「Process」を含む例文一覧(50000)
＜前へ 1 2 .... 841 842 843 844 845 846 847 848 849 .... 999 1000 次へ＞- In the polarizing film manufacturing method that includes a coloring process and a drawing process, a plurality sheets of film are soaked in at least one processing tub at the same time without being in contact with one another.
染色処理工程および延伸処理工程を有する偏光フィルムの製造方法において、少なくとも一つの処理浴中で、複数枚のフィルムを同時に、接触させることなく浸漬することを特徴とする。 - 特許庁 - A data transfer request management part 208 when receiving a data transfer request from a data process part 206 checks whether or not a printer channel is currently used by precedent data transfer from a data process part.
データ転送要求管理部２０８は、例えば、データ処理部２０６からのデータ転送要求を受信すると、それ以前のデータ処理部からのデータ転送によって現在プリンタチャネルが使用されているかどうかを調べる。 - 特許庁 - With regard to an image data process by controlling writing and readout of image data so as to be completed within one access cycle, a processing using a field memory is made processable in substitute for the conventional process, where a frame memory has been used.
画像データ処理に関して、従来フレームメモリで処理していたものを、画像データの書き込みと読み出しが１アクセスサイクル内に完了するように制御することで、フィールドメモリを用いた処理を可能とする。 - 特許庁 - To produce a decoded image having good image quality as much as possible, and to improve process efficiency by neglecting waste entropy decoding process, even when a code which cannot be decoded normally is to be included in coding data.
符号化データ中に正常な復号が不可能な符号が含まれている場合でも、できる限り画質の良好な復号画像を生成し、かつ、無駄なエントロピー復号処理を排除して処理効率を向上させる。 - 特許庁 - To output an image signal which controls a selection storing process of a ringing-shaped noise component corresponding to an operation mode of a camera apparatus and eliminates the ring-shaped noise component by an optimum process corresponding to the operation mode.
カメラ装置の動作モードに応じてリンギング状ノイズ成分の抽出記憶処理を制御して、動作モードに応じた最適な処理によってリンギング状ノイズ成分を除去した映像信号を出力する。 - 特許庁 - To provide a thin film transistor which allows a size of each crystalline grain in a channel region to be increased, can efficiently protect the channel region of a semiconductor layer during an etching process, and can reduce process cost.
チャネル領域における結晶粒のサイズを大きくし、エッチング工程時に半導体層のチャネル領域を効率的に保護することができ、工程コストを節減することのできる薄膜トランジスタを提供する。 - 特許庁 - A cooking heating process is controlled depending on at least two temperature values detected through a cooking heating process probe insertable at least partially into a cooking heating article.
本発明は、加熱調理物質に少なくとも部分的に差込み可能な加熱調理プロセスプローブを介して検出された少なくとも２つの温度値に依存して加熱調理プロセスを制御するための方法に関する。 - 特許庁 - To provide a toner which has excellent fixed image quality with respect to a fixing process at a high process speed, can suppress inside contamination even if the toner is frequently used, and can maintain excellent image quality for a long period of time.
プロセススピードの速い定着プロセスに対して良好な定着画像品質を示し、度重なる使用においても機内汚染を抑制でき、長期にわたって優れた画像品質を維持できるトナーを提供する。 - 特許庁 - To provide a manufacturing technique of semiconductor devices capable of setting a residual level difference in CMP polishing to not more than a prescribed value, improving the manufacturing throughput of a film deposition process and a CMP process, and suppressing costs.
ＣＭＰ研磨における残留段差を規定値以下としつつ、膜堆積プロセスとＣＭＰプロセスの製造スループット向上とコスト抑制を実現することができる半導体装置の製造技術を提供する。 - 特許庁 - To provide a load distribution method of a video stream sending process and apparatus thereof, which can prevent concentration of a load to a specific process, and to provide a distribution program and recording medium with the program recorded thereon.
特定のプロセスへの負荷の集中を防ぐことができるビデオストリーム送信プロセスの負荷分散方法及び装置と負荷分散プログラムと該プログラムを記録した記録媒体を提供することを目的とする。 - 特許庁 - The method of forming a single-crystal silicon-on-insulator (SOI) structure on a silicon substrate comprises a process in which an amorphous silicon layer is formed on an insulating layer and a process in which the amorphous silicon layer is brought into contact with the substrate via the insulating layer.
