「basic pattern」を含む例文一覧(463)
＜前へ 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 次へ＞- The watermark image is correlated with the basic pattern to provide a resulting image.
電子透かし画像は、基底パターンと相関させられて結果画像を提供する。 - 特許庁 - A basic pattern adjustment section 26 adjusts the coefficients P'hij to generate P'hij1-P'hijn.
基本パターン調整部２６は、Ｐ’hijの係数を調節してＰ’hij1〜Ｐ’hijnを生成する。 - 特許庁 - A pattern extraction part 1 extracts a basic frequency pattern according to an inputted natural voice 102.
パターン抽出部１は、入力される自然音声１０２に基づいて、基本周波数パターンを抽出する。 - 特許庁 - Then an inspection pattern is formed on the basis of the basic pattern, the variation condition and the inspection condition.
また、ＴＥＧパターンの基本形状、バリエーション条件、及び検査条件に基づいて、検査用パターンを作成する。 - 特許庁 - The control part switches to the passing light distribution pattern via the light distribution pattern for a basic low beam from the additional light distribution pattern, or returns to the additional light distribution pattern via the light distribution pattern for the basic low beam from the passing light distribution pattern, when receiving the passing signal when forming the additional light distribution pattern in the ADB mode.
制御部は、ＡＤＢモードで付加配光パターンを形成しているときにパッシング信号を受けた場合には、付加配光パターンからベーシックロービーム用配光パターンを経由してパッシング用配光パターンに切り換えるか、またはパッシング用配光パターンからベーシックロービーム用配光パターンを経由して付加配光パターンに戻す。 - 特許庁 - A servo writer 2 built in a disk drive performs positioning control of a head 12 based on a basic servo pattern 100 recorded on the disk 10, and writes a new servo pattern near to the basic servo pattern 100.
ディスクドライブに組み込まれたサーボライタ２は、ディスク１０上に記録された基礎サーボパターン１００に基づいてヘッド１２を位置決め制御して、新サーボパターンを基礎サーボパターン１００の近傍に書き込む。 - 特許庁 - This wall panel is constituted by laminating a basic material and a printed pattern layer, a first clear layer, and a second clear layer on the basic material sequentially in this order from below.
基材と、この基材上に下層から順に印刷柄層、第１のクリア層、第２のクリア層を積層させた壁パネル。 - 特許庁 - A coordinate transformation part transforms the return map 202 to a fan-shaped basic pattern 210.
座標変換部は、リターンマップ２０２を扇形の基本パターン２１０へ変換する。 - 特許庁 - By forming a tread in a block pattern, the basic irregular ground running performance is secured.
トレッドをブロックパターンとすることで、基本的な不整地走行性能を確保する。 - 特許庁 - To improve design efficiency of a pattern by individually defining a basic pattern and a correction rule on pattern formation, in pattern forming data to be used on forming a geometric pattern on a substrate.
基板上に幾何学的パターンを形成する際に使用されるパターン形成用データにおいて、基礎パターンとパターン形成時の補正ルールとを個別に明確化し、パターンの設計効率を向上する。 - 特許庁 - Detection rate is compared between a basic pattern and a spare pattern and if the detection rate by the spare pattern is higher, a shift is detected using the spare pattern as the reference pattern at first.
基本パターンとスペアパターンとの検出率等を比較して、スペアパターンによる検出率が高い場合は、最初に、基準パターンとしてスペアパターンを使用してずれ量の検出を行うようにする。 - 特許庁 - A pattern table memory 18-3 stores basic patterns for interlace, each type of which corresponds to each gradation pattern.
パターンテーブルメモリ１８−３は各階調レベルに対応付けてそれぞれ１種類ずつの間引き用基本パターンを記憶する。 - 特許庁 - To provide a vehicle head lamp capable of obtaining an auxiliary light distribution pattern as a spot light distribution pattern overlapping with a predefined basic light distribution pattern unlike conventional vehicle head lamps.
従来の車両用前照灯は、所定の基本配光パターンに重畳するスポット配光パターンとしての補助配光パターンが得られない。 - 特許庁 - Further, correction variation is performed according to the correction variation pattern, the first half of which is the basic correction variation pattern and the latter half of which is the variable correction variation pattern.
