「Process」を含む例文一覧(50000)
＜前へ 1 2 .... 846 847 848 849 850 851 852 853 854 .... 999 1000 次へ＞- S15, S17 and S19 is a process to perform an in-process lead time calculation (S15), a rework staying time calculation (S17), and progress or delay time at a following management point calculation (S19), in response to the current position of the product.
Ｓ１５、Ｓ１７、Ｓ１９は、製品の現在位置に応じて、仕掛りリードタイム算出（Ｓ１５）、手直し滞留時間算出（Ｓ１７）、後続管理ポイント進み遅れ時間算出（Ｓ１９）を行う工程である。 - 特許庁 - The toner confirmation window is provided preferably on the top surface of the developing unit or process cartridge or on a position where the inner side can be viewed from the outside in a state in which the developing unit and the process cartridge is fitted to the apparatus main body.
トナー確認窓は、現像ユニットやプロセスカートリッジの上面に設けるとよく、また現像ユニットやプロセスカートリッジを装置本体に取り付けた状態で、内部を外部から目視できる位置に設けるとよい。 - 特許庁 - Accordingly, an actual process for writing to the anti-fuse element 330 can be performed in parallel for the plurality of chips, and as a result, the process for writing to the anti-fuse element 330 can be performed speedily.
これにより、アンチヒューズ素子３３０への実際の書き込み処理については、複数のチップについて並列に実行することができ、結果的にアンチヒューズ素子３３０への書き込み処理を高速に行うことが可能となる。 - 特許庁 - Starting just prior to the end of an inlet process or just after completion of the inlet process, high pressure vapor from an expressor compressor discharge is supplied to a cavity C-2 defining a trapped volume undergoing expansion.
入口過程の最後の直前にまたは入口過程の完了の直後に開始して、エクスプレッサ圧縮機吐出からの高圧蒸気が、膨張進行中に捕捉領域を画定する空洞Ｃ−２へ供給される。 - 特許庁 - To provide a process for recycling a scrap silicone rubber which can be mixed with a non-crosslinked new rubber and recycled, wherein the scrap rubber of a crosslinked silicone rubber can be plasticized by cutting its peroxide crosslinking point, etc., through an easy treatment process.
簡便な処理方法で架橋シリコーンゴムのスクラップゴムのパーオキサイド架橋点などを切断、可塑化することができ、しかも未架橋新ゴムと混合してリサイクル可能なシリコーンスクラップゴムの再生方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for recycling dust developed in a converter with which the yield in the converter process can be improved by recycling the dust developed in the converter as metallic iron into the converter and the recycle process time is shortened at a low cost.
転炉発生ダストを金属鉄として転炉にリサイクルし転炉工程の歩留りを向上させることが可能な低コストで処理工程時間の短い転炉発生ダストのリサイクル処理方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a display driver along with an electronic apparatus and an image data supply method, capable of displaying a display image having the same frame as a compression process image even if orientation of the images for compression process and display are different.
圧縮処理用及び表示用画像の向きが異なる場合も圧縮処理用画像と同一フレームの表示用画像を表示させる表示ドライバ、電子機器及び画像データ供給方法を提供する。 - 特許庁 - Accordingly, by reference to the sub-process execution condition definition 201, it is possible to execute the business process without edition of the main 1, the sub 1 and the sub 2 when inserting the sub 1 and the sub 2 into the existing main 1.
これにより、サブプロセス実行条件定義２０１を参照することで、既に存在するメイン１にサブ１、サブ２を入れる場合、メイン１、サブ１、サブ２を編集することなくビジネスプロセスを実行できる。 - 特許庁 - Then, a simplified navigation process is conducted by using the map data stored in the memory part and reproduction of the audiovisual disc and the like is made possible while necessity to read the map data from the external recording medium during the navigation process is eliminated.
そして記憶部に記憶された地図データを用いて簡易的なナビゲーション処理を実行し、ナビゲーション処理中に地図データを外部記録媒体から読み込む必要をなくしてＡＶディスク等の再生を可能とする。 - 特許庁 - To provide a process for fabricating a semiconductor device which can reduce degradation in processing profile of a film being processed or roughening of a pattern while exhibiting faithfulness to design, and can be applied even to a dual damascene process.
