「Process」を含む例文一覧(50000)
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ＤＲＡＭとロジックＬＳＩとを混載した半導体集積回路装置の製造において、ＤＲＡＭのコンタクトホール形成プロセス（ゲート−ＳＡＣ）とロジックＬＳＩのコンタクトホール形成プロセス（Ｌ−ＳＡＣ）とを両立させる。 - 特許庁 - A laser beam free from higher-order diffracted light than a certain order produced in the process (a) is made incident to a workpiece so that the image of the cross section shaped in the process (a) is formed on the workpiece.
工程（ａ）で生じたある次数以上の高次回折光を含まないレーザビームを、工程（ａ）で整形された断面形状が加工対象物上に結像するように、加工対象物上に入射させる。 - 特許庁 - A PATH table for finding a cluster number and the page table origin of another processes from a virtual communication path (PATH) from a process to another process is provided in an area for an OS in a memory corresponding to the processes.
プロセスから他のプロセスへの仮想的な通信路（ＰＡＴＨ）から、クラスタ番号と他のプロセスのページテーブルオリジンを求めるＰＡＴＨテーブルをプロセス対応にメモリ中のＯＳのための領域内に設ける。 - 特許庁 - The desalting method comprises a contact process to bring the salted fish roe or flesh into contact with a sugar and a holding process to keep the roe or flesh for a definite period in the state contacting with the sugar.
塩蔵された魚卵や魚体に糖類を接触させる接触工程と、前記接触工程で前記糖類を前記魚卵や魚体に接触させた状態を所定時間維持させる保持工程と、を備える。 - 特許庁 - This repairing method includes: a first process of applying a water repellent material to the whole surface of a ceramic tile surface; and a second process of applying a photocatalyst metal oxide and a surface treatment liquid containing a binding material to a tile part.
陶磁器タイル面全面に撥水材を塗付する第１工程、光触媒性金属酸化物、及び結合材を含有する表面処理液をタイル部に塗付する第２工程、により改修を行う。 - 特許庁 - In this case, the printed body 6 is placed on a mounting table 2 and the camera 1 acquires an article or a person positioned on the printed body 6 to allow the computer to execute a specified operation process or measurement process corresponding to the results thus detected.
このとき、被印刷体６を載せ台２上に置き、カメラ１が、被印刷体６上に位置する物品または人間を検知し、その検知結果に応じて特定の操作プロセスまたは測定プロセスを行う。 - 特許庁 - To provide an information recording medium having a storage area where process management information is stored and a rewriting area where the process management information stored in the storage area is displayed to be rewritable as visible information.
工程管理情報を記憶した記憶領域と該記憶領域に記憶した工程管理情報を可視情報として書き換え可能に表示するための書き換え領域とを有する情報記録媒体を提供する。 - 特許庁 - To provide a process controller system capable of transferring tracking data properly even if the size of a tracking buffer is small, without affecting executing time of a process controller even if a transfer error occurs.
トラッキングバッファサイズが小さくても適正にトラッキングデータを転送でき、の転送異常が発生した場合もプロセスコントローラの実行時間に影響を与えることのないプロセスコントローラシステムを提供することである。 - 特許庁 - To provide a process for producing a thin film in which a thin film can be formed in a predetermined region with high precision by imparting liquid thin film material while simplifying the process and reducing the cost.
液状の薄膜材料を付与して、所定の領域に薄膜を高精度に形成することができ、しかも工程の簡略化及びコストの低減を果たすことが可能な薄膜の製造方法を提供する。 - 特許庁 - A controller executes a parameter estimation process 100 responsive to at least one of a current value and a torque command, and the results 70 of the parameter estimation process represent the estimated parameters 110 of an electric machine.
コントローラはパラメータ推定プロセス１００を実行し、パラメータ推定プロセスは電流値と、トルク指令のうちの少なくとも１つに応答し、パラメータ推定プロセスの結果７０は、電気機械の推定されたパラメータ１１０を表す。 - 特許庁 - To provide an image forming apparatus, process cartridges, developing devices and an image formation method which prevent an erroneous exchange by a worker on the process cartridges or developing devices of a plurality of colors and which makes stock management and manufacture costs low.
