「basic pattern」を含む例文一覧(463)

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  • To provide an acrylic polymer which is suitable for a radiation-sensitive resin composition which has high transparency to radiation and excels in the basic properties (e.g. sensitivity, resolution, dry etching resistance, and pattern shape) as a resist and particularly excels in contact hole formation.
    放射線に対する透明性が高く、しかも感度、解像度、ドライエッチング耐性、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れ、特に、コンタクトホール形成に優れる感放射線性樹脂組成物に適したアクリル系重合体を提供する。 - 特許庁
  • To provide a radiation-sensitive resin composition having high transparency to a short-wavelength radiation typified by far UV, excellent in basic physical properties as a resist, such as sensitivity, resolution, dry etching resistance and pattern shape, and ensuring few development defects.
    遠紫外線に代表される短波長の放射線に対する透明性が高く、しかも感度、解像度、ドライエッチング耐性、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れ、特に現像欠陥が少ない感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
  • White light as an aggregate of RGB component light can be obtained from the fluorescent pattern layer 11a, and the white light becomes high in quality because the size of the three primary color basic block K is smaller than the planar size of a light emitting plane Q.
    蛍光パターン層１１ａからは、ＲＧＢの各成分光の集合としての白色光が得られるが、これは、３原色基本ブロックＫのサイズが発光面Ｑの平面サイズよりも小さいために、高品質の白色光となっている。 - 特許庁
  • A pronunciation recognition means 4 converts digital speed data into the sequence of four parameters; a phonetic symbol, interval, sound volume and sound length by executing a pattern matching by joining the basic digital speech data, interval, sound volume and sound length of a pronunciation dictionary 6.
    発音認識手段４は、デジタル音声データを発音辞書６の基本デジタル音声データと音程，音量および音長を合わせてパターンマッチングすることにより発音記号，音程，音量および音長の４つのパラメータの並びに変換する。 - 特許庁
  • At the arrival of an incoming call, the mobile unit retrieves the telephone directory, on the basis of an incoming call telephone number to obtain a retrieval key number, corresponding to the incoming telephone number and generates a ringer pattern by changing the basic melody on the basis of the retrieved key number.
    着信の際、移動機は、着信電話番番号に基づいて電話帳を検索して着信電話番号に対応する検索キー番号を得て、この検索キー番号に基づいて基本的メロディーを変化させて鳴動パターンを生成する。 - 特許庁
  • This method comprises the steps of preparing a yo-hen nucleation decorating agent, glazing a Temmoku glazed bowl with a basic glaze, drying, further applying the yo-hen nucleation decorating agent on the surface of the glaze, and firing to oxidize to generate a pattern with lustering nuclei on the periphery.
    二酸化チタンを含む曜変核加飾剤を準備し、天目釉茶碗に基本となる釉薬を施釉し、乾燥し、更にこの釉薬表面に上記曜変核加飾剤を塗布し、酸化焼成することにより外周辺に光彩核の紋様をを発生させる。 - 特許庁
  • As a basic digital code padding technology, a structure for padding extra information in an image by using a machine readable code arranged to represent digital data by the difference of arrangement pattern between two adjacent pixel groups of different gradation is utilized.
    ベースとなるデジタルコード埋込み技術としては、階調の異なる隣接した２つの画素群の配置パターンの違いによってデジタルデータを表わすようにした機械可読コードを使って付加情報を画像中に埋め込む仕組みを利用する。 - 特許庁
  • A correction pattern 10 for a series inductance component is formed in maximum resonance current areas of the basic mode and higher mode on the current paths of the feeding radiation electrode 3 and the parasitic radiation electrode 4.
    給電放射電極３、無給電放射電極４のそれぞれの電流経路上における基本モードと高次モードの各最大共振電流領域Ｗ、Ｘ、Ｙ、Ｚにそれぞれ直列インダクタンス成分の修正用パターン１０を形成する。 - 特許庁
  • The pattern detection means 43 has a regulation plate 48 provided in a protruding condition from its reading surface 47; and by having the basic pattern at detection, the tip part of the regulation plate 48 abuts against the recording paper P, the distance between the recording paper P and the pattern detection means 43 is maintained to be the focal distance F of the pattern detection means 43.
