる。 - 特許庁 - When prescribed execution conditions are satisfied, the display control device 111 executes a suggestion lottery process and, when winning the suggestion lottery process, controls the auxiliary display part 15 to execute a suggestion performance display.
表示制御装置１１１は、所定の実行条件が成立した場合に示唆抽選処理を行い、当該示唆抽選処理にて当選となった場合、補助表示部１５にて示唆演出表示を行わせる。 - 特許庁 - A process for cutting the band substrate into specified dimensions to produce substrate pieces follows the continuous machining process and a substrate piece having a defective point is specified from the mark and distance of the defective point.
連続加工工程の後、該帯状基板を所定寸法に切断して基板片を得る工程を有し、不良個所の該印からの距離と、該寸法とから、基板片のうちの不良個所を有する基板片を特定する。 - 特許庁 - To provide a conductive roller which is free from hardness nonuniformity and resistance nonuniformity by controlling the deformation of the end part of a cylindrical rubber composition by eliminating temperature nonuniformity in the initial temperature increasing process of a process for vulcanizing/foaming the cylindrical rubber composition.
円筒状ゴム組成物の加硫・発泡工程過程の初期昇温過程の温度ムラを解消して、該円筒状ゴム組成物の端部の変形を抑え、且つ硬度ムラ、抵抗ムラのない導電性ローラを提供する。 - 特許庁 - To provide an image processing system which allows a resource to separate charging process from communication in which connection is easily disconnected while downloading and can perform the charging process even when the connection is disconnected during the downloading.
リソースはダウンロード時に接続が切れ易い通信から課金処理を切り離すことができ、ダウンロード途中で接続が切断された場合でも課金処理を行うことができる画像処理システムを提供すること。 - 特許庁 - To provide a method and a device for biologically treating organic waste water by an anaerobic/aerobic process or an anaerobic/non-oxygen/aerobic process, wherein the amount of the surplus sludge to be generated can be remarkably reduced.
嫌気・好気法あるいは嫌気・無酸素・好気法による有機性排水の生物処理方法において、余剰汚泥の発生量を大幅に削減可能な有機性排水の処理方法及び装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a method and apparatus for forming a film, by which a SiON film can be surely formed on a substrate, the film-forming process can be simplified, and the increase of thermal load applied on the substrate during the process can be sufficiently suppressed.
基体上にＳｉＯＮ膜を確実に形成でき、その成膜工程を簡略化できると共に、その際に基体に付与される熱負荷の増大を十分に抑制可能な成膜装置及び方法を提供する。 - 特許庁 - Any GUI allows any CM to perform a process without any process contradiction between respective CMs without especially considering which one of plurality of CMs in the storage device is a master.
ストレージ装置における複数のＣＭのどれがマスタであるかということを特に意識することなく、どのＧＵＩからも、各ＣＭ間での処理矛盾無く、どのＣＭにおいても処理を実行することが可能となる。 - 特許庁 - To provide a resist treatment method by which a pattern obtained by a resist composition for first resist pattern formation is formed extreamely finely and highly precisely in a multiple patterning process such as a double patterning process.
ダブルパターニング法等のマルチパターニング法において、１回目のレジストパターン形成用のレジスト組成物によって得られたパターンを、極微細に、かつ精度良く形成するレジスト処理方法を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To perform management/maintenance of a document which is used for process control from a document server and a terminal system, to promptly perform update of the document, etc., and to constantly hold a process to be operated at the optimal operating state.
プロセスの制御のために使用しているドキュメントの管理・保守を、ドキュメントサーバ、端末システムから行うことを可能とし、ドキュメントの更新等を迅速に行い、運用されるプロセスを、常に最適な運用状態に保つ。 - 特許庁 - To provide a temperature adjustment controller wherein, related to substrate processing equipment comprising a plurality of process chambers, the temperature adjustment process for all chambers are controlled by one unit, while easily coping with addition of a chamber and specification change.