複数色のプロセスカートリッジ又は現像装置に対する作業者による交換ミスがなく、在庫管理コストや製造コストが低い画像形成装置、プロセスカートリッジ、現像装置、及び、画像形成方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a method for cleaning in a paper making and screening process, having high safety and slight influence on drain, with which impurities of chemicals consisting essentially of a sizing agent in a screening process can be effectively removed.
安全性が高く、排水への影響が少なく、かつ精選工程内のサイズ剤を主体とした各薬品の不純物を効果的に除去することのできる抄紙精選工程における洗浄方法を提供する。 - 特許庁 - After a search process at current search temperature ends, a temperature update means 107 lowers the search temperature and the search process is repeated until the time when the cost for the arrangement data does not show variation.
現在の探索温度における探索プロセスを終了後温度更新手段107で、探索温度を減少させて探索プロセスを繰り返し、配置データのコストに変動がなくなったときに探索プロセスを終了する。 - 特許庁 - Therefore, a second sealing treatment process is carried out after the assembling process, and a sealing treatment agent is coated and sealing-treated at the portion where plating is exposed by scratches and the cut-out face where the copper material is exposed.
そこで、組立工程の後に第２の封孔処理工程を行い、傷によってめっきが露出している部位や銅素材が露出している切断面に封孔処理剤を塗布して封孔処理を施す。 - 特許庁 - [1] The construction method of the fire resisting structure of the steel frame beam is equipped with a process providing a thermal expansion fire resisting sheet to the inside of the through-hole formed in the steel frame beam and a process providing a fire resistant coating material to the steel frame beam.
［１］鉄骨梁に設けられた貫通孔の内面に熱膨張性耐火シートを設ける工程と、 前記鉄骨梁に耐火被覆材を設ける工程と、 を有する鉄骨梁の耐火構造の施工方法。 - 特許庁 - To provide a defect judging system and a substrate processing system with which abnormality in a manufacturing process is detected in an early stage of production, deterioration of an amount of production can be suppressed to be minimum and yield in the manufacturing process can be improved.
生産の早い段階で製造工程の異常を発見し、生産量低下を最小限に抑えて製造工程の歩留まりを改善することができる欠陥判定システムおよび基板処理システムを提供する。 - 特許庁 - for example, if the step 880 opens only an u-phase interrupt mask, then 'u-phase edge interrupt process' (reference point synchronizing process for the electrical angle θ) is executed, when an edge interrupt of u-phase occurs.
例えば、本ステップ８８０の動作により、ｕ相の割り込みマスクだけが開かれると、その後、ｕ相のエッジ割り込みが発生した際に、「ｕ相エッジ割り込み処理」（電気角θの基準点同期処理）が実行される。 - 特許庁 - Further, the method includes: a process for generating second index information part based on the second standard being interchangeable with the first standard; and a process in which the second index information part is arranged directly after the animation data index part.
更に、第１の規格と互換性のある第２の規格に準拠した第２インデックス情報部を生成する工程と、動画像データインデックス部の直後に第２インデックス情報部を配置する工程を備える。 - 特許庁 - If the number of detected success times is smaller than the predetermined number of success times (N), the process advances to step S17 where next known signal is captured with reference to a detected timing and then the process returns back to step S13.
検出成功回数が既定成功回数よりも少ないと判断された場合（Ｎ）は、ステップＳ１７に進み、検出したタイミングを基準にして、次の既知信号の捕捉を行い、ステップＳ１３に戻る。 - 特許庁 - To provide a process for polymer member production, by which a polymer member having a pattern structure due to the uneven distribution of a non-compatible substance can be easily produced and a polymer member obtained by the production process.
非相溶性物質の偏在化によるパターン構造を有するポリマー部材を簡便な方法で製造することができるポリマー部材の製造方法及び当該製造方法により得られるポリマー部材を提供する。 - 特許庁 - The production plan model is composed of the delivery date and manufacture flow of an order, required processing time in each manufacturing process, operation schedule of each manufacturing process, and evaluation function to judge quality of the production plan etc.
