「basic pattern」を含む例文一覧(463)
＜前へ 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 次へ＞- To obtain a nap-raised warp knit fabric having a raised needle loop surface to enable clear drawing of a relief pattern or a printed pattern, having excellent abrasion resistance, usable as an upholstery fabric resistant to pilling, and usable also as a basic fabric of an artificial leather by applying a resin composition or an adhesive to the pile surface.
ニードルループ面が起毛されていて凹凸模様や捺染模様を鮮明に描出することが出来、耐摩耗性に優れ、椅子張地等に使用してピリングの発生がなく、パイル面に樹脂組成物や接着剤を塗布して人工皮革の原布としても使用し得る起毛経編布帛を得る。 - 特許庁 - To provide a radiation sensitive resin composition having high sensitivity, high resolution and a high radiation transmittance, excellent in smoothness of a pattern surface in micropattern and capable of preventing partial insolubilization in overexposure without impairing basic solid state properties as a resist such as pattern shape, dry etching resistance and heat resistance.
パターン形状、ドライエッチング耐性、耐熱性等のレジストとしての基本物性を損なわずに、高感度、高解像度で、放射線透過率が高く、微細寸法でのパターン表面の平滑性に優れ、かつ過露光時の部分不溶化を解消しうる感放射性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - To provide a novel radiation sensitive resin composition having high transparency to radiation, excellent basic physical properties for a resist pattern such as in sensitivity, resolution, and pattern shapes, without causing development defects during fine machining, to manufacture semiconductor elements at a high yield.
放射線に対する透明性が高く、しかも感度、解像度、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れるのみならず、微細加工時に現像欠陥を生じることがなく、半導体素子を高い歩留りで製造することができる新規な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - Subsequently, by using an Ar ion etching technology, in addition to normal lithographic technology, the Ni thin film 3 is formed into an Ni thin-film pattern 4 of a diffraction grating pattern by a two-dimensional photonic crystal, having a basic unit of a triangle of one piece of 230 nm with a column diameter of 100 nm (Fig.1(b)).
続いて、通常のリソグラフィ技術にＡｒイオンエッチング技術を用いて、Ｎｉ薄膜３を、直径１００ｎｍの柱径で、一片が２３０ｎｍの三角形を基本単位とする２次元フォトニック結晶による回折格子パターン状のＮｉ薄膜パターン４に形成する（図１（ｂ））。 - 特許庁 - The driving pattern creation means 7 creates such a driving pattern as a correction image is plotted on the light scanning surface 21 so that the observation image may correspond to the change of the screen 2, while plotting a basic image on the light scanning surface 21 so that an observation image to be desirably observed by a viewer may be visually recognized.
駆動パターン生成手段７は、観測者に観測させたい観測画像が視認されるように光走査面２１に基本画像を描画するとともに、スクリーン２の変化に観測画像が対応するように光走査面２１に補正画像を描画するような駆動パターンを生成する。 - 特許庁 - In this method for forming the textile design, the textile design is drawn by being overlapped with a basic pattern for the textile design of which the front view 10 and the rear view 12 are each formed by projecting proportion of the human body, using a reduced scale similar to a scale used in forming the paper pattern of clothing, and jointly using designing ability.
意匠図原型正面図１０、及び背面図１２は、人体プロポーションを投影して作成した意匠図原型であり、この意匠図原型に重ねて、被服の型紙の作成に用いるのと同様の縮尺定規を使用し、かつデッサン力も併用しながら、意匠図を描く。 - 特許庁 - To provide a radiation sensitive resin composition having high sensitivity, high resolution and high radiation transmittance, excellent in smoothness of a pattern surface in micro dimensions and capable of avoiding partial insolubilization in over-exposure without impairing basic solid state properties as a resist such as pattern shape, dry etching resistance and heat resistance.
パターン形状、ドライエッチング耐性、耐熱性等のレジストとしての基本物性を損なわずに、高感度、高解像度で、放射線透過率が高く、微細寸法でのパターン表面の平滑性に優れ、かつ過露光時の部分不溶化を解消しうる感放射性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - Small reflection planes 10 are along the shape of a basic reflection plane C1 to irradiate a circular light distribution pattern P1, and each of the small reflection planes 10 is set so that an angle of reflection (a1) of the major axis side of a light distribution pattern is larger than an angle of reflection (a2) of the minor axis side.