複数の処理チャンバをもつ基板処理装置において、全チャンバの温度調節プロセスを１台で制御でき、かつチャンバの増設や仕様変更にも容易に対応できる温度調節コントローラを提供する。 - 特許庁 - The method of integrating the silicide metal of a CMOS allows incorporation of silicide contacts (S/D and gates) and metal silicide gates using a self-alignment process (salicide) and at least one lithography process.
自己整合プロセス（サリサイド）と少なくとも１つのリソグラフィ工程を用いてシリサイド・コンタクト（Ｓ／Ｄおよびゲート）と金属シリサイド・ゲートを組み込むことを可能にする、ＣＭＯＳのシリサイド金属を集積化する方法を提供する。 - 特許庁 - To obtain high-precision shape tolerance with respect to a heat dissipation member while obtaining a both-surface heat dissipation structure even when eliminating the need for a process of removing resin burrs of a mold resin and a process for obtaining the high-precision shape tolerance.
モールド樹脂の樹脂バリの除去の工程、および高精度の形状公差を得るための工程を不要としても、両面放熱構造を得ると共に放熱部材について高精度の形状公差を得る。 - 特許庁 - To obtain a thermoplastic resin composition capable of preventing the degradation of a thermoplastic resin in a melt kneading process and molding process and fully exhibiting the reinforcing effect of wollastonite by treating the surface of a fibrous β-wollastonite with a specific phosphate ester.
溶融混練や成形工程における熱可塑性樹脂の分解を防止することができ、繊維状β−ワラストナイトの補強効果を十分に発揮することができる熱可塑性樹脂組成物を得る。 - 特許庁 - To provide a metal substrate with an insulating layer which can be manufactured by a simple process, maintains heat resistance during a semiconductor process, and has a superior withstand voltage property and a small leakage current; and to provide an Al base material for achieving the metal substrate.
容易なプロセスにて製造可能であり、半導体プロセスにおける耐熱性を有し、耐電圧性に優れ、漏れ電流の小さい絶縁層付金属基板、及びそれを実現するＡｌ基材を提供する。 - 特許庁 - The results of this analysis are decided (S105), processing is returned to an arrangement processing process 102 when there is a critical path, and the processing is shifted to the next improvement outline wiring process 106 when no critical path exists.
この解析の結果を判定し（Ｓ１０５）、クリティカルパスがある場合には配置処理工程１０２に処理を戻し、クリティカルパスがない場合に処理を次の改良概略配線工程１０６に移行させる。 - 特許庁 - To provide a toll collection system that saves users if they have passed through a tollbooth without being aware that a process has been incomplete, thereby avoiding trouble during the next process and road congestion, etc.
利用者が処理未了の発生に気づかず料金所を通過してしまった場合にそれを救済し、次回処理時のトラブルや道路の渋滞等を事前に回避することができる料金収受システムを提供する。 - 特許庁 - A random-number addition control part 280 controls a selector 260 according to an image process (image data) and selects and outputs either the image data after the random-number adding process or the input image data.
乱数加算制御部２８０は画像処理（画像データ）応じてセレクタ２６０を制御して画像データによりは乱数加算処理を行った画像データと入力画像データの一方を選択して出力する。 - 特許庁 - To provide the process handling technology that improves the productivity by shortening a carriage cycle, maintains low cost by minimizing additional mechanism, ensures long time for process handling and provides reliable electronic components.
搬送サイクルを短くして生産性を向上させることができるとともに、追加機構が少なく低コストで、工程処理時間を長く確保することができ、信頼性の高い電子部品の工程処理技術を提供する。 - 特許庁 - To provide a work process management system that reliably confirms the location of a predetermined work every time each work is completed in a work process where a worker performs the predetermined work in a plurality of locations.
複数の作業位置で作業者が所定の作業を行う作業工程において、各作業が完了する毎に当該作業の作業位置を確実に確認することができる作業工程管理システムを提供する。 - 特許庁 - To provide an environmental load system, capable of minutely and quantitatively grasping an environmental load in each product kind or in each process so as to measure the environmental load in a production process for a product through the plurality of processes.