本発明は、被加工膜の加工形状の悪化やパターンの荒れを低減し、設計デザインに対し忠実で、且つデュアルダマシン工程等にも適用可能な半導体装置の製造方法を提供することを目的とする。 - 特許庁 - Next, when the encoding rate ri+1 is a maximum value rk, the encoding signal is decoded while using the clock signal which is assigned in a second Viterbi decoding process ST15 in an encoding rate upper limit discriminating process ST14.
次に、符号化率上限判定工程ＳＴ１４において、符号化率ｒi+1 が最大値ｒk であれば、第２のビタビ復号工程ＳＴ１５において割り当てられたクロック信号を用いて符号化信号を復号する。 - 特許庁 - By this constitution, the material for the friction material not lowering the capacity of the friction material (clutch facing) being a final product can be produced without using an org. solvent in both of the resin impregnation process and the rubber bonding process.
本発明によれば、樹脂含浸工程でもゴム付着工程でも有機溶媒を使用することなしに、最終製品の摩擦材（クラッチフェーシング等）の性能が低下しない摩擦材用素材を製造することができる。 - 特許庁 - To provide a state prediction method for process that shortens a calculation time by composing a multiple regression model which consists of less explanation variables than before and has high precision, and a process control unit using the same.
従来に比べて少ない説明変数からなる、高精度な重回帰モデルを構成して計算時間の短縮が図れるプロセスの状態予測方法及びそれを用いたプロセス制御装置を提供する。 - 特許庁 - When it is determined that a temperature raising process for raising the temperature of the filter should be executed by comparing a value of a parameter relative to the pressure loss of the filter with a determination value, the temperature raising process is executed.
フィルタの圧損に関連するパラメータの値と判定値とを比較することによってフィルタを昇温させるための昇温処理を実行すべきであると判定されたときに昇温処理が実行される。 - 特許庁 - In a reproduction operation performed while rotating a recording medium at a certain rotational speed, if the rotational speed of the reproduction process is higher than the rotational speed of the recording process, this may cause an increase in the amount of error data.
ある回転数で記録媒体を回転駆動させながら行う再生動作において、再生時の回転数が記録時の回転数よりも高い場合には、誤りデータが多くなる一要因となり得る。 - 特許庁 - in addition to an independent claim for a product, an independent claim for a process specially adapted for the manufacture of the product, and an independent claim for an apparatus or means specifically designed for carrying out the process.
生産物の独立クレームに対して，その生産物の製造について特に適用される1の方法についての1の独立クレーム及びその方法の実施のために特に設計された1の装置についての1の独立クレーム - 特許庁 - The process described in claim 2 necessarily provides a specific structure, which is a special technical feature of claim 1. The process described in claim 2 is therefore suitable for producing the clutch plate mentioned in claim 1.
請求項 2 の製法は、請求項 1 の特別な技術的特徴である特定構造部分を必然的にもたらすものであるから、請求項 2 の製法は請求項 1 のクラッチ板の生産に適している。 - 特許庁 - A metal amide forming process for forming the metal amide by reacting a metal hydride and nitrogen and an ammonia forming process for forming the ammonia and the metal hydride by reacting the metal amide and hydrogen are included.
金属水素化物と窒素とを反応させ、金属アミドを生成する金属アミド生成工程と、金属アミドと水素とを反応させ、アンモニアと金属水素化物とを生成するアンモニア生成工程とを具備する。 - 特許庁 - The method of recovering the germanium includes a germanium chloride recovering process of recovering the germanium as chloride using hydrochloric acid and hydrogen peroxide together from the germanium-containing intermediate in a metal recovering process.
金属回収工程における、ゲルマニウムを含有する中間物から、塩酸と過酸化水素とを併用して、ゲルマニウムを塩化物として回収するゲルマニウム塩化物回収工程を含むゲルマニウムの回収方法である。 - 特許庁 - The manufacturing method includes a polymerization process for polymerizing methyl trichlorosilane, diaklyl dichlorosilane and bis-trialkyl silyl carbodiimide in the presence of an organic base to obtain polysilyl carbodiimide and a firing process for firing the polysilyl carbodiimide.