小反射面１０は、円形の配光パターンＰ１を照射する基本反射面Ｃ１形状に沿ってあり、小反射面１０の各々は、配光パターンの長軸側の反射角（ａ１）が短軸側の反射角（ａ２）よりも大きくなるように設定されている。 - 特許庁 - The ink jet nozzle comprises a first step for forming an electrically insulating resist pattern 2a on an electroforming supporting substrate 1, a second step for electroforming a basic body of nozzle 3 on the electroforming supporting substrate 1, and a third step for forming an ink repellent treatment layer 4 on the basic body of nozzle 3 by ink repellent surface treatment while connecting the electroforming supporting substrate 1 with the basic body of nozzle 3.
本発明のインクジェットノズルの製造方法は、電鋳支持基板１上に電気絶縁性のレジストパターン２ａを形成する第１の工程と、電鋳により電鋳支持基板１上にノズル基体３を形成する第２の工程と、電鋳支持基板１とノズル基体３を接続したまま撥インク表面処理によりノズル基体３上に撥インク処理層４を形成する第３の工程とを有する。 - 特許庁 - A photosensitive composition containing a compound for generating an acid by irradiation with a beam of active light or a radiation, a specific basic compound having a polar group, a specific basic compound having no polar groups, and a specific surfactant, and a pattern forming method using the same are provided.
活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、極性基を有する特定の塩基性化合物、極性基を有さない特定の塩基性化合物、及び、特定の界面活性剤を含有することを特徴とする感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法。 - 特許庁 - This sign pattern generating device is provided with an input section 10 from which basic sign patterns are inputted by the users, a microcomputer 20 generating handwritten sign patterns having various shapes from the basic sign patterns inputted at the input section, and an output section 30 outputting the handwritten sign patterns generated by the microcomputer 20 to the users.
ユーザにより基本サインパターンを入力する入力部１０と、入力部により入力された基本サインパターンから形の多種多様な手書きサインパターンを生成するマイクロコンピュータ２０と、当該マイクロコンピュータ２０により生成された手書きサインパターンをユーザに出力する出力部３０と、を備えて構成される。 - 特許庁 - Low-density patch patterns 2-8 belonging to a predefined low-density range of latent image patches constituting a 16-grayscale patch pattern are made of the basic dot matrix (shown) being periodically arranged, with the number and arrangement of dot latent images being mutually different by units of single latent image in the basic dot matrix in accordance with the corresponding density.
１６階調のパッチパターンを構成する潜像パッチのうち所定の低濃度範囲に属するパターン２〜８の低濃度パッチは、図示の基本ドットマトリクスが周期的に配置され、かつ、対応する濃度に応じて基本ドットマトリクス内におけるドット潜像の数及び配置が一ドット潜像単位で互いに異なったものである。 - 特許庁 - To obtain three images which are to be compared in double detection through main scanning toward the same direction, and to perform main scanning in both the normal and reverse directions, in defect inspection for scanning a sample surface on which a repeated pattern where a plurality of basic patterns are repeated is formed, and comparing each image on corresponding parts of the plurality of respective basic patterns.
複数の基本パターンが反復する反復パターンが形成された試料表面を走査し、複数の基本パターン相互の対応部分の画像同士を比較する欠陥検査において、ダブルデテクションで比較される３画像を同一方向に向かう主走査で取得しかつ正逆両方向において主走査を行う。 - 特許庁 - When vector quantization is actually performed, the pattern codes stored in the memory are processed to generate the code of a pattern different from them and the code is used for vector quantization to actualize adaptation to all kinds of images consisting of the solid pattern and edge pattern; and only the basic patterns are stored in the memory 10 to suppress the memory capacity small.
そして、ベクトル量子化を実際に実行する際に、メモリ１０に記憶されている各々のパターンコードに対して演算を施すことにより、これらとは異なるパターンのコードを作成し、ベクトル量子化に利用するようにすることにより、ベタパターンとエッジパターンとで構成されるあらゆる種類の画像に対応できるようにするとともに、メモリ１０には基本パターンのみを記憶しておけば良いようにして、メモリ容量を小さく抑えることができるようにする。 - 特許庁 - To obtain the subject new compound which is readily decomposed with an acid, is not dissolved in a basic aqueous solution and improves etching resistance and pattern profile of resist comprising a conventional carboxylic acid derivative as a main component and an additive.
