「Process」を含む例文一覧(50000)
＜前へ 1 2 .... 844 845 846 847 848 849 850 851 852 .... 999 1000 次へ＞- The method for producing a polymer comprises a process precipitating the polymer under agitation of the polymer solution, wherein the precipitation process is carried out by agitating with an axial flow type stirring blade.
重合体溶液を攪拌しながら重合体を沈殿させる工程を含む重合体の製造方法であって、上記沈殿工程は、軸流型の攪拌翼を用いて攪拌することを特徴とする重合体の製造方法。 - 特許庁 - To provide a large product packaging device having good handling properties using a pallet used as a bottom plate whereon a large product is to be placed all through from a manufacturing process for the product to a packing process for the product.
大型製品が載置される底板をなすパレットを、その製品の製造工程から該製品の梱包まで一貫して用いるようにした取り扱い性の良い大型製品の梱包装置を提供する。 - 特許庁 - During the liftoff process which is the most important process in the conductor pattern forming method, an entire substrate 1 is held by a chuck 10 and rotated together with the chuck 10 at the rotation speed ω of 1,000-1,500 rpm.
この導体パターン形成方法における最も主要な工程であるリフトオフ工程では、基板１全体をチャック１０で保持し、チャック１０と共に１０００〜１５００ｒｐｍの回転速度ωで回転させる。 - 特許庁 - The agent 600 corrects a control parameter value of a control circuit with a process value calculated by use of the plant simulator as input, with a difference between a prescribed target process value and a target value thereof as an evaluation index.
エージェント６００は、プラントシミュレータを用いて計算したプロセス値を入力とし、所定の対象プロセス値とその目標値との偏差を評価指標として制御回路の制御パラメータ値を修正する。 - 特許庁 - To provide a process conditions deciding device which supplements a shortage of historical data required for feedback, while suppressing an impact made by differences between a plurality of processing equipment and processing members on a decision of process conditions.
複数の処理装置間及び処理部材間の差がプロセス条件の決定におよぼす影響を抑えつつ、フィードバックに要する履歴データの不足を補うことが可能なプロセス条件決定装置を提供する。 - 特許庁 - When this fluorine F is introduced into the process chamber 2, the fluorine F reacts chemically with the Si film and SiO2 film sticking to the inside wall, etc., of the process chamber 2 and the Si film and SiO2 film are decomposed away.
このフッ素Ｆがプロセスチャンバー２内に導入されると、プロセスチャンバー２の内壁等に付着したＳｉ膜やＳｉＯ_2膜に対してフッ素Ｆが化学反応し、Ｓｉ膜及びＳｉＯ_2膜が分解除去される。 - 特許庁 - Between the ultraviolet ray erasing process of setting a non-volatile semiconductor storage device to an erased state and the assembling process of packaging an IC chip scribed from a wafer, an IC is subjected to heat treatment of 250°C.
不揮発性半導体記憶素子を消去状態とする紫外線消去工程と、ウェハから切り分けられたＩＣチップをパッケージする組立工程との間にて、ＩＣに対して２５０℃の熱処理を施す。 - 特許庁 - To provide a direct connection molding vulcanizing system which can immediately feed back a tire inspection result to a molding process for assembling raw tires without deteriorating labor environment caused by heat to be generated in the vulcanizing process.
タイヤの検査結果を、生タイヤを組み立てる成形工程に直ちにフィードバックすることができ、また、加硫工程で発生する熱により、労働環境を悪化させることのない、直結成形加硫システムを提供する。 - 特許庁 - Such undisaggregated fiber bundles as mentioned above are prevented from being left by manufacturing conventional inorganic short fiber felts using a feedstock produced by the use of an apparatus where the fiber disaggregation process is of beating drum type and an oiling unit is incorporated into the disaggregation process.
解繊工程をビートドラム式とし解繊工程中に給油装置を組み込んだ装置により製造された原料を用いて従来の無機短繊維フェルトを製造する事により未解繊束の残存を防止する。 - 特許庁 - To provide a very useful process cartridge and an image forming apparatus by adapting a process cartridge for common use to a different kind of image forming apparatus without any restriction of an exposure path for latent image forming laser light.
