「basic pattern」を含む例文一覧(463)

＜前へ 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 次へ＞
  • A pachinko machine determines a basic variation mode by carrying out a jackpot lottery upon the winning of a starter prize winning slot and a performance mode to variably display performance figures in the basic variation pattern and a variation pattern corresponding to the performance mode.
    パチンコ機は、始動入賞口への入賞を契機として大当たり抽選を行うとともに基本変動パターンを決定し、演出モードを決定し、基本変動パターンおよび演出モードに対応する変動パターンで演出図柄を変動表示する。 - 特許庁
  • A basic pattern P1 with N poles on two surfaces and S poles on the remaining surfaces and a basic pattern P2 with reversed N and S poles are alternately assigned to block members 11-18 of an assembly 100, and an expansion plan is created.
    組み立て体１００において、ブロック部材１１〜１８に関して、２つの表面がＮ極であり残りの表面がＳ極である基本パターンＰ１と、Ｎ極及びＳ極が逆転した基本パターンＰ２とを交互に割り当て、展開図を作成する。 - 特許庁
  • The interference elimination section 13 manages the radio wave interference basic model pattern data and the time when the data are applied and eliminates the interference radio wave noise while selecting the radio wave interference basic model pattern data corresponding to the expected electronic range cooking.
    干渉除去部１３では、電波干渉基本モデルパターンデータとそれを適用する時間を管理しており、予想される電子レンジの調理に対応して、電波干渉基本モデルパターンデータを切り換えながら干渉電波ノイズを除去する。 - 特許庁
  • For this purpose, the drawing data of the basic pattern consisting of one recessed groove 26 and one projected line 27 is formed as a basis, and the patterns consisting of the recessed grooves 26 and the projected lines 27 varying in the pitches are continuously drawn by changing the scale of the drawing data of the basic pattern.
    そのために、１つの凹溝２６と凸条２７からなる基本パターンの描画データを基本とし、その基本パターンの描画データの縮尺を変えてピッチが異なる凹溝２６と凸条２７からなるパターンを連続的に描画する。 - 特許庁
  • Each dot of the basic scramble pattern is developed in a main scanning direction by x dots and in a sub-scanning direction by L1 dots to form an area.
    前記基本スクランブルパターンの各ドットを主走査方向にｘドット、副走査方向にＬ１ドット展開してエリアを作る。 - 特許庁
  • The basic equation of a non-compression Mooney-Rivlin ultra-elastic body is made discrete by a GSMAC finite element method being a sectional pattern finite element method.
    非圧縮Mooney-Rivlin超弾性体の基礎方程式を、分離型有限要素法であるGSMAC有限要素法により離散化する。 - 特許庁
  • The generated basic pattern 10 is temporarily stored, and is transmitted to an image forming device 59 via a network I/F 57.
    生成された基本パターン１０は一時格納された後、ネットワークＩ／Ｆ５７を介して画像形成装置５９へ送信される。 - 特許庁
  • A spread frequency as an inverse of the repetitive period T of the basic pattern is set to an audible frequency or more.
    更に、この基本パターンの繰り返しの周期Ｔの逆数である拡散周波数を可聴周波数以上に設定する。 - 特許庁
  • (2) As pixels used for the temporal interpolation of a missing pixel X(A_n) of a basic pattern 10x, two pixels located on both sides of the missing pixel are used.
    （２）基本パターン１０ｘの欠落画素Ｘ（Ａ_ｎ）の仮補間に使う画素として欠落画素の両側２画素とする。 - 特許庁
  • The net 10 can be designed to have an arbitrary and different pattern by virtue of the basic texture except for the plain-woven texture or the variation texture.
    平織り組織を除く原組織あるいは変化組織により網１０を任意で多様な模様に設計することができる。 - 特許庁
  • A basic pattern of variation is divided into two or more display patterns, and images are variably displayed in accordance with the display patterns.
    基本的変動パターンを２つ以上の表示パターンに振り分け、その表示パターンに従って画像を変動表示される。 - 特許庁
  • Basic blue light L0 emitted from a light emitting element 1a equivalent to a blue light LED is given to a fluorescent pattern layer 11a.