従来のカルボキシ酸誘導体を主成分及び添加剤として含むレジストの耐エッチング性とパターンプロファイルを向上させるための新規なカルボキシ酸誘導体及びその製造方法を提供することにある。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive resin composition having high transparency to a radiation and suitable for use as a chemically sensitized resist excellent in basic properties as a resist, such as sensitivity, resolution, dry etching resistance and pattern shape.
放射線に対する透明性が高く、感度、解像度、ドライエッチング耐性、パターン形状等のレジストとしての基本性能に優れた化学増幅型レジストとして好適な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - To realize a resist composition having high transparency with respect to far-ultraviolet rays and radiation and moreover, superior in basic properties as a resist, such as sensitivity, resolution, dry etching resistance, pattern shape and line edge roughness.
遠紫外線及び放射線に対する透明性が高く、しかも感度、解像度、ドライエッチ耐性、パターン形状及びラインエッジラフネス等のレジストとしての基本特性が優れたレジスト組成物を実現できるようにする。 - 特許庁 - Firstly, K printing (pattern printing with black toner) 51 is continuously transferred to a belt by fifteen with printing of a dot line corresponding to a progression "000100110101111" of an M sequence of 15-bit length as basic form.
１５ビット長のＭ系列の数列「０００１００１１０１０１１１１」に対応するドットラインの印字を基本形として先ずＫ印字（黒トナーによるパターン印字）５１を１５個連続してベルトに転写する。 - 特許庁 - To provide a chemically amplified positive resist composition which attains cost reduction without impairing basic performances such as sensitivity and resolution, ensures small ruggedness due to stationary waves and improves pattern profile, particularly line edge roughness.
感度、解像度などの基本的な性能を落とさずにコストが低減され、また定在波による凹凸が小さく、パターンプロファイル、特にラインエッジラフネスが改良された化学増幅型ポジ型レジスト組成物を提供する。 - 特許庁 - The resist composition contains a compound which generates a specific alkane sulfonic acid by irradiation with active rays or radiation and a specified basic compound, and the method for forming a pattern is carried out, using the resist composition.
活性光線又は放射線の照射により特定のアルカンスルホン酸を発生する化合物及び特定の塩基性化合物を含有するレジスト組成物及び該レジスト組成物を用いたパターン形成方法。 - 特許庁 - The layout apparatus for a pattern figure functions to layout basic figures 44 in the number determined by a determining part 34 of the layout number in a ring-type region 41 from the top of the ring-type region 41 as the starting point with a designated layout spacing 53.
リング型領域４１の頂点を起点にして、指定された配置間隔５３をもって配置数決定部３４により決定された配置数分の基本図形４４をリング型領域４１に配置する。 - 特許庁 - To change a design or the like of a table top as needed by preparing a plural kinds of tabletop blocks having the same basic shape and different designs on the surfaces and by changing a pattern of placing the tabletop blocks.
基本形態が同じであって表面模様の異なる複数種類の天板ブロックを用意し、この天板ブロックの配置パターンを変えることによって、天板の模様等を随時変化させることができるようにする。 - 特許庁 - To provide a method in which a semiconductor device, in which a working uniformity cannot be obtained in a plasma etching pattern determined by a basic structure can be etched by a plasma in the excellent working uniformity.
基本構造で決まるプラズマエッチングパターンでは優れた加工均一性を得ることができない半導体デバイスを、優れた加工均一性でプラズマエッチングすることができる半導体デバイスの製造方法を提供する。 - 特許庁 - M printing (pattern printing with magenta toner) 52 is superposed and printed on the fifteen basic forms by changing the number of dots of deviation from -7 to +7, so as to form fifteen different patterns of K+M printing 54 in total.
この１５個の基本形に対し、Ｍ印字（マゼンタトナーによるパターン印字）５２を、ズレ量のドット数を−７から＋７まで変化させて重ね印字し、合計１５個のＫ＋Ｍ印字５４のそれぞれ異なるパターンを形成する。 - 特許庁 - An HVECU 100 makes the vehicle 1 acceleration-travel in the operation state of an internal combustion engine 10, and inertia-travel in the non-operation state of the internal combustion engine 10 according to a set basic travel pattern.
