「To process」を含む例文一覧(50000)

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  • It is possible to require the input of a password so as to use the process cartridge 4 by adding the security mechanism 8 to the process cartridge 4.
    また、カスタマイズプロセスカートリッジ４にセキュリティ機構８を付加することで、カスタマイズプロセスカートリッジ４の使用にパスワードの入力を要求することも可能である。 - 特許庁
  • Therefore, it is allowed to reduce the number of rectiles to be used in the manufacturing process, and to solve the problem of complication in the manufacturing process accompanied with the miniaturization of a thin film transistor(TFT).
    従って、作製工程において使用するレチクル数を減少し、ＴＦＴの微細化に伴う作製方法の複雑化の問題を解決できる。 - 特許庁
  • In this way, a small circuit scale can be used to perform an interleaving process equivalent to a bit interleaving process to effectively improve the reception quality at a receiving end.
    これにより、小さい回路規模でビットインターリーブと等価のインターリーブ処理を行って、受信側での受信品質を有効に向上させることができる。 - 特許庁
  • To configure an information processor to execute an interpolation process of a print setting according to environment of a client and a suppression process of a conflict among setting values of the print setting.
    クライアントの環境に応じた印刷設定の補間処理と、印刷設定の設定値間のコンフリクトの抑制処理とを行えるようにする。 - 特許庁
  • To provide a process designing method for a product made to order which can propose an optimum process design plan for a product made to order in a short time.
    受注生産において短時間で最適な工程設計案を提案することができる受注生産における工程設計方法を提供する。 - 特許庁
  • To monitor a polarization state of illumination light in a manufacturing process to accurately feedback to an exposure process in exposure using polarized light illumination.
    偏光照明を用いる露光において、照明光の偏光状態を製造工程中に監視して露光工程へ的確にフィードバックできるようにすること。 - 特許庁
  • To attain high accuracy of processing of an atomic force microscope microprocessing device and to make it possible to remove process waste produced in a cutting step by a process probe.
    原子間力顕微鏡微細加工装置の加工の高精度化と加工探針による切削で発生した加工屑をインラインで除去可能にする。 - 特許庁
  • To provide an exposure apparatus capable of preventing expansion of damage due to liquid which has flowed out, and allowing an exposure process and a measurement process to be properly performed.
    流出した液体による被害の拡大を防止し、露光処理及び計測処理を良好に行うことができる露光装置を提供する。 - 特許庁
  • To cause less change of quality of an inorganic anti-reflective film even when subjected to a wetting (wet peeling-off) process or a plasma ashing process when it is desired to reprocess the film.
    再工事が必要な場合に、ウェット処理（湿式剥離）や、プラズマアッシング処理を行っても、無機反射防止膜の膜質が変化しにくいようにする - 特許庁
  • When displaying the possible target number of sheets subjected to the sorting process, the possible target number of sheets subjected to the sorting process is calculated based on the reference amount adapted to that original document type.
    ソート処理可能な目安枚数を表示する際には，その原稿タイプに対応する基準量を基にソート処理可能な目安枚数を算出する。 - 特許庁
  • To improve the efficiency of access to pixel data stored through a multiple-value drawing process to intermediate data of PDL with a translucent drawing process set.
    半透明描画処理が設定されたＰＤＬの中間データに対する多値描画処理を経て保存されたピクセルデータへのアクセス効率を向上させる。 - 特許庁
  • To reduce the cost of a neutralizing agent adapted to the waste liquid of a semiconductor wafer manufacturing process required heretofore and to realize the stable operation of a flocculation and sedimentation process.
    従来必要とした半導体ウェーハ製造工程の排液の中和剤コストを削減でき、凝集沈殿工程の安定操業の実現を図る。 - 特許庁
  • Then, a recipe correction part corrects a recipe to be supplied to the process apparatus based on the correction value output from the correction value calculation part and transmits the corrected recipe to the process apparatus.
    そして、レシピ補正部は補正値演算部が出力する補正値に基づいてプロセス装置に供給するレシピを補正してプロセス装置へ送信する。 - 特許庁
  • To reduce the size of a substrate, to simplify the mounting process while reducing the cost, and to realize high density arrangement of the counter electrode on a diaphragm while simplifying the process.