    青色ＬＥＤに相当する発光素子１ａで発生した青色の基本光Ｌ0は、蛍光パターン層１１ａに与えられる。 - 特許庁
  • A part where a diffusion layer 1 of a transistor and a basic pattern OP of a gate pattern overlap with each other is computed, patterns of specific width are formed on both the sides of the overlap part, and both the sides of the pattern are extended to outside the diffusion layer 1 to obtain a pattern P3 of the phase shifter.
    トランジスタの拡散層１とゲートパターンの基本パターンＯＰとの重複部分を算出し、重複部分の両側に所定幅のパターンを生成し、前記パターンの両側を拡散層１外まで延長して、位相シフタのパターンＰ３として生成する。 - 特許庁
  • A signal acquisition unit 31 acquires multi-valued color signals, an address generation unit 32 generates an address signal indicating the position in the basic cell of a dither pattern, and a threshold acquisition unit 34 reads the dither pattern corresponding to the color signal from the dither pattern storage unit 33 and acquires a threshold from the position in the basic cell indicated by the address signal.
    信号取得部３１は、多値の色信号を取得し、アドレス発生部３２は、ディザパターンの基本セル内の位置を示すアドレス信号を発生し、閾値取得部３４は、色信号に対応するディザパターンをディザパターン記憶部３３から読み込んで、アドレス信号が示す基本セル内の位置から閾値を取得する。 - 特許庁
  • For example, a groove 11 corresponding to the wiring pattern is integrally formed on the upper basic material sheet 10, and two basic material sheets 5, 10 are integrally stacked after storing a power supply line 3 and a connector 4 in it.
    例えば、上基材シート１０に配線パターンに従った凸溝１１を一体成形し、その中に電源線３とコネクタ４を収容した後、２枚の基材シート５，１０を一体に積層する。 - 特許庁
  • The stencil mask comprises a basic body and a parent material of mask supported by the basic body wherein the parent material of mask comprises a silicon compound thin film having a through hole pattern passing a charged particle beam.
    基体と、この基体により支持されたマスク母体とを具備し、前記マスク母体は、荷電粒子線が透過する透過孔パターンを有するシリコン化合物薄膜からなることを特徴とする。 - 特許庁
  • The stencil mask comprises a basic body and a parent material of mask supported by the basic body wherein the parent material of mask comprises a thin film principally comprising carbon and having a through hole pattern passing a charged particle beam.
    基体と、この基体により支持されたマスク母体とを具備し、前記マスク母体は、荷電粒子線が透過する透過孔パターンを有する、炭素を主成分とする薄膜からなることを特徴とする。 - 特許庁
  • Subsequently, the pattern measurement apparatus maps a basic shape to the image border line (step S304), and obtains a position of a measurement border line using the normal vector corresponding to the basic shape mapped to the image border line (step S305).
    次に、画像輪郭線に基本形状をマッピングし（ステップＳ３０４）、画像輪郭線にマッピングされた基本形状に対応する法線ベクトルを用いて測長輪郭線の位置を求める（ステップＳ３０５）。 - 特許庁
  • The die exchanging operation is divided into basic operational patterns as minimum units for each function, and defined, and the die is exchanged with the die exchanging operational pattern which is the assembly of the basic operational patterns.
    金型交換動作を機能ごとに最小単位である基本動作パターンに分解して定義し、この基本動作パターンの集合である金型交換動作パターンとして金型交換を行う。 - 特許庁
  • A pattern conversion section 32 converts data whose basic data length is 2-bits fed to a DSV (Digital Sum Value) control bit decision/ insertion section 31 into a variable length code whose basic code length is 3-bits according to a conversion table.
    パターン変換部３２は、変換テーブルに従って、DSV制御ビット決定・挿入部３１に供給された基本データ長が２ビットのデータを、基本符号長が３ビットの可変長符号に変換する。 - 特許庁
  • The stencil mask comprises a basic body and a parent material of mask supported by the basic body wherein the parent material of mask comprises a non-single crystal silicon based thin film having a through hole pattern passing a charged particle beam.