ＨＶＥＣＵ１００は、内燃機関１０を作動状態にしての加速走行と、内燃機関１０を非作動状態にしての惰性走行とを、設定された基本走行パターンに従って車両１に行わせる。 - 特許庁 - A frequency recycle pattern 600 includes a cell to be covered with band width assigned to the basic communication beam and includes a cell to be covered with band width assigned to the transient communication beam as well.
本方法は、実質的に重複しない周波数帯に割り当てられる、ｎ個の基本通信ビーム（３０２〜３０８）を発生するステップを含み、これら基本通信ビームは第１組の所定帯域幅全体に及ぶ。 - 特許庁 - The metal plate which is in the vicinity of the workpiece holder 57 and not larger than the set dimension among the metal plates W is controlled so as to release the basic conveying pattern and to be conveyed by the loader 14 on the behind side, which has no working tools 58, 59.
板材Ｗのうち、ワークホルダ５７の近傍でかつ設定寸法以下のものは、基本搬送パターンを解除し、作業具５８，５９を有しない後ろ側のローダ１４で搬送するように制御する。 - 特許庁 - If the density variation quantity is not within a predetermined density variation quantity (NO in S204-2), the density is corrected to come within the predetermined quantity, and then, of the basic dither patterns, a pattern table for recording the gradation to be used is changed (S204-3).
規定の濃度変化量に収まっていなければ（Ｓ２０４−２でＮＯ）、収まるように濃度値を補正した後、基本ディザパターンのうち使用する階調を記録するパターンテーブルを変更する（Ｓ２０４−３）。 - 特許庁 - To provide a radiation sensitive resin composition having high transparency to a radiation, satisfying basic properties required by a resist, such as sensitivity, resolution, dry etching resistance and pattern shape, and ensuring good adhesiveness to a substrate and few development defects.
放射線に対する透明性が高く、感度、解像度、ドライエッチング耐性、パターン形状等のレジストに要求される基本性能を満たすとともに、基板に対する接着性が良好で現像欠陥が少ない。 - 特許庁 - To provide a (meth)acrylic polymer high in transparency to radiation, excellent in basic properties as a resist such as sensitivity, resolution, dry etching resistance, pattern form, etc. especially excellent in the solubility to a resist solvent, and suitable for a radiation-sensitive resin compound which reduces the roughness on a pattern sidewall after developing.
放射線に対する透明性が高く、しかも感度、解像度、ドライエッチング耐性、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れ、特に、レジスト溶剤への溶解性に優れ、現像後のパターン側壁のラフネスを低減する感放射線性樹脂組成物に適した（メタ）アクリル系重合体を提供する。 - 特許庁 - The set-up menu is provided with a setting item for selecting a basic set-up information pattern, a menu item for storing plural set contents set up by a user and a menu item for returning the set contents stored by the user to a default setting pattern stored in the flash ROM 2.
セットアップメニュー内には基本的なセットアップ情報パターンを選択することができる設定項目と、使用者のセットアップ設定を複数保存するためのメニュー項目と、使用者が保存した設定をフラッシュＲＯＭ２内に格納されているデフォルト設定パターンに戻すためのメニュー項目とが設けられている。 - 特許庁 - To provide a (meth)acrylic polymer high in transparency to radiation, excellent in basic properties as a resist such as sensitivity, resolution, dry etching resistance, pattern form, etc. especially excellent in the solubility to a resist solvent, and suitable for a radiation-sensitive resin compound which reduces the roughness on a pattern side wall after developing.
放射線に対する透明性が高く、しかも感度、解像度、ドライエッチング耐性、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れ、特に、レジスト溶剤への溶解性に優れ、現像後のパターン側壁のラフネスを低減する感放射線性樹脂組成物に適した（メタ）アクリル系重合体を提供する。 - 特許庁 - To obtain a photosensitive polyimide precursor composition developable with a basic aqueous solution, having high resolution, excellent in pattern shape after development and not causing pattern exfoliation in development.