    画像形成装置１は、基本パターン検知時に基本パターンが形成され定着された記録紙Ｐを読取位置で停止させる停止手段４２と、停止手段４２により読取位置で停止された記録紙Ｐ上の基本パターンを検知する移動可能なパターン検知手段４３とを備え、パターン検知手段４３は、その読取面４７から突設された規制板４８を有し、基本パターン検知時には、規制板４８の先端部分が記録紙Ｐに当接されることで記録紙Ｐとの距離がパターン検知手段４３の焦点距離Ｆに維持される。 - 特許庁
  • To provide a radiation sensitive resin composition having high transparency to radiation, excellent in basic physical properties as a resist, e.g. sensitivity, resolution and pattern shape, excellent also in shelf stability as a composition and retaining satisfactory adhesiveness to a substrate.
    放射線に対する透明性が高く、感度、解像度、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れるとともに、組成物としての保存安定性にも優れ、また基板に対して十分な接着性を保持した感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
  • In a pattern formation method in which a photosensitive composition containing a photochromic compound showing photochromism by inserting modification groups into a basic skeleton with rings reversibly opening and closing by light and/or heat, the base skeleton has a structure represented by formula I, and the photosensitive composition is irradiated with a ring-opening wavelength light so that the substance migration of the photosensitive composition is performed.
    光及び／又は熱によって可逆的に開環−閉環する環を有する基本骨格に修飾基が導入されてフォトクロミズムを示すフォトクロミック化合物を含む感光性組成物を用いたパターン形成方法であって、基本骨格は、式Ｉ - 特許庁
  • Further, the behavior estimation model to be collated with the detection characteristic point is converged into a basic pattern in which the carried-in article is not used when executing the specified behavior, and the behavior estimation model corresponding to the specified behavior executable by using the carried-in article present in the cabin (S250).
    さらに、特定行動の実行時に持込品を使用しない基本パターンと、車室内に存在する持込品を用いて実行可能な特定行動に対応する行動推定モデルとに、検出特徴点と照合する行動推定モデルを絞り込む（Ｓ２５０）。 - 特許庁
  • In this regard, the die basic material is provided with protrusions in accordance with the depths of the wiring grooves formed in the substrate in wiring pattern and the lengths of the through holes, thus manufacturing a die capable of transfer-molding the wiring grooves and the through holes collectively.
    このとき、型基材には、基板に形成する配線パターンの配線溝の深さとスルーホール用の孔の長さに合わせて凸部を形成することにより、配線溝とスルーホール用の孔とを一括して転写成形することのできる転写成形用型が製造される。 - 特許庁
  • To provide a radiation sensitive resin composition having high transparency to a radiation and useful as a chemically amplified resist excellent in basic physical properties as a resist, such as sensitivity and resolution, and excellent also in pattern shape, uniformity in film thickness and storage stability.
    放射線に対する透明性が高く、感度、解像度等のレジストとしての基本物性に優れるとともに、パターン形状、膜厚均一性および保存安定性にも優れた化学増幅型レジストとして有用な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
  • When a replenishing pattern is set and an original liquid is fed in a developing tank based on the difference of the constitution of a carrying path in the developing tank and the kind of a PS plate to be processed, water is fed therein to attain a previously set quantity so as to adjust a basic liquid (steps 200 to 212).
    現像槽内の搬送路の構成や処理するＰＳ版の種類の相違に基づいて、補充パターンを設定し、現像槽経原液を投入すると、予め設定されている量まで水を投入し、基本液を調整する（ステップ２００〜２１２）。 - 特許庁
  • To enhance an expectant feeling of a game characteristic and a big hit, and to impart a change to a lot-drawing game every time when finishing a special game by changing stopping order of a plurality of patterns variably displayed on a variable pattern display means to basic stopping order.