複数の工程を経る製品の製造過程の環境負荷を計測するために、製品種別毎や工程毎の環境負荷を詳細かつ定量的に把握できる環境負荷システムを提供する。 - 特許庁 - An encoding device 100 carries out an intra-frame encoding process or an inter-frame encoding process through a prescribed system, or subjects images to orthogonal conversion processing as one of the processes of inter-frame encoding and intra-frame encoding.
符号化装置１００は、所定の方式にてフレーム内符号化またはフレーム間符号化を行い、または前記フレーム内符号化ないしフレーム間符号化のひとつのプロセスとして画像に直交変換を施す。 - 特許庁 - In a negative scanning process of detecting print conditions from respective frames of a negative roll 62 having been developed, the numbers of prints are detected by the frames (step S16) according to detection results of the print conditions of the process.
現像済みのネガロール６２の各駒からプリント条件を検出するネガスキャン工程時に、その工程でのプリント条件の検出結果に基づいて１件毎のプリント枚数を事前に検出する（ステップＳ１６）。 - 特許庁 - A mold layer provided with a flow channel by a stamper is formed in a molding process, and a resin layer in which the mold layer is solidified by irradiation of electron beam to provide a gas channel is formed in the mold layer solidifying process.
成型工程で、スタンパによって流路が設けられた成型層を形成し、成型層硬化工程で、成型層を電子線照射により硬化してガス流路が設けられた樹脂層を形成する。 - 特許庁 - Thus, the access request that should be restrained upon the exclusive process is prevented from undergoing an arbitration process, and the time from when the initiator makes an access request until the access request is accepted is reduced.
このため、排他処理に伴って抑止されるべきアクセス要求が調停処理されることを防止し、イニシエータがアクセス要求を行ってからアクセス要求が受理されるまでの時間を短くすることが出来る。 - 特許庁 - The partial wiring of the decoder circuit 6 is wired by a manufacturing process posterior to a process for storing a program in the ROM 3, and at least one of regions accessible from the CPU 2 in the ROM 3 is decided.
デコーダ回路６の一部配線は、プログラムをＲＯＭ３に書き込み格納する工程より後の製造工程で、配線が行われて、ＲＯＭ３でＣＰＵ２からアクセス可能な領域の少なくとも一つが決定される。 - 特許庁 - To provide a control system for an automobile to cooperatively process software for controlling with a plurality of ECUs capable of smoothly executing management process of the software for controlling of rewriting, installation, etc. without causing mismatch, etc.
制御用ソフトウェアを複数のＥＣＵで連携処理する自動車用制御システムにおいて、書き換えやインストール等の制御用ソフトウェアの管理処理を、不整合等を生ずることなくスムーズに実施できるようにする。 - 特許庁 - Accordingly, it is possible to take over a value added in a semiconductor device manufacturing process in at least a process to single crystallization to manufacturing of a solar battery, thus realizing great reduction of a cost.
これにより、少なくとも単結晶化に至るまでの工程において半導体デバイス製造工程にて生じた付加価値を、太陽電池製造に引き継ぐことが可能となり、大幅なコスト削減を実現できるようになる。 - 特許庁 - A model execution control part 31 and a model operating engine 33 use an input from a business definition screen 64 and information from a PLC/DCS 50 to execute a business process and a production process according to the model.
モデル実行制御部３１及びモデル作動エンジン３３は、業務定義画面６４からの入力やＰＬＣ／ＤＣＳ５０からの情報を用いて、モデルに従った業務プロセス及び生産プロセスを実行させる。 - 特許庁 - To prevent a silicon film layer from being flocculated in a heat treatment process, in the manufacturing method of a semiconductor device for forming the silicon film layer on an insulator layer and forming a protection film on the silicon film layer through the heat treatment process.