生産計画モデルは、注文の納期や製造フロー、各製造工程での処理所要時間、各製造工程の稼動スケジュール、及び生産計画の良し悪しを判断するための評価関数等から構成される。 - 特許庁 - To improve a simplification, an insulating performance, and a designability of a wiring process used in a process of manufacturing a solar cell module.
太陽電池モジュールを作製する過程で使用する配線工程の簡略化および太陽電池モジュールとしての絶縁性能の向上と意匠性の向上とを図った太陽電池モジュールおよびその製造方法を提供すること。 - 特許庁 - To form a resist pattern which allows a projection part of a resist pattern after a process of etching a remaining film to have a desired width equal to or larger than a width of the projection part of the resist pattern before the process of etching the remaining film.
レジストパターンの形成において、残膜をエッチングする工程後のレジストパターンの凸部の幅が、残膜をエッチングする工程前におけるレジストパターンの凸部の幅以上の所望の幅となることを可能とする。 - 特許庁 - To provide a highly reliable semiconductor device for which an element is protected from stress generated by a bonding process and a probing process without generating a crack on an insulating film on the lower side of a bonding pad.
ボンディングプロセス及びプロービングプロセスにより発生した応力から素子を保護し且つボンディングパッドの下側の絶縁膜にクラックが発生することのない、信頼性の高い半導体装置を実現できるようにする。 - 特許庁 - To suppress membrane fouling and to reduce not only the number of times of washing using chemicals but also equipment and a maintenance cost, in a water treatment method of a total amount filtering system including a membrane filtering process and a membrane module backwashing process.
膜ろ過工程と膜モジュールの逆洗工程とを含む全量ろ過方式の水処理方法において、膜ファウリングを抑制し、ひいては薬品洗浄回数の低減と設備およびメンテナンスコストの低減を図る。 - 特許庁 - The first and second processes are switched at a prescribed ratio for execution, and two-dimensional positioning calculation is made in the first process by assuming that the altitude is constant in the altitude of the receiver determined in the second process.
第１の工程と第２の工程とを所定の比率で切り換えて実行し、第１の工程では、第２の工程で求められた受信機の高度において高度一定と仮定して二次元測位計算する。 - 特許庁 - A character string compilation means 6 in a word processor process 5 specifies a character string during compilation, and writes the specified character string in a character string queue 9 in an English/Japanese dictionary process 8, when retrieval is operated.
ワードプロセッサ・プロセス５における文字列編集手段６は編集中の文字列を特定し、検索が操作された場合には特定した文字列を英和辞書プロセス８における文字列キュー９に書き込む。 - 特許庁 - To provide a coating composite for producing an interlayer insulation film in which a high Young's modulus, a low dielectric constant, and a high breakdown voltage durable sufficiently in the CMP process of the copper interconnection process of a semiconductor element can be achieved simultaneously.
半導体素子の銅配線工程におけるＣＭＰ工程に十分耐える高いヤングモジュラスと、低い比誘電率と、高いブレークダウン電圧を同時に達成する層間絶縁膜製造用の塗布組成物の提供。 - 特許庁 - To provide a device for treating a CMP process wastewater, capable of treating a CMP process wastewater containing PEG and PPG at a high concentration with a simple device at a relatively low cost, in which a continuous operation for a long period of time is possible.
ＰＥＧやＰＰＧを高濃度で含有するＣＭＰ工程排水を、簡易な装置で、比較的低コストでしかも長期間の連続運転が可能なＣＭＰ工程排水処理装置を提供すること。 - 特許庁 - (e): After the press fitting process, a finishing tool 31c is mounted on the main spindle 11 of the machine tool used for the press fitting process by means of the automatic tool changer, and the inside diameters of the fitting members B, C are finished by the finishing tool 31c.
（ｅ）圧入工程の後に、この圧入工程に用いた工作機械の主軸１１にツール自動交換装置により仕上ツール３１ｃを挿着して、嵌合部材Ｂ、Ｃの内径仕上げをする。 - 特許庁 - To provide a technology to seal and cut a tip pipe short without causing a crack to a substrate forming a PDP in a sealing and cutting process of the tip pipe in a manufacturing process of a plasma display device.