潜像形成レーザ光の露光経路に制約されず、共用性のプロセスカートリッジを異機種の画像形成装置に対応させることで極めて有用なプロセスカートリッジおよび画像形成装置を提供する。 - 特許庁 - The wet etching device 1 is capable of housing a substrate inside, and comprises a process bath 2 for holding a chemical liquid for etching and transportation arms 3a and 3b for transporting a semiconductor substrate 6 into the process bath 2.
ウェットエッチング装置１は、内部に基板を収容可能であり、エッチングのための薬液を貯留する処理槽２と、処理槽２内に対して半導体基板６を搬送する搬送アーム３ａ・３ｂとを備えている。 - 特許庁 - To provide an image subtractive color process device and method enabling fast processing by making the amounts of calculations for selection of a representative color in a subtractive color process smaller than before, while minimizing image degradation.
画像の劣化を最小限にとどめながら、減色処理における代表色選定時の計算量の従来より低減し、処理の高速化を可能とする画像減色処理装置及び方法を提供する。 - 特許庁 - When either of the touch switches is touched, the name of the detailed operating process stored in relation to the touch switch and the condition of the detailed operating process obtainable via the address are displayed on the display panel.
前記タッチスイッチがタッチされるとき、そのタッチスイッチに関連して記憶された前記詳細動作工程の名称と前記アドレスにより得られる該詳細動作工程の実行状況を前記表示板上に表示する。 - 特許庁 - To facilitate specification of failure cause in detection of a quality failure in a production process of a lengthy web-like product by facilitating reference to process data or circumferential environmental data corresponding to the failure position.
長尺ウェブ状製品の製造工程において、品質不良を検出した際に、その不良箇所に対応するプロセスデータや周辺環境データを参照しやすくし、不良発生原因の特定を行いやすくする。 - 特許庁 - In the manufacturing method of the optical element with a plurality of metal wire grids provided on a substrate, the metal wire grids are manufactured according to an LSP (Liquid Self-patterning Process).
本発明は、基板上に複数の金属ワイヤグリッドを備えた光学素子の製造方法であって、前記金属ワイヤグリッドを、ＬＳＰ(Liquid Self-patterning Process)で作製することを特徴とする光学素子の製造方法を提供する。 - 特許庁 - The method includes a process of suspending the dialogue, in response to a given temporal suspension command with SDS (18), and a process of continuing the dialogue, in response to a given continuation command with SDS (18).
本方法は、ＳＤＳ（１８）によって、所定の一時停止コマンドの受信に応じて対話を中断する工程、およびＳＤＳ（１８）によって、所定の継続コマンドの受信に応じて対話を継続する工程を包含する。 - 特許庁 - To provide a system of a packaging process simulation and a method thereof capable of providing a single evaluation standard which can be synthetically evaluated in the packaging process simulation including a plurality of processes.
本発明は、複数の工程を含む実装工程のシミュレーションにおいて、総合的に評価できる単一の評価基準を提供することができる実装工程シミュレーションのシステム及びその方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing an inkjet recording head that can manufacture a high quality orifice plate by readily removing a by-product material created in the orifice forming process and can realize the process with high productivity.
オリフィス形成工程において発生する副生成物を容易に除去することにより、高品質のオリフィスプレートを製造し、かつ生産性の高いプロセスを実現し得るインクジェット記録ヘッドの製造方法を提供する。 - 特許庁 - A process of manufacture of an organic EL display device simultaneously performs patterning of a cathode 4 and transferring of a light emitting layer 5 by a transferring method using a laser beam, simplifies the process and improves display performance.
有機ＥＬ表示装置の製造方法において、レーザー光を用いる転写法により、陰極のパターニングと発光層の転写を同時に行い、プロセスの簡略化と表示性能の向上を実現した。 - 特許庁 - The first device 102 reads the cooperation setting file 112, and based on it, it performs the first process and writes a deliverable file 114 and a meta information file 116 indicating the second process, to the storage device 106.