塩基性水溶液により現像可能で、高解像度でかつ現像後のパターン形状に優れ、現像時のパターン剥離も生じない感光性ポリイミド前駆体組成物、さらに製造工程の短縮が可能であり、製造コストが削減できるパターン製造法及び前記のパターンを有することにより信頼性に優れる電子部品を提供する。 - 特許庁 - In a pachinko machine 1, usually when a game ball enters into a variation member 4, three patterns shown in a pattern display 3 begin to vary, after a basic variation time, suspension displays are shown in order, and when a combination of three patterns with suspension displays is a 'big-hit pattern', a 'big-hit situation' occurs.
パチンコ機１は、普通変動役物４に遊技球が入賞した場合に、図柄表示部３に表示された３つの図柄が変動を開始し、ベース変動時間後に、順次停止表示となり、停止表示となった３つの図柄の組み合わせが「大当たり図柄」である場合に、「大当たり状態」が生起するようになっている。 - 特許庁 - In the medical action analyzing method and the program, basic medical examination information for each sickness and wound is extracted from medical examination information registered in a recording means 2 by an extraction means 4, a medical action for each sickness and wound is analyzed from the extracted basic medical examination information by an analysis means 5 and the standard medical action pattern is obtained.
記録手段２に登録した診療情報から傷病毎の基本診療情報を抽出手段４により抽出し、抽出された基本診療情報から傷病毎の診療行為を解析手段５により解析して標準的な診療行為パターンを得る診療行為分析方法およびそのプログラムである。 - 特許庁 - In the display patterns shown in the figure 16, patterns have the same variation period of images from the start of variation to the finalization of special images if the patterns belong to the same basic pattern, but the variation display of display regions 50a and 50c is different.
図１６に示す表示パターンは、同一基本パターンに属すれば、変動開始から全ての特別図柄が確定するまでの変動時間は同じであるが、表示領域５０ａ及び５０ｃ上での変動表示が相違する。 - 特許庁 - Both of the liquid crystal cells have common basic constitution, but the pattern electrodes 8a to 8d are in different shapes, rubbing directions of the alignment layers 9b and 9c are orthogonal to each other, and the liquid crystal materials 10a and 10b are twisted in opposite directions.
両液晶セルは基本構成が共通しているが、パターン電極８ａ〜８ｄの形状が異なり、配向膜９ｂと９ｃのラビング方向が直交し、液晶材料１０ａ，１０ｂのツイスト方向が逆である。 - 特許庁 - The whole neurons use a corresponding prototype component stored in the global memory in each input pattern component and use a related prototype norm to carry out a basic (or partial) distance calculation during distance evaluation processing.
入力パターンの構成要素ごとに、すべてのニューロンが、それに保管された対応するプロトタイプ構成要素を用いて、距離評価処理中に、関連する構成要素ノルムを使用して、基本（または部分的）距離計算を実行する。 - 特許庁 - To provide a negative resist composition showing not only proper basic physical properties, such as retention ratio, pattern stability, adhesion to substrate, and chemical resistance, but also very low brittleness due to superior ductility, during bonding process and hot process.
残膜率、パターンの安定性、基材に対する接着力及び耐化学性などの基本物性が良好なだけでなく軟性に優れており合着工程や高温工程中において容易に割れないネガレジスト組成物の提供。 - 特許庁 - The value of the series inductance component varies with the number and interval of lines of the meandering type pattern 4 and the resonance frequency of the secondary mode can be varied, independently of the resonance frequency of the basic mode.
ミアンダ状のパターン４のライン本数やライン間隔を変更することで上記直列インダクタンス成分の大きさが可変して、２次モードの共振周波数を基本モードの共振周波数と独立した状態で変更することができる。 - 特許庁 - In another embodiment, an alkali metal oxide is added to the basic glaze as a coloring auxiliary agent, and applying the yo-hen nucleation decorating agent containing titanium dioxide on the surface of the glaze to generate the pattern with lustering nuclei.
また、基本となる釉薬に発色補助剤としてアルカリ金属酸化物を添加し、該釉薬を施釉した表面に、二酸化チタンを含む曜変核加飾剤を釉薬表面に塗布することにより光彩核の紋様を発生させる。 - 特許庁 - A light pattern emitting to a measuring object has a strength change expressed with a signal 103 that is added a sine signal 102 with double cycle 2π of a sine signal 101 to the sine signal 101 with a basic cycle π.