プラズマディスプレイ装置の製造工程におけるチップ管を封じ切る工程において、ＰＤＰを形成する基板に割れを生じさせることなく、チップ管を短く封じ切ることができる技術を提供する。 - 特許庁 - The control device is provided with an actual injection amount output part (actual injection amount output means), an injection amount deviation output part (injection amount deviation output means) and an abnormality process command part (abnormality process command means).
前記制御装置は、実噴射量出力部（実噴射量出力手段）と、噴射量偏差出力部（噴射量偏差出力手段）と、異常処理司令部（異常処理指令手段）と、を備えている。 - 特許庁 - The process of operating the extracting jack 6 and extracting the existing pipe A2 into the intermediate part shaft 3, and the process of cutting and removing the extracted part A3 of the existing pipe extracted into the intermediate part shaft 3 are repeated.
引抜き用ジャッキ６を作動させて既設管Ａ２を中間部立坑３内に引抜く工程と既設管の中間部立坑３内に引抜かれた部分Ａ３を切断して撤去する工程を繰り返す。 - 特許庁 - Further, by irradiating the work W with laser beam L after the work W is preheated, a heat input process is eliminated or the time required for the heat input process is shortened, and the working time of the laser beam machining is shortened.
また、ワークＷをあらかじめ加熱してからレーザ光Ｌを照射することにより、入熱過程を省略、あるいは、入熱過程に要する時間を短縮し、レーザ加工時間の短縮を図ることができる。 - 特許庁 - This parts feeder is provided with a vibration body X, a linear feeder Y being a conveyance part for conveying parts to a process handling device, and a press bolt 1 for fixing the vibration body X to a support body Z being a part of the process handling device.
振動体Ｘと、部品を工程処理装置へ搬送する搬送部であるリニアフィーダＹと、振動体Ｘを工程処理装置の一部である支持体Ｚに固定するための押しボルト１とを備える。 - 特許庁 - For the document subject to management, a reduced image forming process S141 and an imaging process S142 are conducted to be followed by pin-marking processes S143 and S144 when it has an attached document.
管理対象の文書について縮小イメージ作成処理（Ｓ１４１）およびイメージ加工処理（Ｓ１４２）を行い、これに引き続き、添付文書があるときはピン状のマークを付け加える処理をする（Ｓ１４３、Ｓ１４４）。 - 特許庁 - As the optical substrate 100 can be cut without using a sheet having a pressure-sensitive adhesive to fix the optical substrate 100, a process residue produced in the process does not contain a pressure-sensitive adhesive that firmly adheres to the product.
このように光学基板１００の固定に粘着剤付きシートを用いることなく光学基板１００を切断することができるので、発生する加工残渣には、強固に付着する粘着剤が含まれない。 - 特許庁 - The method performing the folding process on the paper after printing by the electrophotographic method to the paper gives moisture to the whole paper, or to a folding section and in the vicinity of the folding section before the fold process after the printing.
用紙に電子写真方式にて印字後に、該用紙に折り加工を行う方法において、印字後折り加工前に、該用紙の全体に又は折り部及び折り部近傍に、水分を付与する折り加工方法。 - 特許庁 - A CPU interrupts a transfer process by disabling data during transfer when receiving the transfer interruption signal SS1, and makes in a standby state after a process in execution is completed when receiving the suspend signal SUS1.
ＣＰＵは、転送中断信号ＳＳ１を受けると転送中のデータを無効として転送処理を中断し、サスペンド信号ＳＵＳ１を受けた際には、実行中の処理が終了した後、待機状態にする。 - 特許庁 - To provide a failure detection device equipped with functions to detect the failure of a process without performing a ps command or the like several times, and to detect the failure of the process in a real time.
ｐｓコマンドなどを何度も実行しなくてもプロセスの故障を検出することができ、また、リアルタイムにプロセスの故障を検出することができる機能を備えた故障検出装置を提供することを目的とする。 - 特許庁 - To provide a liquid albumen for business use to be produced through a filtering process and/or a sterilizing process, and capable of forming an albumen pattern when used for producing foods containing egg coagulum portions such as egg-drop soup.