次に、第１装置１０２が連携設定ファイル１１２を読み込み、それに基づき第１処理を行って、その成果物ファイル１１４と、第２処理を示したメタ情報ファイル１１６を記憶装置１０６に書き込む。 - 特許庁 - In contrast, when the front holder 30 is fitted in a reversed attitude, the front holder 30 interferes with the fitting control part 17S in the middle of the fitting process, a further fitting process controlled.
これに対し、フロントホルダ３０が組付け方向における正逆反対向きの姿勢で組み付けられたときには、そのフロントホルダ３０は、組付けの途中で組付け規制部１７Ｓと干渉し、それ以上の組付けが規制される。 - 特許庁 - To provide a separation process (especially TSA type separation process) of dinitrogen monoxide N2O (further carbon dioxide CO2 or ethylene C2H4 and the like as the case may be), contained in gas flow (e.g. air) as impurities.
ガス流れ（例えば、空気）中に不純物として含まれている亜酸化窒素Ｎ_２Ｏ（場合により更に、二酸化炭素ＣＯ_２またはエチレンＣ_２Ｈ_４など）の分離プロセス（特にＴＳＡタイプの分離プロセス）を提供する。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of a seamless steel tube by Mannesmann piercing process by which thickness deviation and deterioration of biting ability are prevented and the generation of inside surface flaws is decreased in the manufacture of the seamless steel tube by Mannesmann piercing process.
マンネスマン穿孔法による継目無鋼管の製造において、偏肉、噛み込み性の悪化を防ぎ、かつ内面疵の発生を低減させるマンネスマン穿孔法による継目無鋼管の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a semiconductor photoelectric component which hardly causes lift-off in a subsequent manufacturing process even if temperature is low in a manufacturing process by using an organic dielectric material, and to provide a light-emitting diode forming the same.
有機誘電材料を使用することによって製造工程で温度が低くてもその後の製造工程に於いて剥離しにくい半導体光電部品及びそれを形成する発光ダイオードを提供する。 - 特許庁 - This method for producing bean sprouts comprises cultivation for 6 days-7 days to grow hypocotyl while alternately performing a water sprinkling process with a sprinkler 31, and a drying process with an air intake fan 41 and an exhaust fan 42.
散水機３１による散水工程と、吸気用ファン４１及び排気用ファン４２による乾燥工程とを交互に実施しつつ、６日間〜７日間栽培して胚軸を成長させ、もやしを栽培する。 - 特許庁 - To provide a process abnormality analyzing device for analyzing abnormality in real time based on a model by computing a more appropriate process feature amount to obtain the model that can obtain an optimal rubbing state in a rubbing device or the like.
ラビング装置等において、より適切なプロセス特徴量を算出し、最適なラビング状態を得られるモデルを得て、そのモデルに基づいてリアルタイムに異常分析するプロセス異常分析装置を提供すること - 特許庁 - Since the alignment marks can be easily identified in contact with a resin for patterning in an imprint process, the alignment between the template and the substrate for imprint can be easily achieved and an imprint process for a large area is enabled.
これにより、インプリント工程時にパターン用レジンとのコンタクト識別が容易であるので、テンプレートとインプリント用基板との間の整列を容易に合わせることができ、大面積のインプリント工程が可能である。 - 特許庁 - By forming a buffer oxide film (buffer film) 103 on an entire structure including the metal wiring 101A, plasma damage caused in a process for forming the inter-metal-layer insulating film 104 as a post-process thereof is prevented.
この金属配線１０１Ａを含む全体構造上にバッファ酸化膜（バッファ膜）１０３を形成することにより、後工程で金属層間絶縁膜１０４を形成する工程の際のプラズマ損傷を防止する。 - 特許庁 - In a first etching process, the surface of a crystal material is wet-etched using a first etching composite containing a buffered hydrofluoric acid as a main component to perform an etching process over a wide area by a required etching quantity.
第１エッチング工程において、バッファード弗酸を主成分として含有する第１エッチング組成物を用いて水晶材料の表面をウエットエッチングし、広い範囲で必要なエッチング量だけエッチング加工する。 - 特許庁 - The manufacturing method of the power storage element has a degassing process in which the gas in a housing case 110 is exhausted to the outside after applying a prescribed treating process to a temporary sealed battery 102 (temporary sealed storage element).