シリコン基板の上に単結晶シリコン・オン・インシュレータ（ＳＯＩ）構造を形成する方法が、絶縁層の上にアモルファス・シリコン層を形成すること、および絶縁層を介して基板に接触させることを含む。 - 特許庁 - To visualize and measure the flow of polishing liquid and abrasive grain, which is considered one factor for polishing process evaluation and resolve the polishing process, thereby attaining the stabilization of the polishing capability and realizing precise polishing of parts.
研磨プロセス評価の要因の一つと考えられている、研磨液と砥粒のながれを可視化計測し、研磨加工プロセス解明を行い、研磨加工能率安定化を達成、高精度部品研磨を実現させる。 - 特許庁 - To provide a distributed server system and a server for easily controlling the start order of an application process(AP) and for realizing the reduction of development workloads and the enlargement of a process application range and the improvement of the stabilization of this system.
アプリケーションプロセス（ＡＰ）の起動順序の制御を容易にし、また、開発作業量の軽減、プロセス適用範囲の拡大、システム安定性の向上が図れる、分散サーバシステムおよびサーバを提供する。 - 特許庁 - METHOD AND SYSTEM FOR DECIDING AT LEAST DESIGN RULE OR PROCESS PARAMETER, AND MANUFACTURING METHOD OF SEMICONDUCTOR IC USING DECISION METHOD, AND SYSTEM FOR DECIDING AT LEAST ONE OF DESIGN RULE AND PROCESS PARAMETER
デザインルールおよびプロセスパラメータの少なくとも一方を決定する方法、この決定方法を用いた半導体集積回路装置の製造方法、並びに、デザインルールおよびプロセスパラメータの少なくとも一方を決定するシステム - 特許庁 - To provide a system to facilitate a finishing process for paper outputted from a plurality of copying machines and a system for carrying out the finishing process together for the paper outputted from the machine itself and paper outputted from other machines.
複数の複写機から出力された用紙のフィニッシング処理を容易に行うためのシステム、および自身で出力する用紙と他の複写機で出力した用紙を会わせてフィニッシング処理するシステムを提供する。 - 特許庁 - To provide a high-precision, non-contact, real-time temperature measuring method by reducing the effects of the manufacturing process, fixtures, or the like in the measurement of wafer temperature in the semiconductor manufacturing process.
半導体生産プロセスにおけるウエハの温度計測の方法に関して、生産工程の影響や固定具等からの影響を低減し、より精度の高い非接触かつリアルタイムの計測方法を供給する。 - 特許庁 - The controlling apparatus 9 stops the screw 25 in the pressure keeping process after the filling process, and regulates the screw 25 from retracting until the pressure of the synthetic resin in the cavity 13 falls to a set pressure for the pressure keeping.
制御装置９は充填工程の後の保圧工程でスクリュー２５を停止しキャビティ１３内の合成樹脂の圧力が保圧設定圧力まで低下するまで該スクリュー２５が後退することを規制する。 - 特許庁 - In the image forming device and its control method, when the door opening is detected, the predetermined process is carried out (2) and when door closing is detected thereafter continuously for a specified time T, the process carried out when the door opening is detected is canceled (4).
ドアオープンが検知された時点で予め定められた処理を実行する（▲２▼）と共に、その後ドアクローズが所定時間Ｔ継続して検知された場合には、ドアオープン検知時に行った処理を取り消す（▲４▼）。 - 特許庁 - Power generation is conducted with the assembly prepared in the first process, or the manufacturing method includes a second process moving the cations in the polymer electrolyte of the assembly by applying voltage to the assembly.
また、第１の工程で用意した接合体を用いて発電を行ない、あるいは、接合体に電圧を印加して、接合体が備える高分子電解質内で上記カチオンを移動させる第２の工程を備える。 - 特許庁 - An instruction code fetch part 101 fetches an instruction code from a memory; a decoding part 102 executes decoding corresponding to a plurality of kinds of instruction sets; and a process execution part 104 executes the process according to the decoding result.
