「To process」を含む例文一覧(50000)
＜前へ 1 2 .... 42 43 44 45 46 47 48 49 50 .... 999 1000 次へ＞- "patented product" means a product which is a patented invention or, in relation to a patented process, a product obtained directly by means of9the process or to which the process has been applied;
「特許製品」とは，特許発明である製品，又は特許方法に関しては，当該方法により直接に得られた製品若しくは当該方法が適用された製品をいう。 - 特許庁 - To analyze a conventional process execution method and restructure it so as to execute all subprocesses constituting the process easily and efficiently and shorten a lead time of the whole process.
従来のプロセス遂行方法を分析し、プロセスを構成するすべての工程を容易に、しかも効率的に遂行でき、プロセス全体のリードタイムを短縮できるようプロセスを再構築する。 - 特許庁 - To provide multiple lamination of a semiconductor substrate using a simple and easy process, where no mounting/dismounting process for a support board is required for simplified manufacturing process, and to form an embedded wiring en closed with a reliable insulating film.
支持基板の着脱工程が不要で製造工程を大幅に簡略化することができ、簡素かつ容易な工程により半導体基板の多層積層を可能にする。 - 特許庁 - The duration of the second process is set based on a difference between the highest temperature and the lowest temperature of the material to be defrosted at the point of time of switching from the first process to the second process.
また、第２工程の継続時間は、第１工程から第２工程への切り換え時点における解凍物の最高温度と最低温度との差に基づいて設定される。 - 特許庁 - Namely, the process of fastening the electric wires to the first and second fastening parts 120 and 130 (the process of fixing to the wall surface 100) simultaneously serves as the process of checking whether they are in a complete connection state or not.
つまり、第一留部１２０と第二留部１３０への取つ付け工程（壁面１００への固定工程）が、同時に完全接続状態か否かの検査工程を兼ねている。 - 特許庁 - in relation to a process for which a standard patent or a short-term patent (as the case may be) has been granted, a product obtained directly by means of the process or to which the process has been applied
標準特許又は(場合により)短期特許が付与されている方法については，当該方法を用いて直接取得された製品又は当該方法が応用された製品 - 特許庁 - For example, if the user has blue pupils, a process to lower a color temperature (process by which white is tinged with red) is performed, and if the user is a boy, a process to increase a contrast is performed.
例えば、使用者の瞳が青色であれば、色温度を下げる処理（白色がやや赤味を帯びる処理）を行い、使用者が少年”であれば、コントラストを高くする処理を行う。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method for a display by which a photolithographic process is eliminated by changing a wet etching process to a dry etching process using laser and high productivity is realized.
ウェットエッチングプロセスを、レーザを用いたドライエッチングプロセスにすることにより、フォトリソグラフィー工程を削減でき、高生産性を実現するディスプレイの製造方法を提案することを目的とする。 - 特許庁 - A process state change is detected by the work process state change detection server 2, and the change is reported by mail to a manager if the change is relevant to a state of a related process.
作業工程状態変更検出サーバー２は、工程状態の変更を検出し、それが関連工程の状態に関わるものであれば、その変更をメールで管理者に伝える。 - 特許庁 - Preferably, the object transferred to the archive database is a process instance, which is preferably selected from all of the instances of a certain process model according to a certain characteristic value of the process model.
好ましくは、アーカイブ・データベースに転送されるオブジェクトはプロセス・インスタンスであり、あるプロセス・モデルのインスタンスすべてから、このプロセス・モデルのある特性値に応じて選択されるのが好ましい。 - 特許庁 - The pseudo bonding inspection process includes a pair selection process for selecting combination of two substrates to be bonded, and a relative position calculation process for calculating a bonding position of the substrates to be bonded.
擬似貼り合せ検査工程は、貼り合せる２枚の基板の組合せを選定するペア選定工程と、２枚の基板の貼り合せ位置を計算する相対位置計算工程とを含む。 - 特許庁 - With respect to a production process of a semiconductor device, history information related to a processor used in each the process is stored in a process information collection part 3 as the explanatory variable of multi-valued information.
半導体デバイスの製造工程に関して、各工程で用いられる処理装置に関する履歴情報を、多値情報の説明変数として、工程情報収集部３に記憶する。 - 特許庁 - To provide a useful operational method in a converter, particularly, in a situation of an energy saving when a non-normal state is developed in a refining process or a casting process succeeded to this process.