本発明の蓄電素子の製造方法は、仮封止電池１０２（仮封止蓄電素子）に所定の処理工程を施した後、収容ケース１１０内のガスを外部に排出するガス抜き工程を備えている。 - 特許庁 - Since the conductive film is formed on all of the surface, a density of electric charges accumulated in a gate electrode can be reduced in processing with plasma (plasma process) like anisotropic etching, and the damage due to the plasma process can be reduced.
導電性膜が全面に形成されていることにより、異方性エッチング等のプラズマによる処理（プラズマプロセス）においてゲート電極に蓄積される電荷密度を低減でき、プラズマプロセスによる損傷を低減できる。 - 特許庁 - The quality of service is controlled by limiting the number of CPUs to be allocated to a server process for executing service in a user process space and packet processing for executing ciphering/deciphering processing.
本発明は、ユーザプロセス空間において、サービスを行うサーバプロセスとカーネル空間において、暗号復号化処理を行うパケット処理のそれぞれに割り当てるＣＰＵ数を制限して、サービスの品質を制御する。 - 特許庁 - To provide a process controller superior in workability after installation that allows replacements of a wire of a terminal block and an I/O board to be surely and safely performed even after the process controller is installed on a control board.
制御盤にプロセスコントローラを取り付けた後も安全かつ確実に端子台の配線換えやＩ／Ｏボードの交換作業を行うことのできる、設置後の作業性に優れたプロセスコントローラを提供する。 - 特許庁 - To provide an organic waste disposal device which crushes a lumpy organic waste contained in a receiving tank to small pieces and treats the organic waste through a fermentation process or a drying process without scattering an odor or a filth.
収容槽内で塊状の有機廃棄物を細かく粉砕して、匂いや汚れを飛散させずに有機廃棄物を発酵処理又は乾燥処理することができる有機廃棄物処理装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for accelerating a reaction of a chemical substance utilizing an ultrasonic wave without performing an advanced refining process and capable of performing a continuous process from introducing raw materials to recovering a residual gas.
高度な精製工程を行うことなく、原料投入から残ガス回収まで連続した工程で行うことができる超音波を利用した化学物質の反応促進方法を提供することを目的とする。 - 特許庁 - The porous body made of nickel used in a washing process in the surface treatment process of the aluminum material has a pore size of 510-1,020 μm and has a density of 0.26-0.34 g/cm^3.
アルミニウム材料の表面処理工程における水洗工程で使用する、孔径が１０２０〜５１０μmで、且つ密度が０．２６〜０．３４ｇ／ｃm^3の範囲内のニッケルからなる多孔質体であることを特徴とする。 - 特許庁 - To provide a method of drying an electronic member removing moisture of the electronic member which has not been removed sufficiently in a conventional baking process and suppressing progress of oxidation made to progress in the process.
従来のベーキング工程では十分に除去しきれなかった電子部材の水分を除去すると共に、該工程中に進行していた酸化の進行を抑制する電子部材の乾燥方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an electric washing machine which can cut the standby power to zero and restart the washing automatically from the washing process point at which the power failure occurs, when the power is restored from the power failure during the washing process.
本発明は、待機電力のゼロ化と、洗濯途中での停電から電源復帰した時、停電前の途中洗濯工程から運転を自動的に再開させることが出来る洗濯機を提供できる。 - 特許庁 - The process for forming the groove 12a in the non-magnetic layer includes a process for executing taper etching to the non-magnetic layer by reactive ion etching which uses an etching gas including at least BCl_3 and N_2 out of BCl_3, Cl_2, and N_2.
非磁性層に溝部１２ａを形成する工程は、ＢＣｌ_３、Ｃｌ_２、Ｎ_２のうち少なくともＢＣｌ_３とＮ_２を含むエッチングガスを用いた反応性イオンエッチングによって、非磁性層をテーパエッチングする工程を含む。 - 特許庁 - The laser processing method is a laser processing method for forming a scribe groove by irradiating a laser beam along a scribe intended line of a brittle material substrate surface, and it includes a preliminary working process, and a scribe process.