    基体と、この基体により支持されたマスク母体とを具備し、前記マスク母体は、荷電粒子線が透過する透過孔パターンを有する非単結晶シリコン系薄膜からなることを特徴とする。 - 特許庁
  • In this case, the factor (1) which is a factor for showing coincidence of this electron diffraction pattern becomes the maximum value when basic reflection points agree completely, and becomes the minimum value when all the basic reflection points disagree.
    ここに、因子▲１▼は、電子回折パターンの一致度を示す因子であって、基本反射の点が完全一致であれば最大値をとり、基本反射の点がすべて不一致であれば最小値をとる。 - 特許庁
  • As a basic form, a projection and recess pattern having a parabolic cross section is adopted, and projections and recesses having various sizes and similar shapes compared with the basic form are provided so that they are randomly distributed.
    凹凸の断面形状を放物線形状に形成したものを基本形状とし、基本形状からみて大小各種大きさの相似形の凹凸が混在するようにばらつかせる。 - 特許庁
  • A storage unit 21A included in the driving unit 21A stores a plurality of basic holograms corresponding to a plurality of basic processing patterns and a focusing hologram corresponding to a Fresnel lens pattern.
    駆動部２１に含まれる記憶部２１Ａは、複数の基本加工パターンそれぞれに対応する複数の基本ホログラムを記憶するとともに、フレネルレンズパターンに相当する集光用ホログラムを記憶する。 - 特許庁
  • An MPU 11 allocates a threshold for constituting the basic matrix to a new threshold again and prepares a threshold matrix for indicating the specified characters based on the basic matrix and the character pattern data for indicating the specified characters.
    ＭＰＵ１１は、これらの基本マトリクスと特定文字を示す文字パターンデータとに基づいて、基本マトリクスを構成する閾値を新たな閾値に割り付け直して、特定文字を現す閾値マトリクスを作成する。 - 特許庁
  • A peelable metal layer 12 is formed on a metal basic material 11, and then the metal layer 12 and the metal basic material 11 are etched, down to a specified depth of the metal basic material 11 from the metal layer 12 side, thus forming a specified pattern of the metal layer 12.
    金属基材１１の上に、剥離可能な金属層１２を形成して、金属層１２および金属基材１１を、金属層１２側から、金属基材１１の所定の深さまでエッチングすることにより、金属層１２を所定のパターンに形成する。 - 特許庁
  • A basic pattern for determining the basic performance of a tire tread comprising wide grooves 1, and a cut-pattern comprising thin cuts 6 having the shallow depth which has substantially no effect on the traveling characteristic of a tire, are determined to be the same for all tread patterns.
    幅広の溝１からなりタイヤトレッドの基本性能を定める基本パタ−ンと、タイヤの走行特性に実質的に影響を与えない程度の浅い深さを有する細い切り込み６からなる切り込みパターンとを、全てのトレッドパタ−ンに対して同一に決定する。 - 特許庁
  • Compensation is provided by correcting the initial basic coating pattern using the result of the coating experiment in a transient process of discharging the coating material which influences the initial basic coating pattern under the assumption that the simulation result is linearly proportional to the result of the coating experiment.
    すなわち、シミュレーションの結果が塗装実験の結果に線形比例するものと考え、初期基準塗装パターンに影響を与える塗料吐出の過渡過程を、塗装実験の結果を用いて初期基準塗装パターンを修正することにより補償する。 - 特許庁
  • An ROM 12 stores a 8×8 basic matrix constituted of, for example, 1-64 thresholds, font pattern data in which the character pattern of a specific character (for example, 'A') is indicated by sexadecimal, and a threshold address table in which thresholds in the basic matrix are arranged in the order of small size.
    ＲＯＭ１２は、例えば１〜６４の閾値から構成される８×８の基本マトリクスと、特定文字（例えば「Ａ」）の文字パターンを１６進数で示したフォントパターンデータと、基本マトリクスにおける小さい閾値から順に並べた閾値アドレステーブルとを記憶する。 - 特許庁
  • To improve picture quality by using a pattern obtained by a rotary processing operation based on a basic threshold matrix pattern and using threshold matrixes whose types are substantially multiple compared to a conventional technology.