そして、基本補正変動パターンを前半とし、可変補正変動パターンを後半とする補正変動パターンにしたがって補正変動が実行される。 - 特許庁 - A ROM 12 stores a basic matrix and character pattern data for indicating the plural specified characters.
ＲＯＭ１２は、基本マトリクスと、複数の特定文字を示す文字パターンデータとを記憶する。 - 特許庁 - a basic stitch that is made by forming a ring with every stitch and producing a chain pattern, called chain stitch
チェーンステッチという,1針ごとに輪を作り鎖状にする刺しゅうなどの基礎ステッチ - EDR日英対訳辞書 - The device pattern PT12 is formed by forming a basic pattern PT having preset fixed width and length, and then forming a projection pattern PT13 to be coupled with the basic pattern PT at least partially.
このデバイスパターンＰＴ１２の形成は、予め設定した一定の幅および長さを有する基本パターンＰＴを形成すると共に、基本パターンＰＴの少なくとも一部に連結されるように突出パターンＰＴ１３を形成することにより行う。 - 特許庁 - A pattern of a character is recorded on a basic card 10 and data about the character is recorded in the magnetic recording section 11 of the basic card 10.
基本カード１０にキャラクタの図柄が記載されており、そのキャラクタのデータが基本カード１０の磁気記録部１１に記録されている。 - 特許庁 - A cell library pattern constituting a basic configuration of a semiconductor circuit pattern is preliminarily subjected to an OPC processing for the layout of a single pattern, and the processed cell library pattern is used to produce a semiconductor chip.
半導体回路パターンの基本構成をなすセルライブラリパターンにあらかじめ単独配置時のＯＰＣ処理が行われたセルライブラリパターンを用いて半導体チップを作成する。 - 特許庁 - The mask for defect inspection is produced by forming the basic pattern on a photomask substrate, applying a resist on the basic pattern, and exposing and developing the resist to form a specified pattern defect.
また、この欠陥検査用マスクは、フォトマスク基板に、基本パターンを形成し、この基本パターン上に、レジストを塗布した後、レジストに、露光及び現像処理を施し、所定のパターン欠陥を形成することにより形成される。 - 特許庁 - When the determined basic variation pattern is a basic variation pattern losing super ready-for-winning, a performance controller 150 determines another mode different from the mode of a ready-for-winning pattern determined in last losing of super ready-for-winning.
演出制御装置１５０は、決定した基本変動パターンがスーパーリーチはずれの基本変動パターンであるときは、前回のスーパーリーチはずれ時に決定したリーチ図柄の態様とは異なる別の態様を決定する。 - 特許庁 - The roll position control element signal ΔSd and the compensation pattern Δh1d are obtained based on the basic pattern Δhc.
この基本パターンΔｈｃに基づいてロール位置制御要素信号ΔＳｄと、さらに補償パターンΔｈ１ｄとを求める。 - 特許庁 - Next, a circuit pattern is formed, and an insulating basic plate 14 is laminated on this plane via a prepreg 13 to transfer the circuit pattern.
次に回路パターンを形成し、この面にプリプレグ１３を介して絶縁基板１４を積層し、回路パターンの転写を行う。 - 特許庁 - A pattern lottery value acquiring means 140 acquires a pattern lottery value to determine a basic variation time of a special symbol.
パターン抽選値取得手段１４０は、特別図柄の基本変動時間を決定するためのパターン抽選値を取得する。 - 特許庁 - A pattern lottery value acquisition section 140 acquires a pattern lottery value for determining a basic variation time of the special symbols.
パターン抽選値取得手段１４０は、特別図柄の基本変動時間を決定するためのパターン抽選値を取得する。 - 特許庁 - By interposing a shield plate 10 between the basic pattern pad 20 and the flat surface part 6a of a female mold 6, a cutting cutter 15 comes in contact with the basic pattern pad 20 first when starting to cross the recessed surface part 6b of the female mold 6, and then, starts to cut the basic pattern pad 20.