濾過工程や殺菌工程を経て製造される業務用の液卵白であって、卵とじ等の卵の凝固部分を含む食品の製造に際して卵白模様の形成を可能とする液卵白を提供する。 - 特許庁 - The case controlling/not controlling the destination discovering process is switched by the external environment detected by an external environment detecting section for a destination discovering server for providing a destination discovering process to an originator communication node.
発信元通信ノードに宛先発見過程を提供する宛先発見サーバに対して、外部環境検知部が検知した外部環境によって、宛先発見過程を制御する場合としない場合とを切替える。 - 特許庁 - To provide a reflectively backed photosensitive element which reduces small defects, enhances production yield in patterning process and in subsequent process of the reflectively backed photosensitive resin layer, and improves reliability of parts.
微小欠陥を低減させ、反射下地感光性樹脂層のパターニング工程やその後工程での製造歩留りを向上させ、部品の信頼性を向上することができる反射下地感光性エレメントを提供する。 - 特許庁 - As to the rise of the surface frictional coefficient in the process for raising the surface frictional coefficient; the abutting pressure of a cleaning blade 26 to the photoreceptor 2 is made larger than that obtained in the process for lowering the surface frictional coefficient.
表面摩擦係数を上昇させる工程における表面摩擦係数の上昇は、例えば、クリーニングブレード２６の感光体２への当接圧を表面摩擦係数を低下させる工程時よりも大きくする。 - 特許庁 - Of the rental machine 3, a control part 31 performs a process for storing rental software in a PC1 as a reproducing device for the software and a process for erasing the software stored in the PC1 at the end of a rental contract.
レンタル機３において、制御部３１は、レンタルソフトウェアの再生機器であるＰＣ１への該ソフトウェアの格納処理、レンタル契約の終了に応じてＰＣ１に格納されているソフトウェアの消去処理を実行する。 - 特許庁 - The controller does not display the work procedures of the next process even if there is an instruction input, until the standard work time elapses after the display of the work procedure of one process.
ここで、制御装置は、一の工程の作業手順を表示してからその工程の標準作業時間が経過するまでは指示入力があっても次の工程の作業手順に表示を切り替えないことを特徴とする。 - 特許庁 - To provide rotor of a permanent magnet motor capable of fixing a permanent magnet into a magnet insertion hole of a stator iron core without increasing a manufacturing process such as a process of coating an adhesive.
接着剤を塗布する工程等の製造工程を増やすことなく、永久磁石を固定子鉄心の磁石挿入孔内に固定することができる永久磁石電動機の回転子を提供することを目的とする。 - 特許庁 - (1) To provide a method for producing a cuproammonium rayon capable of performing a coagulation process from a cuproammonium cellulose solution to a cuproammonium rayon in one process without using a diluted sulfuric acid.
銅アンモニアセルロース溶液から銅アンモニアレーヨンへの凝固工程を希硫酸を使用することなく、１工程によって行うことができる銅アンモニアレーヨンの製造方法を提供することを第一の課題とする。 - 特許庁 - In the manufacturing method of the plasma display member including a process of forming a pattern on a substrate, the process of forming the pattern includes following sub-processes (A) to (D).
基板上にパターンを形成する工程を含むプラズマディスプレイ用部材の製造方法であって、パターンを形成する工程が、下記の（Ａ）〜（Ｄ）の工程を含むことを特徴とするプラズマディスプレイ用部材の製造方法。 - 特許庁 - To secure sufficient gettering ability while avoiding automatic doping in a heating process in response to the requirement for flatness in a 70 (mm) generation lithography process and without regard to the gas seed of the oxidation/non-oxidation atmosphere.
７０（ｎｍ）世代のリソグラフィー工程の平坦度要求に応え、且つ酸化・非酸化という雰囲気ガス種に関わらず、加熱工程におけるオートドーピングを回避しながらも十分なゲッタリング能力の確保を可能とする。 - 特許庁
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