命令コードフェッチ部１０１は、メモリから命令コードをフェッチし、デコード部１０２は、複数種類の命令セットに対応したデコードを行い、処理実行部１０４は、デコード結果に応じた処理を実行する。 - 特許庁 - (2) The method for forming the transparent conductive film contains a process in which the solution dissolving the (1) composition into solvent of water or composed of the water and organic solvent is applied on a substrate, and a process in which the applied film is baked.
▲２▼ ▲１▼の組成物を水又は水と有機溶媒からなる溶媒に溶解させた溶液を基板上に塗布する工程と、塗布膜を焼成する工程とを含む透明導電膜の形成方法。 - 特許庁 - Furthermore, the forming process to the sealing process of the protection film can be carried out without reducing pressure necessarily, a large scale vacuum device is not required, and the time required for manufacture can be shortened to give a further benefit.
また、この保護膜形成工程後から封着工程までは、必ずしも減圧しなくても良いため、大掛かりな真空装置が必要なく、製造に要する時間を短縮することができるという利点がある。 - 特許庁 - To provide a cooking apparatus and a cooking method that can perform a cooking process in accordance with cooking conditions corresponding to the amount of food to be cooked actually when performing the cooking process by using a bar code printed on a food package.
調理物の包装に印刷されたバーコードを利用した調理において実際に調理される調理物の量に適合する調理条件で調理を行える調理装置及び調理方法を提供する。 - 特許庁 - In the following initial guide creation process S12, an initial guide is created by generating parallel lines in the upper and lower sides of the locus of the flexible medium, and in a locus section division process S13, the locus is equally divided by defined intervals.
続く初期ガイド作成処理（Ｓ１２）では、柔軟媒体の軌跡に対して、上下に平行線を作成して初期のガイドを形成し、軌跡区間分割処理（Ｓ１３）では、軌跡を定義された間隔で等分割する。 - 特許庁 - The management computer specifies a process to carry in the materials next based on the notification of the work performance and an order of the process, and issues a carry-in instruction of the materials based on the computed unused amount of materials.
そして、作業実績通知と工程の順番とに基づいて次に資材を搬入すべき工程を特定し、その工程について、算出した未使用の資材量に基づいて資材の搬入指示を行う。 - 特許庁 - The manufacturing method has a process for depositing the silicon film in a recessed part formed on a main surface side of a semiconductor substrate 10 and a process for heat-treating the silicon film 50 where the seam part 51 is formed at 1,000°C or above.
半導体基板１０の主表面側に形成された凹部にシリコン膜を堆積する工程と、シーム部５１が形成されたシリコン膜５０に１０００℃以上にて熱処理を施す工程とを備える。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing an optical fiber cable by which assembled coated optical fibers is prevented from separating before entering into a process to intertwist a fibrous material onto the coated optical fiber assembled in an assembling process.
集合工程で集合させた光ファイバ心線の上に繊維材料を撚り合わせる工程に入る前に、集合させた光ファイバ心線がばらけることを防止できる光ファイバケーブルの製造方法を提供する。 - 特許庁 - In a process A, a high projection 22A is formed on the surface of an insulating substrate 11, and in the process B, the projection 22A is covered by a film 25 to form a tent 26A with a high height using the projection 22A as a strut.
工程Ａにおいて絶縁基板１１の表面上に背の高い突起２２Ａを形成し、工程Ｂにおいて突起２２Ａをフィルム２５を用いて覆い、突起２２Ａを支柱とする背の高いテント２６Ａを形成する。 - 特許庁 - The phoneme judged as matched in this judgment process 3 is conditionally brought out of a tilt limit, and inputted to a pass transition permission process 4 for tilt '0' and is permitted to pass with the tilt '0' for being matching-processed.
この判定工程３で一致すると判定された音素は、傾斜制限を条件付きで無くす、傾き「0」のパス遷移許可工程４に入力されて、傾き「0」のパスが許可されてマッチング処理される。 - 特許庁 - To provide a consumable product containing metabolic products of probiotics and processable by a conventional drying process or concentrating process without causing the destruction and loss of the metabolic products in a fermentation medium obtained by the cultivation of the probiotics.