    基本の閾値マトリクスパターンを基に回転処理操作によって得られるパターンを用い、従来技術よりも実質的に多種類の閾値マトリクスを使用することにより高画質化を図る。 - 特許庁
  • Then with the cell group, where the position of transmission cell 10 is specified as a basic pattern, the same pattern is repeated for a fixed body plane 2, as shown in (D) to be adjoined each other with no gap.
    次に、前記のように伝送セル１０の位置を定めたセル群を基本パターンとし、（Ｄに示すように、固定体平面２に対し、同パターンを繰り返し、隙間無く隣接させる。 - 特許庁
  • A cell library pattern constituting a basic configuration of a semiconductor circuit pattern is preliminarily subjected to an OPC processing for a layout of a single cell, and the cell library pattern after the OPC processing is used to produce a semiconductor chip.
    半導体回路パターンの基本構成をなすセルライブラリパターンにあらかじめ、セルが単独で置かれているときのＯＰＣ（光近接効果補正）処理を行い、ＯＰＣ処理されたセルライブラリパターンを用いて半導体チップを作成する。 - 特許庁
  • The method for designing the layout of a semiconductor device using a standard cell comprises steps (S10, S20) for preparing a standard cell having a capacitor electrode basic pattern at the end, steps (S30, S40) for forming a function circuit pattern by combining a plurality of standard cells, and a step (S50) for forming a capacitor electrode pattern by deforming the capacitor electrode basic pattern.
    スタンダードセルを用いた半導体装置のレイアウト設計方法であって、端部にキャパシタ電極基礎パターンを有するスタンダードセルを準備する工程（Ｓ１０、Ｓ２０）と、スタンダードセルを複数個組合せて機能回路パターンを構成する組合せ工程（Ｓ３０、Ｓ４０）と、キャパシタ電極基礎パターンを変形することにより、キャパシタ電極パターンを形成する工程（Ｓ５０）とを備える。 - 特許庁
  • The pattern layer 3 is formed by a transfer method using a transfer sheet on a base coat layer 2 face provided on a surface of the basic material 1 in advance.
    絵柄層３は、予め基材１の表面に設けたベースコート層２面に、転写シートを使用した転写法により形成する。 - 特許庁
  • The initial deviation amount measurement mark M2 is preferred to be composed of a basic mark M21 constituting a slide caliper pattern and an alignment mark M22.
    初期位置ずれ量測定マークＭ２は、好適にはノギスパターンを構成する基本マークＭ２１及びアライメントマークＭ２２で構成される。 - 特許庁
  • A density in each gradation of a basic dither pattern having M gradations is presumed to obtain a density variation quantity (S203, S204-1).
    Ｍ階調を有する基本ディザパターンの各階調における濃度値を推定し、濃度変化量を取得する（Ｓ２０３，Ｓ２０４−１）。 - 特許庁
  • Consequently, a rapid change in the gradation to be used in the basic dither pattern can be prevented, and banding of an image etc. can be prevented.
    これにより、基本ディザパターンの使用する階調が急激に変化することがなくなり、画像のバンディングなどを防ぐことができる。 - 特許庁
  • The line has a strip line type transmission mode, where an electric field concentrates on the metal pattern 4 of the intermediate layer, as a basic mode.
    この線路は中間層の金属パターン４に電界が集中するストリップ線路型の伝送モードを基本モードにもつものである。 - 特許庁
  • One pixel of one basic pattern is assigned with "1" as the number for indicating the order for making dots in the dither matrix (S503).
    １つの基本パターン内の１つの画素に、ディザマトリクスにおけるドットを点灯させる順序を示す番号として、１を割振る（Ｓ５０３）。 - 特許庁
  • As a block pattern is formed, a basic performance (bad road running, running on ice) as a tire for four-wheel drive can be secured.
    ブロックパターンを形成しているので、四輪駆動用のタイヤとしての基本性能（悪路走行、氷雪上走行等）を確保できる。 - 特許庁
  • The threshold matrix has a threshold for performing dot reproduction so that the identical basic tone is always maintained in all halftone levels only by dot arrangement pattern.
    ドット配置パターンのみですべての中間調レベルにおいて常に同一の基調を維持したドット再現を行う閾値を有する。 - 特許庁
  • Sometimes geisya, instead of young people, relate to a fireman and there are other patterns derived from the basic pattern, such as the story in which the main character is geisya with young people relating to her.