このレーザ加工方法は、脆性材料基板表面のスクライブ予定ラインに沿ってレーザ光を照射し、スクライブ溝を形成するレーザ加工方法であって、予備加工工程と、スクライブ工程と、を備えている。 - 特許庁 - The p-th processing section inputs (p-1)th process data output by the (p-1)th processing section, calculates and outputs the hash value corresponding to the input data, on the basis of the input (p-1)th process data.
第ｐ処理部は第ｐ−１処理部の出力した第ｐ−１処理データを入力し、入力した第ｐ−１処理データに基づいて、入力したデータに対応するハッシュ値を算出して出力する。 - 特許庁 - In the application process and the drying and curing process, the rotation of the roll mold for manufacturing optical film is preferably performed at a rotation speed wherein the uncured protective coating agent does not flow.
本発明の保護皮膜の製造方法は、塗布工程と乾燥硬化工程において、未硬化の保護皮膜剤が流動しない回転速度で光学フィルム製造用ロール金型の回転が行われることが好ましい。 - 特許庁 - If any one of the results of collation in the first collating process and the second collating process is noncompliant, transmission of the transmitting telegram message by the transmitting section 40 is stopped under the control of the processing section 10.
そして、第２照合処理の照合結果、及び、第１照合処理の照合結果の何れかが不適合であれば、送信部４０の送信電文の送信の停止制御が処理部１０により行われる。 - 特許庁 - In a second molding process, a plurality of components obtained in the first molding process are put into a dust core molding mold, and arranged at predetermined positions in the dust core molding mold so that the respective components form teeth 22.
第二成形工程は、第一成形工程で得られた複数の部品を圧粉コア成形用金型内に入れ、各部品がティース２２を形成するように各部品を圧粉コア成形用金型内の所定位置に配置する。 - 特許庁 - Bubbles B generated by boiling of a liquid refrigerant in a generation process are circulated to a first refrigerant flow channel T1 and a second refrigerant flow channel T2 without being broken in a first circulation process.
発生工程において、液体冷媒の沸騰により発生した泡Ｂは、第１流通工程において、泡Ｂが壊れることなく、第１冷媒流路Ｔ１および第２冷媒流路Ｔ２に流通される。 - 特許庁 - The Vpr protein can be detected easily by a method including a process for adding into a cell, a compound acquired by bonding a fluorescent pigment to a compound shown by formula (I), and a process for detecting fluorescence.
下記式(I)で表される化合物に蛍光色素が結合した化合物を細胞に添加する工程、及び蛍光を検出する工程を含む方法により、Ｖｐｒタンパク質を簡便に検出することができる。 - 特許庁 - In the irradiation process, the second surface 10b upward directed by the rotation process of the sample 20 is irradiated with the converged ion beam, and a membrane region 20a is formed at the sample 20 in the extending direction of the contact.
照射工程において、回転工程により上面を向いた第２面１０ｂに対して集束イオンビームを照射し、コンタクトの延在方向に沿うように試料２０に薄膜領域２０ａを形成する。 - 特許庁 - The image forming apparatus performs the process control during transition from a standby mode to an energy-saving mode by a second condition in which image quality adjustment processing is performed in earlier timing than that of a first condition for performing the ordinary process control.
画像形成装置は、待機モードからから省エネルギーモードへの移行時に、通常のプロコンを行う第１条件よりもより早いタイミングで画質調整処理が実施される第２条件でプロコンを実施している。 - 特許庁 - To attain a high-reliabilty semiconductor device which protects an element from a stress generated by a bonding process and a probing process and which does not generate cracks on an insulating film at the lower side of a bonding pad.
ボンディングプロセス及びプロービングプロセスにより発生した応力から素子を保護し且つボンディングパッドの下側の絶縁膜にクラックが発生することのない、信頼性の高い半導体装置を実現できるようにする。 - 特許庁 - A process using an object which is not used for the delayed operation processing is specified among processes for performing the specified common operation processings to perform control to lower the priority that the specified process is performed.
そして、特定した共用業務処理を実行するプロセスのうち、遅延業務処理にて用いられないオブジェクトを用いるプロセスを特定し、特定したプロセスが実行される優先度を低下させるように制御する。 - 特許庁
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