精錬工程またはそれに続く鋳造工程において非定常状態が発生した際の転炉の有利な操業方法について、特に省エネルギーの立場から提案する。 - 特許庁 - To simplify a process for fixing an electronic component, especially an IC of a prescribed CSP or BGA structure to a substrate by discontinuing a solder melting process and a following cleaning process.
電子部品、特に所謂ＣＳＰやＢＧＡ構造のＩＣを基板へ固定するための工程を、はんだの溶融及びその後の洗浄工程を廃止することによって簡略化する。 - 特許庁 - To provide a periodic inspection process management system for supporting addition or change of an inspection process so as not to generate interference between each inspection process, in a nuclear power plant.
原子力発電所において、点検工程間の干渉などが生じないよう点検工程を追加または変更するのを支援する定期点検工程管理システムを提供する。 - 特許庁 - A process scheduling change part 102 receives an interruption from the memory scheduler 200 to change a process scheduling condition of a CPU core 11 from a priority of a process to the bus use rate thereof.
プロセススケジューリング変更部１０２は、メモリスケジューラ２００からの割り込みを受け、ＣＰＵコア１１のプロセススケジューリング条件を、プロセスの優先度からプロセスのバス使用率に変更する。 - 特許庁 - To provide an information processor and an information processing method of server machine information for easily acquiring the machine information to process it by utilizing specifications of OPC (OLE for Process Control).
ＯＰＣ（OLE for Process Control）の仕様を利用することで、サーバマシン情報を容易に取得し、これを取り扱うことができるサーバマシン情報の情報処理装置および情報処理方法を提供する。 - 特許庁 - Moreover, processes may also be curtailed by applying wiring process to lay wires from the through electrodes to the semiconductor standard process such as common use of the wiring process from the gate electrode.
さらに貫通電極からの配線工程をゲート電極からの配線工程と共有化する等、半導体標準プロセスに適合させることで工程を短縮することができる。 - 特許庁 - To reduce influence on reactive monomers before polymerization alignment process and to improve stability of a liquid crystal medium for the polymerization alignment process, in a manufacturing process of the medium.
重合配向処理のための液晶媒体の製法において、重合配向処理前の反応性単量体に対する影響を減少し、前記媒体の安定性を改善すること。 - 特許庁 - To efficiently discriminate whether or not a process is abnormal from the change of spectrums obtained by carrying out the wavelet-analysis of main component scores corresponding to process result data outputted from a process side.
プロセス側から出力されるプロセス実績データに対応する主成分スコアをウェーブレット解析して得られるスペクトルの変化からプロセスが正常かどうかを効率良く判別推定する。 - 特許庁 - To provide a process for fabricating a silicon device in which the yield can be enhanced by preventing production of foreign substances in the fabrication process, and to provide a process for manufacturing a liquid ejection head.
製造過程における異物の発生を防止して、歩留まりを向上することができるシリコンデバイスの製造方法及び液体噴射ヘッドの製造方法を提供する。 - 特許庁 - A process liquid supply pipe 63 connected to a process liquid nozzle 50 for discharging a process liquid toward a center of surface of a substrate W is connected to a mixing valve (multiple valve) 80.
基板Ｗの表面中央に向けて処理液を吐出する処理液ノズル５０に接続された処理液供給管６３は、ミキシングバルブ（多連弁）８０に接続されている。 - 特許庁 - The method of forming the fine metal pattern comprises dry film resist thinning treatments (T1 to T4) which are carried out in a period from a process of coating the dry film resist on a board (a) to a process of carrying out an etching process (d).
基板上にドライフィルムレジストを貼り付け（ａ）てから、エッチング（ｄ）を行うまでの間に、ドライフィルムレジストの薄膜化処理（Ｔ１〜Ｔ４）を行う金属パターンの形成方法。 - 特許庁 - To conduct a process of taking an uppermost single plate member off plural plate members laid one upon another, and a process of feeding the plate member to a carrying table in the same process.
重なり合った複数の板材Ｗから最上位の板材Ｗを一枚取りする行程と、この板材を搬送テーブル２１へ送り出す行程を同一行程により行う。 - 特許庁 - Due to this process, it is possible to considerably reduce the time required for mounting in a subsequent mounting order grouping process S11 and a mounting order sorting process S12.
この工程を経ることにより、次工程の実装順グルーピング工程Ｓ１１、および実装順ソーティング工程Ｓ１２において大幅な実装時間の短縮化を実現することができる。 - 特許庁 - To provide a method to form silicon dioxide films that have an extremely low wet etch rate in HF solution using a thermal CVD process, ALD process or cyclic CVD process.