本製造方法は、メチルトリクロロシラン、ジアルキルジクロロシラン及びビストリアルキルシリルカルボジイミドを、有機塩基の存在下に重合してポリシリルカルボジイミドとする重合工程と、このポリシリルカルボジイミドを焼成する焼成工程と、を備える。 - 特許庁 - To provide an image forming apparatus which prevents even a user located at a place being isolated from the apparatus using a refill ink from performing a printing process by the apparatus, and also, enables him or her to known that the printing process is not performed.
開示の画像形成装置は、リフィルインクを使用する装置と隔離された場所にいるユーザであっても、当該装置で印刷処理を行うことが無く、かつ、印刷処理が行われないことを知ることが出来る。 - 特許庁 - To provide a method of manufacturing a phosphor which comprises a spherical particle having a controlled particle size and a narrow particle-size distribution, by a process comprising calcining at a lower temperature than in the conventional dry process.
従来の乾式法に比べて、より低い温度での焼成を含む工程によって、制御された粒径を有し、しかも、その粒度分布が狭い球状粒子からなる蛍光体の製造方法を提供する。 - 特許庁 - This method for manufacturing a paste type electrode plate for use in a lead-acid battery includes an aging process, and its feature is that an oxygen partial pressure in the aging process is higher than atmospheric pressure.
熟成工程を含む鉛蓄電池用ペースト式極板の製造方法において、熟成工程中の酸素分圧が、大気よりも高いことを特徴とする鉛蓄電池用ペースト式正極板の製造方法とする。 - 特許庁 - Its manufacturing method includes a first process for obtaining the Ag-WC-Co alloy by an infiltration method and a second process for generating and coagulating liquid phases on the contact point surface of the Ag-WC-Co alloy.
また、その製造方法は、溶浸法でＡｇ−ＷＣ−Ｃｏ合金を得る第１の工程と、そのＡｇ−ＷＣ−Ｃｏ合金の接点表面に液相を生成して凝固する第２の工程からなる。 - 特許庁 - To provide a production process of plastic bottle, a production process of bottled product and a production apparatus of plastic bottle, which are capable of controlling wall thickness of the plastic bottle by partially reducing temperature of a preform.
プリフォームの温度を部分的に低下させることにより、プラスチックボトルの肉厚をコントロールすることが可能なプラスチックボトルの製造方法、ボトル製品の製造方法、およびプラスチックボトルの製造装置を提供する。 - 特許庁 - A toner supply shutter and a waste toner shutter are not opened/closed until the process cartridge is attached to a main body, and also the toner supply shutter and the waste toner shutter are opened/closed interlocked with the opening/closing of a door for replacing the process cartridge.
プロセスカートリッジが本体に装着して初めて、トナー補給シャッターと廃トナーシャッターの開閉を行い、且つプロセスカートリッジ交換用の扉の開閉に連動して、トナー補給シャッターと廃トナーシャッターの開閉行う。 - 特許庁 - To attain both the miniaturization of an element and the performance enhancement of a sensor part, by securing compatibility between a formation process of a sensor region which needs sufficient heat treatment and a formation process of other region which requires control of heat treatment.
十分な熱処理を必要とするセンサ領域の形成工程と、熱処理を抑制したいその他の領域の形成工程とを両立し、素子の小型化とセンサ部の高機能化の双方を達成する。 - 特許庁 - When the user computer 2 performs a process and a condition for performing a substitutive processing is realized, it divides the data used for the process into a first part and a second part and transmits the first part to a common computer 1.
ユーザコンピュータ２は、プロセスを実行し、代行処理させる条件が成立した場合、プロセスに用いるデータを第１の部分とそれ以外の第２の部分に分割して、第１の部分を共通コンピュータ１に送信する。 - 特許庁 - To obtain a process controlling method that can quickly and precisely track a controlled variable outputted from a controlling object to a target value, and can improve process throughput, and to provide a method for manufacturing electronic device.
制御対象から出力される制御量を迅速、且つ正確に目標値へ追従させることができ、プロセスのスループットを向上させることができるプロセス制御方法並びに電子デバイス製造方法を得る。 - 特許庁 - In the preprocessing, the device exposes the photoconducting layer 20, by using writing light with the first intensity lower than the second intensity required for an initializing process in which the writing process is performed without the preprocessing.