遮断プレート１０が原型パッド２０と雌型６の平坦面部６ａとの間に介在することによって、切断カッター１５は、雌型６の凹面部６ｂを横切り始めるときに、初めて原型パッド２０と接触して原型パッド２０を切断し始める。 - 特許庁 - Then the pattern measurement apparatus decomposes design data into basic shapes (step S302), and calculates a normal vector for each basic shape (step S303).
そして、パターン計測装置は、デザインデータを基本形状に分解し（ステップＳ３０２）、基本形状ごとに法線ベクトルを算出する（ステップＳ３０３）。 - 特許庁 - Thereafter, the fuzziness degree of the image of the image data is calculated from the basic fuzziness degree corresponding to the selected basic pattern data (S30 to S70).
その後、選択基本パターンデータに対応づけられた基本ぼやけ度に基づいて、画像データの画像のぼやけ度を計算する（Ｓ３０〜Ｓ７０）。 - 特許庁 - A basic speed pattern of a traveling body is prepared based on from/to data and rope length.
ｆｒｏｍ／ｔｏデータ及びロープ長に基づき移動体の基本速度パターンを作成する。 - 特許庁 - Each basic pattern 1, 2 has its own decided available Duty (areas 1a, 1b, 2).
各基本パターン１，２は、それぞれ使用可能なＤｕｔｙが決められている（エリア１ａ，１ｂ，２）。 - 特許庁 - A pattern forming method forms a resist film 102 containing the quencher of a basic compound, on a substrate 101.
基板１０１の上に、塩基性化合物であるクェンチャーを含むレジスト膜１０２を形成する。 - 特許庁 - This floor member is composed of a basic material 1, a base coat layer 2, a pattern layer 3, and a protective layer 4.
基材１、ベースコート層２、絵柄層３、保護層４により構成された床材である。 - 特許庁 - To provide a pattern forming method that enables microfabrication and is able to form a resist pattern having superior basic properties such as dry etching resistance, developing performance, a pattern shape, etc.
超微細加工が可能で、しかも耐ドライエッチング性、現像性、パターン形状等の基本物性に優れたレジストパターンが形成可能な、パターン形成方法を提供すること。 - 特許庁 - A cell library pattern forming basic constitution of a semiconductor circuit pattern is subjected to an OPC process in advance and a semiconductor chip is formed by using the OPC-processed cell library pattern.
半導体回路パターンの基本構成をなすセルライブラリパターンに予めＯＰＣ処理を行い、ＯＰＣ処理されたセルライブラリパターンを用いて半導体チップを作成する。 - 特許庁 - To accurately evaluate the defect detection sensitivity of an inspection apparatus for a defect in a mask pattern by suppressing influences of the shift of a pattern defect created in a basic pattern from a design value.
基本パターンに作り込んだパターン欠陥の、設計値からのズレによる影響を抑えて、正確にマスクパターンの欠陥検査装置の欠陥検出感度を評価する。 - 特許庁 - A kaleidoscope pattern generation part generates a kaleidoscope pattern by carrying out rotating operation and mirror surface image operation to the basic pattern 210 on kaleidoscope coordinates 204.
万華鏡パターン生成部は、万華鏡座標２０４上において、基本パターン２１０に対して回転操作および鏡面像操作を施して万華鏡パターンを生成する。 - 特許庁 - Consequently, the design efficiency of a pattern can be improved, as compared to a system of correcting each data representing each pattern element of a basic pattern part one by one by an operator.
その結果、基礎パターン部の各パターン要素を示すデータを作業者が１つずつ補正する場合に比べて、パターンの設計効率を向上することができる。 - 特許庁 - A basic rule conversion pattern processing part 51 converts a part coincident with a first data pattern constituted of a parity preservation pattern of input data to a corresponding first code pattern according to a first table.
基本規則変換パターン処理部51は、入力されたデータの偶奇性保存パターンからなる第１のデータパターンと一致する部分を、第１のテーブルに従って、対応する第１の符号パターンに変換する。 - 特許庁 - The variation of torque caused by the variation of a load is defined in a torque pattern storing part 5 as a basic torque pattern that is paired with the rotation position in advance.
負荷の変動によるトルクの変動は、予め回転位置と対にした基本トルクパターンとしてトルクパターン記憶部５に定義される。 - 特許庁 - For a basic circuit, at a timing relating to the fluctuation display start of the special pattern, a fluctuation pattern command capable of specifying the fluctuation display time of the special pattern and a stop pattern command capable of specifying the display result of the special pattern are transmitted.