熱ＣＶＤプロセス、ＡＬＤプロセス又はサイクリックＣＶＤプロセスを用いてＨＦ溶液中で極めて低いウェットエッチ速度を有する二酸化ケイ素膜を形成するための方法を提供する。 - 特許庁 - In the manufacturing method for aluminum foil at least including a process deciding a design, a process investigating the shape of a product, a process studying the casting method, a process for designing a mold, and a process working the mold, three-dimensional computerized information is used in at least one process from the process investigating the shape of a product to the process working the mold.
デザインを決定する工程と、製品の形状検討する工程と、鋳造の方案検討を行う工程と、金型設計を行う工程と、金型加工を行う工程と、を少なくとも含むアルミホイールの製造方法において、製品の形状検討する工程から金型加工を行う工程までの少なくとも1つの工程において３次元の電子化情報を用いる。 - 特許庁 - To provide a process cartridge which can be displaced to a maintainable state without disassembling the process cartridge itself, and can be restored, and in which a process gap is easily measured, and an image forming apparatus using the process cartridge.
プロセスカートリッジ自体を分解することなく保守可能な状態に変位させ、かつ、復元可能なプロセスカートリッジ、プロセスギャップの測定が容易なプロセスカートリッジおよびこれらのプロセスカートリッジを用いた画像形成装置を提供すること。 - 特許庁 - Therein, a hydrogen concentration in an environment from the annealing process to the retention process is 2 to 40 volume% and a dew point DM of the environment in the annealing process and a dew point DL of the environment in the retention process satisfy the following relation: DL≤-30°C and DM-DL≥10°C.
ここで、焼鈍処理から保持処理における雰囲気中水素濃度は2〜40体積％、かつ焼鈍処理における雰囲気の露点DMと保持処理における雰囲気の露点DLとは次の関係を満たす： DL≦-30℃、かつDM-DL≧10℃。 - 特許庁 - To provide a process monitoring and controlling device having a process data-storing function which is ready for various kinds of analysis without preliminarily selecting or registering all process data inputted to a control device or the like, the function storing the process data for a long period of time.
制御装置等に入力されるすべてのプロセスデータをあらかじめ選択や登録をすることなく、様々な解析等に対応できるプロセスデータの長期データ保存機能を有するプロセス監視制御装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a process operation support apparatus and a process operation support method capable of effectively supporting an operation relating to a plant by extracting and providing proper information and by analyzing a current state of a process or predicting the process.
適切な情報を抽出、提示することにより、プロセスの現状を解析し、あるいはプロセスを予測することで、プラントに対する操作を効果的に支援できるプロセス操作支援装置およびプロセス操作支援方法を提供する。 - 特許庁 - The process contains the process controlling the temperature of a pedestal 44 at a temperature from approximately 400°C to 650°C during an initial period and the process maintaining a pressure within a range between approximately 1 to 10 millitorr in the process chamber 10 during the initial period.
プロセスは、また、初期期間中、約４００から６５０℃の間にペデスタル４４の温度を制御する工程、上記初期期間中、プロセスチャンバ１０内で、約１から１０ミリトールの間の範囲で圧力を維持する工程を含む。 - 特許庁 - This treatment method for paper waste includes: (a) a process of burning paper waste for ashing; (b) a process of heating the ash generated in the process (a) to generate a molten body; and (c) a process of quenching the molten body to form a glass solid matter.
紙廃棄物の処理方法は、（ａ）紙廃棄物を燃焼させ、灰化する工程と、（ｂ）工程（ａ）で生じた灰を加熱して、溶融体を生じさせる工程と、（ｃ）前記溶融体を急冷し、ガラス固形物とする工程と、を含む。 - 特許庁 - The logic unit BSL is connected to a microprocessor MP through a proper bus B1 and to process data, specially, a process-input part signal and a process-output part signal through the other bus B2 forming a process data interface.
各レジスタが位置不変の相対識別情報を用いて複合系内にて論理ユニット（ＢＳＬ）の位置に左右されずに読み込み可能及び読み出し可能となるように、前記レジスタが、入力部及び出力部と接続されていること。 - 特許庁 - To provide a solid state imaging device whose element pattern is finer, and to provide a manufacturing method of the solid state imaging device which employs a furnace annealing process with no nitriding process of a gate oxide film nor rapid thermal process in a main thermal treating process.
素子パターンがより微細な固体撮像装置と、ゲート酸化膜の窒化処理と、主要熱処理工程における急速熱処理とを行うことなく、ファーネスアニール処理を採用する固体撮像装置の製造方法とを実現する。 - 特許庁 - Likewise, the drying temperature when the mat is dried is made to be ≤80°C and the time until the beginning of the drying process from the wetting process is made to be 0.5 to 5.0 sec.