従来の乾燥プロセスや濃縮プロセスによってプロバイオティックスを培養した発酵培地中に存在する代謝産物が破壊されたり失われることのない、プロバイオティックス代謝産物摂取製品の提供。 - 特許庁 - To provide a fabricating process of an electrode structure in which an increase in the contact resistance due to heat of about 150°C-350°C in the assembling process can be suppressed without requiring a heat treatment of about 400°C-600°C.
約４００℃〜約６００℃の熱処理を行うことなく、組立プロセスにおける約１５０℃〜約３５０℃の熱に起因するコンタクト抵抗の上昇を抑制することが可能な電極構造の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To obtain art alcohol-containing glucidic seasoning such as a Mirin (sweet sake), a fermented seasoning or a Mirin-like seasoning excellent in functions on a cooking process such as a prevention of breaking into pieces in the cooking process of foods.
食品の調理加工の際における煮崩れ防止等の調理加工上の機能にすぐれた、みりん、発酵調味料、みりん風調味料などの酒精含有糖質調味料を提供すること。 - 特許庁 - The fluid for process is supplied while a supply nozzle 33a of the fluid for process is adjusted in its position along the first axis x on the basis of the result of above calculation and is always directed toward the above crossing point.
処理用流体の供給ノズル３３ａを前記算定結果に基づいて第１軸ｘに沿って位置調節し前記横断地点に常時向けられるようにしながら、処理用流体の供給を行なう。 - 特許庁 - To further reduce dioxins contained in the exhaust gases of a process of making food, a process of manufacturing cement, a blast furnace, a coke oven, a shaft furnace, a rotary kiln, a stoker furnace, a fluidized bed furnace, a cupola, a melting furnace, a gasification melting furnace and the like.
食品加工処理プロセス、セメント製造プロセス、高炉及びコークス炉、シャフト炉、ロータリーキルン、ストーカー炉、流動床炉、キュポラ、溶融炉、ガス化溶融炉等の排ガス中に含まれるダイオキシン類をさらに抑制する。 - 特許庁 - The welding faces 2aa, prior to the assembly and welding process of the pair of frame side members 2, 2, are cut so as to have same twisting amount in absolute value as the twisting amount, after, the assembly and welding process and to be in a reverse-directed twisting.
前記一対の枠辺部材２，２における組立／溶接工程前の溶接面２ａａは、組立／溶接工程後のねじれ量と絶対値が等しく、逆向きのねじれとなるように切削される。 - 特許庁 - To provide a terminal for reflecting comments issued to the reproducing time in the past on the reproduced image at the reviewing time and for reducing a load imposed on the seeking process and on the loading process.
過去の再生時間に対して発言されたコメントを閲覧している時点の再生画面に反映させることができる、シークにかかる処理およびロードにかかる処理の負荷を軽減させる端末装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a processing process managing method and system capable of stabilizing the quality of a product, and improving yield by providing a means for properly varying a processing condition between each process.
各工程間におけるプロセス条件を適切に変動させる手段を設けることで、製品の品質を安定性させ、歩留まりを向上させることが可能なプロセス工程管理方法及び装置を提供すること。 - 特許庁 - When the item of the process 3 selected like this satisfies a prescribed condition such as to be used more than 8 times within 7 days, for example, the menu of the 'process 3' is displayed separately from the menu bar 22.
このようにして選択した工程３の項目が、所定の条件たとえば７日以内に８回以上使用されるといった条件を満たすとき、画面上にメニューバー２２とは別に“工程３”のメニューを表示する。 - 特許庁 - To provide a service allowing a user knowing an operation method for realizing a certain process about a particular tool to easily retrieve an operation method for realizing an equivalent process by using another tool.
特定のツールについては、ある処理を実現するための操作方法を知っている利用者が、別のツールを用いて同等の処理を実現するための操作方法を容易に検索できるサービスを提供する。 - 特許庁 - To enable handling of operational troubles in each process quickly and properly without reference to each ability of reading information and business experience of process manager and designing technical worker in production of optically coupled element.
