「To process」を含む例文一覧(50000)

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  • This contains the contents of the ELF interpreter information passed to the process at exec time.
    実行時にプロセスに渡された ELF インタプリタ情報が格納されている。 - JM
  • To find out the current working directory of process 20, for instance, you can do this: +4n
    プロセス 20 の cwd を見つけるためには、たとえば次のようにすればよい。 - JM
  • sets the CPU affinity mask of the process whose ID is pid to the value specified by mask .
    は、プロセスID がpidのプロセスの CPU affinity マスクをmaskで指定された値に設定する。 - JM
  • On successful completion, the sempid value for each semaphore specified in the array pointed to by sops is set to the process ID of the calling process.
    操作が成功した場合、sopsが指す配列によって操作対象となった各セマフォのsempidメンバーには呼び出したプロセスのプロセス ID が設定される。 - JM
  • sets the NUMA memory policy of the calling process, which consists of a policy mode and zero or more nodes, to the values specified by the mode , nodemask and maxnode arguments.
    は、呼び出し元プロセスの NUMA ポリシーをpolicyに設定する。 - JM
  • A process has a log priority mask that determines which calls to syslog (3)
    プロセスにはログ優先度マスク(log priority mask)が用意されていて、これを用いてsyslog (3) - JM
  • If the signal signum is delivered to the process, then one of the following happens: 3
    シグナルsignumがプロセスに配送されると、以下のいずれかが発生する。 3 - JM
  • set points to memory which is not a valid part of the process address space.
    setが指しているメモリが、プロセスのアドレス空間の有効な部分ではない。 - JM
  • mask points to memory which is not a valid part of the process address space.
    maskが指しているメモリが、プロセスのアドレス空間の有効な部分ではない。 - JM
  • , thread group)as a whole, and the signal will be delivered to an arbitrary thread within that process.
    で送信されたシグナルはプロセス内の任意のスレッドに配送される。 - JM
  • You can attach one Fault Handler container to either the Process or the Scope elements.
    1 つの フォルトハンドラコンテナを、プロセス要素またはスコープ要素に付加できます。 - NetBeans
  • The IDE provides you with the ability to define logging and alerting for the process activities.
    IDE には、プロセスアクティビティーのログと警告を定義する機能があります。 - NetBeans
  • You learn how to design a BPEL process and deploy.
    ここでは、BPEL プロセスを設計して配備する方法について学習します。 - NetBeans
  • To rationalize ion implanting process for CMOS semiconductor device.
    ＣＭＯＳ半導体装置におけるイオン注入工程の合理化を図る。 - 特許庁
  • PROCESS TO DESULFURIZE HYDROCARBON FRACTION FROM STEAM CRACKING EFFLUENT
    スチームクラッキング流出物からの炭化水素フラクションを脱硫する方法 - 特許庁
  • To provide a catalyst for converting methanol into light olefins along with the process itself.
    メタノールを軽オレフィンに転化する触媒とその工程を提供する。 - 特許庁
  • - Establishment of company-level and process-level controls to mitigate risks
    ・重要な虚偽記載が発生する可能性のあるリスクの識別、分析 - 金融庁
  • To provide a process for efficiently producing ethylene from low sulfur naphtha.
    低硫黄ナフサからエチレンを効率的に製造する方法を提供する。 - 特許庁
  • Namely, the way to make Tenchiban (the board used in the process of the divination called Shikisen) and derive Shika Sanden.
    つまり天地盤の作り方や四課三伝の立て方である。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
  • (l) Tumors of urinary tract due to jobs in the magenta manufacturing process
    １２　マゼンタを製造する工程における業務による尿路系腫瘍 - 日本法令外国語訳データベースシステム
  • A station line I/F unit 11 conducts a connecting process to the line L, and an extension I/F unit 12 conducts a connecting process to telephone terminal equipment T.
    局線Ｉ／Ｆ部１１が局線Ｌとの接続処理を行い、内線Ｉ／Ｆ部１２が電話端末Ｔとの接続処理を行う。 - 特許庁
  • The grid 122 is positioned and fixed to the casing of the process cartridge 100.
    グリッド１２２は、プロセスカートリッジ１００の筐体に位置決め固定される。 - 特許庁
  • To provide a process for navigating through a large amount of audio files.
    大量のオーディオファイルを通してナビゲーションを行う処理を提供する。 - 特許庁
  • TOPOLOGY ANALYZING TOOL USED TO ANALYZE PROCESS CONTROL NETWORK DESIGN
    プロセス制御ネットワ—ク設計の分析に使用するためのトポロジ—分析ツ—ル - 特許庁
  • To provide an image forming apparatus wherein a process cartridge is easily changed.
    容易にプロセスカートリッジを交換できる画像形成装置を提供する。 - 特許庁
  • An optimization process is applied to an information set characterizing a network.
    最適化プロセスをネットワークを特徴付ける情報セットに適用する。 - 特許庁
  • To provide an apparatus which transfers wafers efficiently in a simple process.