計測対象物体に投射する光パターンは、基本の周期πの正弦波信号１０１にその２倍の周期２πの正弦波信号１０２を加えた信号１０３で表される強度変化を有するものとする。 - 特許庁 - To provide a stacker crane operating method for controlling the speed of a travelling truck to give a smooth speed change of the travelling truck to a travelling pattern of a basic trapezoidal acceleration curve at its speed change position.
走行台車において、基本となる台形加速度曲線の走行パターンに、その速度変化位置で速度変化が滑かになるように走行台車の速度を調整するようにしたスタッカークレーンの運転方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide a radiation-sensitive resin composition having high transparency to a radiation, excellent in basic physical properties as a resist, such as sensitivity, resolution and pattern shape, and useful particularly as a chemically amplified resist excellent in focus latitude.
放射線に対する透明性が高く、感度、解像度、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れるとともに、特にフォーカス余裕に優れた化学増幅型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁 - A part made of a material and having a pattern, a color, and a shape which differ from those of a basic member in most parts of a tread 1 is provided as a mark 2 showing the optimum walking position in the direction of width on the right and left sides of the tread 1 on a step face of each tread 1 on the stairs.
階段の各踏み板１の踏み面に踏み板１の左右幅方向における最適歩行位置を示す目印２として踏み板１の大部分の基材とは異なる材料、柄、色、形状等の部分を設ける。 - 特許庁 - Then, when this HDD recorder 1 is used, a basic point for reproducing a moving picture while skipping the moving picture, about a television program broadcasted in a fixed pattern, can be surely set by catching a change in an image of the moving picture.
従って、このＨＤＤレコーダ１を用いると、一定のパターンで放送されるテレビ番組等の動画について、動画を飛ばして再生するための基点を、動画の画像の変化を捉えて確実に設定することができる。 - 特許庁 - To enable a character or a figure of the character, a pattern, a mark and the like to be distinguished even when they are seen from a remote distance while a higher-grade feeling of a gold cermet is made use of in a decorative component wherein the gold cermet is used as a basic material.
金サーメットを母材として用いた装飾用部材において、金サーメットの高級感を生かしつつ、離れた距離から見ても文字や模様やマークなどの文字や図形を目立たせることができるようにする。 - 特許庁 - The game music processing means conducts the processing of creating the game music piece as rooter's song of each team of two or more teams appearing in a game according to a basic pattern selected by a player from two or more previously provided basic patterns having each theme, which is performed as the game music piece in the course of the game by the game operation means.
ゲーム音楽処理手段は、その各々が少なくとも旋律を有する予め用意された複数の基本パターンの中からプレーヤにより選択された基本パターンに基づいて、ゲームに登場する複数のチームの各チームの応援歌であるゲーム音楽を、ゲーム演算手段により進行するゲーム中に演奏するゲーム音楽として作成する処理を行う。 - 特許庁 - A display control board 32 forming a display control means of a game machine has an image ROM 46 holding the basic stationary image data showing basic pattern of an image, a video display processor(VDP) 45 having the function of reducing and enlarging image data in the x and y directions, a CPU 41 computing the y direction position of the image data and the target values of expansion and reduction ratios.
遊技機の表示制御手段を構成する表示制御基板３２は、画像の基本姿態を表わした基本静止画像データを保持する画像ＲＯＭ４６と、画像データをｘｙ両方向に縮小及び拡大する機能を持つビデオディスプレイプロセッサ（ＶＤＰ）４５と、画像データのｙ方向位置及び拡縮倍率の目標値を演算するＣＰＵ４１とを備える。 - 特許庁 - In the plastic package 10 having a metal wiring pattern 13 on one side or both sides of a resin basic material 11, a specified part on the surface of the metal wiring pattern 13 has a coating 14 of Ni plating and Au plating formed by electrolytic plating but has no lead wire for forming the coating 14.
樹脂基材１１の片面又は両面に金属配線パターン１３を有するプラスチックパッケージ１０において、金属配線パターン１３の表面の特定部分が電解めっきによって形成されるＮｉめっき及びＡｕめっきのめっき被膜１４を有し、しかも、めっき被膜１４の形成のためのめっき引き出し線を有さない。 - 特許庁
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