また、前処理では、初期化処理において前処理を行わずに書込処理を行う場合には必要であった第２の強度より小さい第１の強度の書込光を光導電層２０に露光する。 - 特許庁 - To the pattern, which is producible on the design rules, of which fluctuation quantity of the pattern dimension becomes bigger by the fluctuation of the exposure quantity and the focal distance in the optical exposure process, it can improve its process likelihood.
デザインルール上では製造可能であるが、光露光工程での露光量、焦点距離の変動によるパターン寸法の変動量が大きくなるパターンに対して、そのプロセス裕度を高めることができる。 - 特許庁 - The process release paper is constituted so that after giving an embossing process on the emboss-processing layer 4 by heat embossing, the first thermoplastic resin layer is peeled off and the second thermoplastic resin layer 3 can be exposed.
工程離型紙用基材は、エンボス加工層４に熱エンボスによるエンボス加工を施した後、第１熱可塑性樹脂層を剥離し、第２熱可塑性樹脂層３を露出させることができるように構成されている。 - 特許庁 - To uniformly recover the activity on the catalyst surface in a regenerating process of a used catalyst by preventing irregularity in the deteriorated component due to dropping of a coating liquid in the coating process and by forming a uniform coating layer.
使用済み触媒の再生法においてコーティングの際の液だれによる劣化成分の不均一化を少なくし、均一なコーティング層を設けることで活性の回復を触媒表面で均一に行なうこと。 - 特許庁 - To provide a technology for enabling the formation of a high quality semiconductor thin film on a semiconductor substrate with just a simple pretreatment immediately before a thin film formation process (e.g., an epitaxial growth process) on the semiconductor substrate.
半導体基板上への薄膜形成工程（例えば、エピタキシャル成長工程）直前に、簡単な前処理を行うだけで、半導体基板上に良質な半導体薄膜を形成可能な技術を提供する。 - 特許庁 - To provide a nickel paste that is capable of preventing the occurrence of structural defects such as delamination during a debinder process and a subsequent firing process for a layered ceramic capacitor, and that is suitable for formation of an inner electrode of nickel.
積層セラミックコンデンサの脱バインダー工程及びその後の焼成工程において、層間剥離などの構造欠陥の発生を防止でき、ニッケル内部電極の形成に好適なニッケルペーストを提供する。 - 特許庁 - To provide a gallium nitride LED element and its process for fabrication, capable of simplifying an overall fabrication process for elements and improving adhesion performance between a protective film and an electrode, preventing defective adhesion.
素子の全般的な製造工程を単純化させると共に、保護膜と電極との接着性能を良好にして、接着不良を防止することができる窒化ガリウム系ＬＥＤ素子及びその製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide an image forming apparatus capable of performing an appropriate protection operation, without the interposing of a CPU that performs process controls, in such a state with an overvoltage on a process load generated.
プロセス負荷への過電圧が生じている状態において、プロセスコントロールを制御するＣＰＵの介在がなくても、適切な保護動作を行うことのできる画像形成装置を提供することを目的とする。 - 特許庁 - The manufacturing method of a semiconductor is provided with a process (S10) for thermally treating a semiconductor substrate in normal pressure and oxidizing atmosphere, and a process (S14) of thermally treating the semiconductor substrate in normal pressure and inert atmosphere.
この半導体製造方法は、半導体基板を、常圧かつ酸化雰囲気中で熱処理する工程（Ｓ１０）と、半導体基板を、常圧かつ不活性雰囲気中で熱処理する工程（Ｓ１４）と、を具備する。 - 特許庁 - The procedure is executed without delays incurred at critical process steps, and with no additional robots and process modules, other than those required by the recipe and processing requirements of the entering and the exiting lots.
重要な処理段階で何等の遅延も被ることなく、搬入ロット及び搬出ロットのレシピ及び処理量要件によって求められるもの以外は追加のロボット及び処理モジュールを何も使用しないで実行される。 - 特許庁 - To simplify the fabrication process of a constriction type LED by decreasing the number of times of epitaxial growth process, and to prevent overetching of an underlying layer at the time of removing the constriction layer partially by etching.