    基板サイズの小サイズ化、実装工程の簡略化及び低価格化、振動板の対向電極の高密度化、工程の簡略化等を図る。 - 特許庁
  • To provide a support process determination method capable of automatically determining which process is required to be supported by an instructor to advance a line most smoothly.
    どの工程に対して指導員を支援させれば最もラインが円滑に進行するかを自動で判断できる支援工程判断方法を提供する。 - 特許庁
  • When detecting that it is detached, the process advances to S8 and a detaching instruction is canceled, and then the process advances to S9 and shifting to an imaging standby state is performed.
    取り外されたことを検出した場合にはＳ８に進み、着脱指示を解除した後に、Ｓ９に進み撮影待機状態に移行する。 - 特許庁
  • To eliminate the process to stick a magnetic core to a coil bobbin in the manufacturing process of a transformer which is used in various kinds of power sources.
    本発明は各種電源に使用されるトランスに関するものであり、コイルボビンと磁芯の接着工程を廃止することを目的としたものである。 - 特許庁
  • To provide a semiconductor module which enables a connection process to be easily performed, and to provide a manufacturing method of the semiconductor module.
    接続工程が容易に行える半導体モジュールとその製造方法を提供する。 - 特許庁
  • A plurality of fiber bundles B are fed to a nip roller 11 in parallel to be fed out to a fibrillation process.
    複数の繊維束Ｂをニップローラ１１で並列に搬送して開繊工程に送出する。 - 特許庁
  • To allow a user to operate an image processing apparatus to process desired image data through easy operation.
    ユーザが、容易な操作で、所望の画像データを画像処理装置に処理させることができる。 - 特許庁
  • The priming liquid is delivered to the single phase extractor throughout the process to dry and/or to wet.
    プライミング液は、乾燥および／または濡らすプロセスの全体で単相抽出器に送出される。 - 特許庁
  • To prevent damage to color filters in a manufacturing process by enhancing their strength and to improve contrast.
    カラーフィルタの強度を高め製造工程における損傷を防ぐとともに、コントラストを向上する。 - 特許庁
  • A Java (R) VMA 10 invokes a Java VM B 20 in order to execute processing to be performed by process invocation, which is processing to be invoked by an application body.
    Java（登録商標）ＶＭＡ１０はアプリケーション本体が起動する処理である。 - 特許庁
  • To simplify a process and to improve product quality, in relation to a semiconductor chip laminate.
    半導体チップ積層体に関して、工程の簡略化と製品品質の向上を目的とする。 - 特許庁
  • To process collected engine sound to engine sound with desired ramble feeling, and provide it to a driver.
    収音したエンジン音を所望のランブル感を持ったエンジン音に加工し、運転者に提供する。 - 特許庁
  • To conform operations of process ships and a loader module, without having to connect the ships to the module.
    プロセスシップをローダモジュールに連結することなく、プロセスシップおよびローダモジュールの動作確認を行う。 - 特許庁
  • To deploy a BPEL process, you need to add it as a JBI module to a Composite Application project.
    BPEL プロセスを配備するには、JBI モジュールとして複合アプリケーションプロジェクトに追加する必要があります。 - NetBeans
  • To simplify a working process, to reduce a time required for it, and to easily and inexpensively forming a micropattern.
    加工プロセスが簡易かつ短時間であり、微細パターンの形成を簡便で安価に行なう。 - 特許庁
  • To provide a business processing management system allowed to be quickly altered corresponding to alteration of a business process.
    業務プロセスの変更に対して機敏に変更可能な業務処理管理システムを提供する。 - 特許庁
  • To enable a user to easily confirm whether a process corresponding to a key has been correctly performed.
    ユーザがキーに対応する処理が正常に行われたか否かを容易に確認することができる。 - 特許庁
  • In a manufacture process, the carbon nanotubes turn their longitudinal directions to the negative electrode to become easy to deposit.
    製造過程において、カーボンナノチューブは、その長さ方向を陰極に向けて堆積しやすくなる。 - 特許庁
  • To prevent the burning of a chlorinated polyolefin when exposed to high temperatures of 120°C to 200°C in the separation process.
    分離工程での１２０℃から２００℃の高温において、塩素化ポリオレフィンの焼けを防止する。 - 特許庁
  • To provide an apparatus and method to communicate field devices to controllers in a process control system.