    また若衆のかわりに芸者がからんだり、芸者を主役にそえこれに若衆がからむといった派生版もある。 - Wikipedia日英京都関連文書対訳コーパス
  • In this verification support device, a logic expression which expresses operation of a pattern generator G comprising one basic pattern generator G_0, k-pieces of preferential pattern generators G_k, k-pieces of preferential pattern selection conditions S_k, and k-pieces of selector circuits T_k for connecting them can be obtained.
    検証支援装置では、一つの基本パターン発生器（Ｇ_0）と、ｋ個の優先パターン発生器（Ｇ_k）と、ｋ個の優先パターン選択条件Ｓ_kと、これらを接続するｋ個のセレクタ回路Ｔ_kと、から構成されているパターン発生器（Ｇ）の動作を表現する論理式を得ることができる。 - 特許庁
  • The body basic figures shown on the practice movement description section 5 are arranged so that body movements are presented by drawing one of the basic patterns in the basic movement pattern description section so as to follow a series of the body movement of the dance or the like.
    この練習用動作記載部に表示されている身体基本図は、ダンス等における身体の一連の動作に追従するように、基本動作パターン解説部に表示されている基本パターンのいずれかを転記して身体の動作を表現することが可能となるように配列されている。 - 特許庁
  • In a device recording and reproducing a disc that records a basic pattern having a regular and fixed size in a data area, the serve error in the recording reproducing device is detected by comparing the size of a reproduction signal suitable for the basic pattern recorded in two positions that at least segregates from each other.
    データ領域に規則的で一定の大きさを有する基準パターンが記録されるディスクを記録再生する装置において、少なくとも互いに離隔した二つの位置に記録された基準パターンに相応する再生信号の大きさの比により記録再生装置のサーボエラーを検出する。 - 特許庁
  • Moreover, the measurement part 11 generates a basic operation pattern separately for each piece of data, where weather factors such as temperature, humidity are combined in plural number, and acquires weather information by means of a weather information acquisition unit, and decides a parameter, and selects a basic operation pattern corresponding to the decided parameter.
    また、計測部１１は、温度、湿度などの気象因子が複数組み合わされたパラメータ毎に基本稼動パターンを作成し、気象情報取得部により気象情報を取得して、パラメータを決定し、決定したパラメータに該当する基本稼動パターンを選定する。 - 特許庁
  • In response to the winning of a starter prize winning slot 111 as a moment, a main control substrate 210 decides one of a basic variation patterns corresponding to each of one or more game states, and transmits a variation pattern command for designating the decided basic variation pattern to a performance controller 150.
    主制御基板２１０は、始動入賞口１１１への入賞を契機として、複数の遊技状態のそれぞれに対応する基本変動パターンのなかからいずれかを決定し、決定した基本変動パターンを指定するための変動パターンコマンドを演出制御装置１５０に送信する。 - 特許庁
  • To form a resist pattern with high accuracy even on an underlayer film including a basic substance by controlling an oxygen deficiency/activity phenomenon at the interface between the underlayer film including a basic substance and a chemically amplified resist formed thereon.
    塩基性物質を含む下地膜とその上に形成される化学増幅型レジストとの界面における酸失活現象を抑制し、塩基性物質を含む下地膜上でも精度の高いレジストパターンを形成する。 - 特許庁
  • To overcome the problem of stability of a basic material obtained deteriorating, if a reactive layer is left on the basic material, when the conductive pattern is formed with an additive method.
    加算的な手法で導電性パターンを形成する際、基材上に反応性を有する層が残存していると、得られる導電性パターン基材の安定性が損なわれる点を解消することを課題とする。 - 特許庁
  • An image edition part 130 captures a basic image 42 indicating a space layout of a design object from a basic image input part 122 and a furniture extraction part 132 extracts an image pattern of a furniture or the like.
    画像編集部１３０により、基本画像入力部１２２から設計対象の空間レイアウトを示す基本画像４２を取り込んで、什器抽出部１３２により什器類等の画像パターンを抽出する。 - 特許庁
＜前へ 1 2 3 4 5 6 7 8 9 10 次へ＞

例文データの著作権について