光結合素子の生産において、各工程での工程トラブルの対処を、工程管理者や設計担当技術者などの個々の情報読解能力や実務経験に関わらず、迅速かつ的確に行えるようにする。 - 特許庁 - To provide a cylinder block processing method and a jig for it capable of suppressing effectively, when a cylinder block undergoes a finishing process, deterioration of the cylinder bore roundness in the process of installing a cylinder head.
シリンダブロックの仕上げ加工に際し、シリンダヘッドの組み付け時におけるシリンダボアの真円度の悪化を効果的に抑制することができるシリンダブロックの加工方法及び加工用治具を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To provide a silicon wafer and its manufacturing method wherein not only expansion of slip at the time of each high temperature thermal treatment of a wafer manufacturing process but also expansion of slip in each high temperature thermal treatment in a device process can be restrained.
ウェーハ製造工程の各高温熱処理時のスリップの伸長だけでなく、デバイス工程における各高温熱処理中のスリップの伸長も抑制可能なシリコンウェーハおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁 - In a third steering process L5, only the right wheel 3b is rotated in the same direction and amount just for the same as a steering amount in the first steering process L1 and steered around the grounding point of the left wheel 3a as the center.
第３の操向工程Ｌ５では、第１の操向工程Ｌ１における操向量と同じ分だけ同方向に右車輪３ｂのみを回転させ、左車輪３ａの接地点を中心にして操向する。 - 特許庁 - A voltage of 24 V rises during a reset process and a RAM checking process, but the voltage rise can be suppressed, by turning on transistors 516, 536 and by conducting a main fan 410 and a PS fan 430.
リセット処理時やＲＡＭチェック処理時には２４Ｖ電圧が上昇するが、トランジスタ５１６，５３６をＯＮしてメインファン４１０及びＰＳファン４３０に通電することで電圧の上昇が抑制される。 - 特許庁 - Therefore, even if, for example, with a complex process in which a plurality of functional processes overlap one another, the setting information of a recorded job can be called to quickly perform a wanted process with no error.
これにより、例えば複数の機能処理が重なった複雑な処理であっても、記録されているジョブの設定情報を呼出して行うことにより、希望の処理を間違えずに迅速に行うことが可能となった。 - 特許庁 - When the real-time production data exceeds the control limit, the process is considered out of control and product produced during the out of control condition is removed real-time from the injection molding production process.
リアルタイム製造データが管理限界を超えたときには、該プロセスは管理されない状態とみなされ、管理されない状態の下で製造された製品は、射出成形製造プロセスからリアルタイムに取り除かれる。 - 特許庁 - To solve a problem wherein, since a second process recipe is not corrected even when a first recipe is corrected based on a processing result, a target value of a physical amount of a processing object is deviated when processing based on the second process recipe is executed.
処理結果に基づいて第１のプロセスレシピを修正しても、第２のプロセスレシピの修正が行われないため、第２のプロセスレシピに基づいた処理を行うと、処理対象の物理量が目標値がずれてしまう。 - 特許庁 - A prefilter part 13 is arranged at a precedent stage of an encoder part 14, where input image information is subjected to compression and encoding process, and process is performed in the prefilter part 13, by using filter characteristics suitable for the feature of the image information.
入力した映像情報を圧縮及び符号化処理するエンコーダ部１４の前段に、プリフィルタ部１３を配置し、このプリフィルタ部１３にて映像情報の特質に適したフィルタ特性を用いて処理する。 - 特許庁 - Prior to a process in which water in the electrode plate is removed by heat treatment and concurrently the thickener is dispersed, a process of heat treatment in a high temperature atmosphere of boiling point or more of water by introducing steam is provided.
熱処理により極板中の水分を除去し、あわせて増粘剤を飛散させる工程に先立って、水蒸気を導入した、水の沸点以上の高温雰囲気中において熱処理する工程を設ける。 - 特許庁 - To provide a secure computing system that can execute a secure computing process even in the absence of a special security circuit for controlling processor-specific operations when executing a computing process using a multi-core processor.
マルチコアプロセッサを用いて計算処理を実行する際、プロセッサごとの動作を制御する特別なセキュリティ回路を備えていない場合であっても、セキュアに計算処理を実行できるセキュア計算システムを提供する。 - 特許庁
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