    簡略な工程で、効率よくウエハを立て替えする装置を提供する。 - 特許庁
  • To prevent the damage of memory parts in the assembly stage of a process cartridge.
    プロセスカートリッジ組立工程におけるメモリ部品の破損を防止する。 - 特許庁
  • The above-described process is repeated, and excavation is implemented to the designated bottom.
    その後、上述した処理が繰り返され、床付２２まで掘削される。 - 特許庁
  • To reduce a selection process cost and a chip cost by shortening test time.
    テスト時間を短縮し、選別工程コストおよびチップコストを低減する。 - 特許庁
  • To provide a manufacturing process for titanium dioxide nanopowder controlled in grain size.
    粒径の制御された二酸化チタンナノパウダーの製造方法を提供する。 - 特許庁
  • PROCESS FOR ADDING ORGANIC COMPOUND TO COOLANT WATER IN PRESSURIZED WATER REACTOR
    加圧水型原子炉の冷却水に有機化合物を添加するプロセス - 特許庁
  • To provide an adhesive composition suitable for an appended process of a printing method useful to simplify a manufacturing process of a semiconductor chip.
    半導体チップの製造工程を十分に簡略化するのに有用な印刷法の付設プロセスに適した接着剤組成物を提供する。 - 特許庁
  • To provide a technique for accurate temperature measurement in a semiconductor manufacturing process.
    半導体製造プロセスの正確な温度測定技術を提供する。 - 特許庁
  • MANUFACTURE PROCESS APPLIED TO EXPOSURE OF OPTICAL COMPENSATION FILM AND ITS APPARATUS
    光学補償膜の露光に応用される製造プロセス及びその装置 - 特許庁
  • The information to be required for the process plan of the present process is generated simply by inputting the information in the controls 34 to 37 for inputting information.
    情報入力用コントロール（３４〜３７）に情報を入力するだけで自工程の工程計画に必要な情報が生成される。 - 特許庁
  • The process is repeated to complete forming the via hole of 1 piece amount.
    これを繰り返し、前記１ピース分のビアホールの形成を完了させる。 - 特許庁
  • To provide grips useful for carrying an unit even during its assembling process.
    組み付け途中も含めてユニットの持ち運びに便利な把手を設ける。 - 特許庁
  • To improve operability at the time of taking a process cartridge out of a main body.
    プロセスカートリッジを本体から取り出す際の操作性を向上する。 - 特許庁
  • However, considering the fact that the manufacturing process is apt to affect technical features of the product to some degree, it is hard to say that the process is entirely excluded in the assessment in terms of the product-by-process claim.
    ただし、製造方法が、ある程度、物の技術的特徴に影響を与える傾向にあるという事実を考慮すると、プロダクト・バイ・プロセス・クレームに関する評価において、方法が完全に除外されるとは言い難い。 - 特許庁
  • To simplify a manufacturing process of a thin film transistor substrate for TFT.
    ＴＦＴ用薄膜トランジスタ基板の製造工程を単純化する。 - 特許庁
  • To provide an aligner for efficiently performing a continuous lot process by avoiding the risk of a planned lot process being enable to be conducted.
    予定されたロット処理が行えなくなるというリスクを回避して連続ロット処理を効率よく行うことが可能な露光装置を提供する。 - 特許庁
  • Furthermore, the yield at the manufacturing process can be improved owing to it.
    また、そのことで製造工程の歩留まりを向上することができる。 - 特許庁
  • To provide a method for comparing measured spectrum with calculated spectrum stored in library to deduce at least one process parameter of lithography process.
    測定したスペクトルをライブラリに記憶された計算スペクトルと比較し、リソグラフィプロセスの少なくとも１つのプロセスパラメータを割り出す方法の提供。 - 特許庁
  • To minimize firing delay by least process technology cost.
    点弧遅れを最少の装置技術的な費用でもって最少にする。 - 特許庁
  • To provide a process cartridge capable of being smoothly attached to a device main body and an image forming device provided with such a process cartridge.
    装置本体に対する円滑な装着が可能である、プロセスカートリッジおよびそのようなプロセスカートリッジを備える画像形成装置を提供する。 - 特許庁
  • To provide a method and an apparatus for the etching manufacturing process of a panel.
    パネルのエッチング製作プロセスの方法及びその装置を提供する。 - 特許庁
  • To protect a phase synchronization process when noise is included in a received signal.
    受信信号にノイズが含まれる場合に位相同期処理を保護する。 - 特許庁
  • To provide a process for adjusting the strain of a strained layer on a substrate.
    基板上の歪み層の歪みを調節するプロセスを提供する。 - 特許庁
  • To provide a process controller capable of highly precisely controlling a long process value whose response time delay is long ranging from several to 20 minutes.
    応答時間遅れが数分から２０分と長いプロセス値を精度良く制御することができるプロセスの制御装置を提供することにある。 - 特許庁
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