基本回路は、特別図柄の変動表示開始に関連するタイミングで、特別図柄の変動表示時間を特定可能な変動パターンコマンド、および、特別図柄の表示結果を特定可能な停止図柄コマンドが送信される。 - 特許庁 - In the pattern inspection of a semiconductor device, a basic pattern used for correcting the mounting position of a sample substrate on a supporting base is recorded previously, the positional shift of mounting is corrected using the basic pattern, the image of a pattern formed on the sample substrate mounted on the supporting base is acquired, and then the defect of the pattern is detected from the image thus acquired.
半導体装置のパターン検査において、試料基板の支持台に載置する際の載置位置の補正に用いる基本パターンを予め記録し、基本パターンを用いて載置位置のずれを補正して、支持台に載置された試料基板に形成されたパターンの画像を取得し、取得された画像から、パターンの欠陥を検出する。 - 特許庁 - Electrical path patterns 12a and 12b are formed in a meandering status in which a plurality of basic patterns are continued with the semicircular arc of one turn coil as one basic pattern.
各電路パターン１２ａ，１２ｂは、１ターンコイルの半円弧を１個の基本パターンとして複数個の基本パターンが連続する蛇行状に形成される。 - 特許庁 - After a period calculation means 63 calculates a period h2 on the basis of the rotation angle and a longitudinal width p of the character pattern, a basic pattern generation means 64 generates a basic pattern 10 on the basis of the character pattern drawn in the memory area and the calculated period h2.
周期算出手段６３が回転角度と文字パターンの縦幅ｐとに基づいて周期ｈ２を算出後、基本パターン生成手段６４がメモリ領域に描画された文字パターンと上記で算出した周期ｈ２とに基づいて基本パターン１０を生成する。 - 特許庁 - This device is provided with a function that learns basic patterns constituting a repeated pattern and a function which automatically counts the number of the basic patterns and also locates and positions the object pattern in order to facilitate to locate and position the object pattern existing in the repeated pattern group of the semiconductor element.
半導体素子の繰返しパターン群中に存在する対象パターンの位置出し・位置決めを容易にするため、繰返しパターンを構成する基本パターンを学習する機能と、この基本パターンの数を自動計数するとともに、対象パターンを位置出し・位置決めする機能を持たせる。 - 特許庁 - When the boxes have different sizes, the positional displacement prevention part is formed by cutting a recessive/protrusive pattern from an established basic pattern so as to be conform to the various sizes.
異なるサイズの箱体については、設定した基本パターンから各種サイズに合わせて凹凸パターンを切り出して位置ずれ防止部とする。 - 特許庁 - Also, bit information to be embedded is constituted as a basic pattern prepared by a concentration pattern method, and this is repeatedly embedded in the image data.
また、ここに埋め込むビット情報を、濃度パターン法などで作成した基本パターンとして構成し、これを繰り返し画像データに埋め込む。 - 特許庁 - Moreover, the deformed pitch pattern is set by conducting frequency deformation while holding the approximate shape of the basic pitch pattern without considering a deformation possible range.
さらに、変形可能範囲に捕われることなく、基本のピッチパターンの概形を保ったまま周波数変形して変形ピッチパターンを設定する。 - 特許庁 - A pattern memory section 1-2 stores the representative pattern of every cluster obtained by clustering basic frequency patterns by an accent type and mora.
パターン記憶部１−２は前記基本周波数パターンをアクセント型及びモーラ数でクラスタリングして得られたクラスタ毎の代表パターンを記憶する。 - 特許庁 - A pattern memory section 1-1 stores the representative pattern of every cluster obtained by clustering basic frequency patterns of accent phrase unit with an accent type.
パターン記憶部１−１はアクセント句単位の基本周波数パターンをアクセント型でクラスタリングして得られたクラスタ毎の代表パターンを記憶する。 - 特許庁 - To make a basic pattern composed of a greater number of pixels and also to minimize moire and artifacts.
より多くの画素で基本パターンが構成され、且つ、モアレやアーティファクトを軽減することができるようにする。 - 特許庁
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