絶縁体層上にシリコン膜層を形成し，熱処理工程を経てシリコン膜層上に形成する半導体装置の製造方法において，熱処理工程でシリコン膜層が凝集することを防止する。 - 特許庁 - When the color ink 3 for CMYK is applied in accordance with image data after the process liquid 2A is formed, the process liquid 2A and the ink 3 react with each other on the paper 16 and ink dots 3A (required image) are formed.
処理液層２Ａが形成された後に画像データに応じてＣＭＹＫの各色インク３を打滴すると、用紙１６上で処理液層２Ａとインク３が反応してインクドット３Ａ（所望の画像）が形成される。 - 特許庁 - This method of forming image comprises a process for recording the ink composition containing a precursor capable of being converted into an insoluble pigment by a base on a recording medium, and a process for generating the base on the recording medium.
塩基により不溶性顔料に転換され得る前駆体を含有するインク組成物を、記録媒体上に記録するプロセスと、該記録媒体上で塩基を発生させるプロセスを有する画像形成方法。 - 特許庁 - This wire width processing method of a superconductive wire comprises a process S10 for preparing the superconductive wire S, and a processing process S30 for cutting the superconductive wire S by processing parts 31-35 having cutting pairs of parts 21-30 facing to each other.
超電導線材Ｓを準備する工程（Ｓ１０）と、対向する２つの切断部２１〜３０を備える加工部３１〜３５により、超電導線材Ｓを切断する加工工程（Ｓ３０）とを備える。 - 特許庁 - An etching process using first and second patterns is performed; and a hard mask pattern (111) shown in Fig. 6 is formed with a partial region of an interlayer insulation film (103), which is a contact hole region to be formed in a subsequent process, exposed.
第１，第２パターンを用いたエッチング工程を行い、後工程で形成されるコンタクトホール領域である層間絶縁膜(103)の一部領域を露出させてハードマスクパターン（図６参照：111）を形成する。 - 特許庁 - Therefore, in the button sewing process and the root winding sewing process, sewing work can be performed correspondingly to the form or kind of a fabric or button and workability or accuracy in sewing work can be improved.
従って、ボタン縫製工程及び根巻き縫製工程に関して、布地やボタンの形状、種類等に応じた縫製作業を行うことが可能となり、また、縫製作業の作業性や精度を向上させることができる。 - 特許庁 - Since a gap or a difference in level between both ends 11, 12 is relaxed in the preliminary process, both ends 11, 12 are securely welded to each other in the regular welding process, with welding reliability improved at the coil end.
予備工程で両端部１１，１２の間の隙間や段差が緩和されているので、本格溶接工程ではしっかりと両端部１１，１２が互いに溶接され、コイル端部での溶接信頼性が向上する。 - 特許庁 - This pattern forming method has the first process for coating a substrate P having a lyophilic part Pa with liquid droplets containing a liquid repelling material to form the liquid repelling part H and the second process for coating the lyophilic part Pa with the functional liquid.
親液部Ｐａを有する基板Ｐに対して、撥液材料を含む液滴を塗布して撥液部Ｈを形成する第１工程と、親液部Ｐａに機能液を塗布する第２工程とを有する。 - 特許庁 - A polycrystalline semiconductor film forming apparatus 10 of the present invention comprises a first heat treatment unit 20 configured to perform the first heat treatment process and a second heat treatment unit 30 configured to perform the second heat treatment process.
本発明の多結晶半導体膜形成装置１０は、上記の第１熱処理工程を実施する第１熱処理装置２０と、上記の第２熱処理工程を実施する第２熱処理装置３０とを備える。 - 特許庁 - To provide a liquid crystal display device and a method for its manufacturing which can realize the reduction of cycle frequencies in a photolithography stage, shortening of a process lead time and a cost reduction in a process for TFT array manufacturing as a whole.
フォトリソ工程のサイクル数を低減し、プロセスリードタイムを短縮することができ、ＴＦＴアレーの全製造プロセスにおけるコストを削減することができる液晶表示装置およびその製造方法を提供する。 - 特許庁