また、マットを乾燥するときの乾燥温度を８０℃以下とし、湿潤工程から乾燥工程に入るまでの時間を０．５〜５．０秒とする。 - 特許庁 - To omit a machining process by a lathe, to eliminate the generation of chips and to reduce material in a manufacturing process of a welded joint seat plate for a concrete pile.
コンクリートパイル用溶接継手座板の製造工程において、旋盤による切削加工工程を省き、切り屑の発生がなく、材料を節減できる。 - 特許庁 - To simplify a manufacturing process only for a process for handling an electric conductor, and to correspond to cables having a plurality of sizes.
製造工程を導電体を扱う工程のみに簡略化することができるとともに、複数の太さのケーブルに対応することができるようにする。 - 特許庁 - A process 1008 for subjecting the thin-film surface to oxidation treatment down to a specified depth may be included prior to the process 1010 for thinning the thin film.
上記薄膜を薄くする工程１０１０の前に薄膜表面を所定の深さまで酸化処理する工程１００８を含めることも可能である。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a seamless sleeve-like relief printing plate which corresponds to a CTP(Computer To Plate) process system and has no developing process.
ＣＴＰ（Ｃｏｍｐｕｔｅｒ Ｔｏ Ｐｌａｔｅ）製版システムに対応し、且つ現像工程を有しない、シームレススリーブ状凸版印刷版の製造方法を提供する。 - 特許庁 - To improve both of data processing performance and reliability when a unit for a disk device to process data is different from a unit for a file system to process data.
ファイルシステムがデータを処理する単位と、データを処理する単位とが異なる場合に、データ処理の性能及び信頼性をともに向上させる。 - 特許庁 - To obtain a process and a apparatus simplified by omitting a process for transferring an unfixed toner image to a recording medium and also to improve image quality.
未定着トナー像を記録媒体に転写するプロセスを省略して簡略化したプロセス及び装置とすると共に、画質を向上させることにある。 - 特許庁 - To provide a printed circuit board that allows the yield of a process to be increased by simplifying a process of forming a multilayer connection structure, and to provide a method of manufacturing the same.
多層連結構造を形成する工程を簡素化して、工程収率を増大させるプリント基板及びその製造方法を提供する。 - 特許庁 - To provide a manufacturing method of a light emitting device having a simplified manufacturing process, to provide a light emitting display device having a simple manufacturing process, and to provide a light emitting display.
製造プロセスを簡易化する発光表示装置の製造方法、製造プロセスが簡易な発光表示装置、及び発光ディスプレイを提供すること。 - 特許庁 - To provide a process cartridge that can be smoothly attached to the body of an apparatus, and to provide an image forming apparatus that has such a process cartridge.
装置本体に対する円滑な装着が可能である、プロセスカートリッジおよびそのようなプロセスカートリッジを備える画像形成装置を提供する。 - 特許庁 - A screw is allowed to advance at the speed corresponding to the filling process while renewing the position command to a screw at every time interval after the completion of a metering process.
計量工程の終了後、時間間隔毎にスクリュに対する位置指令を更新しながら、充填工程に対応する速度でスクリュを前進させる。 - 特許庁 - To provide a digital signal processor for commonly using circuits and elements by a selectively recording process to data storage media and a selectively reproducing process to a display.
データ蓄積メディアへの選択記録処理とディスプレイへの選択再生処理とで、回路，素子を共用するディジタル信号処理装置を提供する。 - 特許庁 - According to the data in a device data storage part 4, the periods needed to process objects of processing in process are found according to the remaining processes.
装置データ記憶部４内のデータに基づいて、残工程のそれぞれについて、仕掛かり中の処理対象物の処理に要する所要期間を求める。 - 特許庁 - (d) A distance between the lens and the subject to be objected is varied, while the process (a) to the process (c) are repeated to calculate the focus evaluation index each distance.
（ｄ）レンズと観測対象物との間の距離を変化させながら、工程ａから工程ｃを繰り返し、距離ごとにフォーカス評価指標を求める。 - 特許庁 - Thereafter, in a process 8, the molded body subjected to a first burning process is cooled down to room temperature (20°C) at a temperature drop rate of 300°C/h and left to stand for two hours.
この後、工程８で、第１回目の焼成を行った後の成形体を、降温速度３００℃／ｈで室温（２０℃）まで冷却し、２時間保持する。 - 特許庁