    プロセス制御システムにおいてフィールド装置をコントローラに連通する機器および方法の提供。 - 特許庁
  • The method includes a mixing process to mix source material powder containing at least barium and titanium to obtain mixture powder, a calcination process to calcine the mixture powder at specified temperature and pulverizing to obtain calcined powder, a cleaning process to clean the calcined powder, and a correcting process for the composition ratio to replenish the calcined powder with barium after the cleaning process, and the calcination process is repeated for a plurality of times.
    少なくともバリウムおよびチタンを含む原料粉末を混合して、混合粉末を得る混合工程と、上記混合粉末を所定温度で仮焼した後、粉砕して、仮焼粉末を得る仮焼工程と、上記仮焼粉末を洗浄する洗浄工程と、上記洗浄工程の後に、バリウムを上記仮焼粉末に補充する組成比補正工程と、を含み、かつ、上記仮焼工程を複数回繰り返す。 - 特許庁
  • To prevent an unauthorized person from tracing a tag device distribution process.
    第三者によるタグ装置の流通過程の追跡を防止する。 - 特許庁
  • Then, the Si nitride film 3 and the Si oxide film 2 are subjected to an etching process.
    次いで、Ｓｉ窒化膜３及びＳｉ酸化膜２をエッチングする。 - 特許庁
  • A process for putting mixed fibers and subjecting them to needle-punching is not performed.
    混合繊維を載置してニードルパンチを施す工程は行わない。 - 特許庁
  • To appropriately process foreign substance composed of metal remaining on recording paper.
    記録紙に留められた金属からなる異物を適切に処理する。 - 特許庁
  • The separated liquid is supplied to a water treatment process through a route 12 and the conc. sludge is supplied to a sludge treatment process by a sludge withdrawing pump 11.
    分離液は経路12を介して水処理工程へ、濃縮汚泥は汚泥引抜ポンプ11によって汚泥処理次工程へと供給される。 - 特許庁
  • To provide methods and systems to verify a communication path between a field device and a process controller in a process control system.
    プロセス制御システムにおいてフィールド装置及びプロセスコントローラ間の通信経路を検証するための方法およびシステムを提供する。 - 特許庁
  • To provide a method that allows a super-critical process to be conducted after a liquid process for drying with pattern deformation suppressed.
    パターンの変形が抑制された状態で、液処理に引き続いて超臨界処理を行うことによる乾燥処理ができるようにする。 - 特許庁
  • To achieve an effective image process without increasing processing time even if the process involves high resolution increasing the number of pixels to be processed.
    処理画素数が多くなる高解像度の画像処理においても、処理時間を増大させないでも効果のある画像処理を行う。 - 特許庁
  • To provide a process for the oxidation treatment of furnace black with good efficiency.
    ファーネスブラックを効率よく酸化処理する方法を提供する。 - 特許庁
  • A linear second substrate process line 20 is connected to the output side of a linear first substrate process line 10, to form an L-shape.
    直線状の第１の基板処理ライン１０の出側に、直線状の第２の基板処理ライン２０をＬ字状に接続する。 - 特許庁
  • To provide a noise reduction circuit in a signal process of a digital camera.
    デジタルカメラの信号処理におけるノイズ軽減回路を提供する。 - 特許庁
  • To prevent unevenness of polished amount of CMP in device-element isolation process.
    素子分離工程におけるＣＭＰ研磨量むらを抑制する。 - 特許庁
  • The foam polystyrene case 1 is delivered to transportation means 6 and 19 (second process).
    発泡ケース１を搬送手段６，１９に渡す（第２工程）。 - 特許庁
  • To decrease the possibility of wrong operation in an operation process or a measurement process related to a printed image formed on a printed body.
    被印刷体に形成された印刷画像に関連して操作プロセスまたは測定プロセスにおける誤操作の可能性を低減する。 - 特許庁
  • To reduce the cost incurred in the process of inspection in a chip state.
    チップ状態での検査工程で発生するコストを低減する。 - 特許庁
  • To prevent an opening and closing cover and each constituting member of a process cartridge from abutting to each other when the process cartridge is pulled out by opening the opening and closing cover.
    開閉カバーを開いてプロセスカートリッジを引き出す際、開閉カバー及びプロセスカートリッジの各構成部材が当たらないようにする。 - 特許庁
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