狭窄型ＬＥＤにおいて、エピタキシャル成長工程の回数を減らして製造プロセスを簡単化するとともに、狭窄層を部分的にエッチング除去する際に、その下層に対するオーバーエッチングを有効に防止する。 - 特許庁 - To form a mark structure capable of being utilized as an alignment mark in subsequent processes on a semiconductor film during the same exposure process in a process for obtaining a semiconductor of a large particle size crystal phase from a semiconductor film.
半導体膜から粒径の大きな結晶相の半導体を得る工程において、以降の工程で、アライメントマークとして利用可能なマーク構造を、同一の露光工程において半導体膜に形成する。 - 特許庁 - To provide a telephone poll assisting server capable of efficiently performing a telephone call process by uniform time distribution when a telephone call process is performed in each of a plurality of channels.
複数の各チャネルにて電話発信処理を行う場合に均一の時間分散を行うことにより電話発信処理を効率的に行うことができる電話アンケート支援サーバーを提供することを目的とする。 - 特許庁 - To provide an in-situ process control method which can improve the reproducibility and the work precision of an etching process, and to provide a manufacturing method realizing the method and the manufacturing method of a semiconductor device.
本発明の目的は、エッチングプロセスの再現性および加工精度の向上が可能なin-situプロセス制御方法およびそれを実現する製造装置並びに半導体デバイスの製造方法を提供することにある。 - 特許庁 - To provide etching liquid capable of reducing variation in etching rate in the (211) face orientation of a silicon substrate at the time of wet etching the silicon substrate, and to provide its production process and a manufacturing process of a liquid ejection head.
シリコン基板をウェットエッチングする際に、シリコン基板の（２１１）面方位のエッチングレートのばらつきを低減することができるエッチング液及びその製造方法、並びに液体噴射ヘッドの製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide etching liquid capable of reducing variation in etching rate in the (100) face orientation of a silicon substrate at the time of wet etching the silicon substrate, and to provide its production process and a manufacturing process of a liquid ejection head.
シリコン基板をウェットエッチングする際に、シリコン基板の（１００）面方位のエッチングレートのばらつきを低減することができるエッチング液及びその製造方法、並びに液体噴射ヘッドの製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a conductive Ag alloy reflector electrode film with an incremental reflection film which has a high reflection factor in a short wavelength region and can maintain the reflection factor even in a working process in a post-process and its production method.
短波長領域の反射率が高く、後工程での加工プロセス中でも反射率を維持でき、且つ、導電性を持つ増反射膜付きＡｇ合金反射電極膜及びその製造方法の提供。 - 特許庁 - The dispatcher comprises a job dispatcher process for creating a child dispatcher process for each connection to an external device in one-to-one correspondence, and a registration service 13 for managing operating status information for the plurality of image processing servers.
ディスパッチャは、１対１の対応で外部装置への接続ごとに子ディスパッチャ・プロセスを作成するジョブ・ディスパッチャ・プロセス、および複数の画像処理サーバの動作状態情報を管理する登録サービスを含む。 - 特許庁 - The distillate carbonic acid diester may be further purified and the distillate component can be used as a heating source for both the extractive distillation process and the purification distillation process.
留出炭酸ジエステルは精製蒸留工程で、精製蒸留によりさらに精製してもよく、留出成分は抽出蒸留工程及び精製蒸留工程の両方の工程の加熱源として利用できる。 - 特許庁 - To provide a substrate processing method and device thereof wherein an amount of consumed pure water can be reduced by inventing a pure water cleaning process, and also the number of processes can be reduced by simultaneously performing a drying process.
純水洗浄処理を工夫することにより、純水の消費量を低減するとともに、乾燥処理を同時に行って工数を低減することができる基板処理方法及びその装置を提供する。 - 特許庁 - The method for manufacturing the toner includes: a process of kneading a source material 5 comprising at least a resin, a colorant and wax by using a kneading machine 1 to obtain a kneaded product 7; and a process of cooling the kneaded material 7.
本発明のトナーの製造方法は、少なくとも、樹脂と、着色剤と、ワックスとを含む原料５を、混練機１を用いて混練して混練物７を得る工程と、混練物７を冷却する冷却工程とを有する。 - 特許庁