    変動図柄表示手段に変動表示する複数の図柄の停止順序を基本停止順序に対して変更することで遊技性や大当たりの期待感を高めること、特別遊技の終了毎に抽選遊技に変化を持たせること。 - 特許庁
  • After a resist film 101 composed of a chemically amplified resist material is formed, a resist film 102 is exposed to a pattern by selectively projecting exposing light 104 upon the film 102 in a state where a solution 103 containing a basic compound is supplied to the surface of the film 102.
    化学増幅型レジスト材料よりなるレジスト膜１０１を形成した後、塩基性化合物を含む溶液１０３をレジスト膜１０２の上に供給した状態で、露光光１０４をレジスト膜１０２に選択的に照射してパターン露光を行なう。 - 特許庁
  • An image of the measuring object projected by this light pattern is shot with a camera and a phase ϕ1 corresponding to the sine signal with the basic cycle and a phase ϕ2 corresponding to the sine signal with the double cycle are calculated based on this image shot.
    このような光パターンが投射された計測対象物体を画像をカメラで撮影し、この撮影した画像に基づいて、基本の周期の正弦波信号に対応する位相φ_１と２倍の周期の正弦波信号に対応する位相φ_２とが計算される。 - 特許庁
  • A projecting position for specifying an item to be a projection target acquired for each arrangement of an item constituting sequence data is associated with an item to be a basic point of the projection and stored, and an item specified by the projecting position stored while associated with the item is extracted from the sequence data with the last item among items in the sequence data corresponding to the sequence pattern as a basic point.
    系列データを構成するアイテムの配列毎に取得した射影の対象となるアイテムを特定するための射影位置を、当該射影の基点となるアイテムに関連付けて記憶し、系列パタンに対応する前記系列データでのアイテムのうち最後のアイテムを基点として、このアイテムに関連付けて記憶された前記射影位置により特定されるアイテムを前記系列データから抽出する。 - 特許庁
  • Also, the control section 20 is configured to control fountain styles by a fountain section 70 in accordance with a basic direction pattern 31 accompanying the start of the music by the music signals, to analyze the music signals successively inputted from the section 10, and to control the fountain styles by changing the pattern 31 when the music signals satisfy prescribed conditions.
    また、制御部２０は、音楽信号による音楽の開始に伴い、噴水部７０による噴水姿態を基本演出パターン３１に基づいて制御するとともに、音楽信号生成部１０より逐次入力する音楽信号を解析し、音楽信号が所定の条件を満たした場合に基本演出パターン３１を変更させて噴水姿態を制御するように構成される。 - 特許庁
  • Alternatively, a projection and recess pattern having a cross section of the form of trigonometric functions is adopted, and projections and recesses having only their widths (diameters) varied compared with the basic form are disposed randomly.
    あるいは、凹凸の断面形状を三角関数形状に形成したものを基本形状とし、且つ基本形状からみて幅（径）のみを種々変化させた凹凸が混在するようにばらつかせ、凹凸の幅の分布が、基本形状の凹凸の幅を平均値とする正規分布に従うようする。 - 特許庁
  • To provide a new radiation sensitive resin composition having high transparency to radiation, excellent in basic physical properties as a resist such as sensitivity, resolution and pattern shape, not causing development defects in microfabrication and capable of producing a semiconductor device in a high yield.
    放射線に対する透明性が高く、しかも感度、解像度、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れるのみならず、微細加工時に現像欠陥を生じることがなく、半導体素子を高い歩留りで製造することができる新規な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
  • To provide a new radiation sensitive resin composition having high transparency to radiation, having excellent basic properties as a resist, e.g. sensitivity, resolution and pattern shape, not causing development defects in microfabrication and capable of producing semiconductor devices in a high yield.
    放射線に対する透明性が高く、しかも感度、解像度、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れるのみならず、微細加工時に現像欠陥を生じることがなく、半導体素子を高い歩留りで製造することができる新規な感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
  • To provide a radiosensitive composition and a polymer for a semiconductor resist, having a high transparency for a radiation and being excellent in basic physical properties for a resist, such as sensitivity and resolution, as well as in EL, LWR and a minimum collapse size when forming a line pattern.
    放射線に対する透明性が高く、感度、解像度等のレジストとしての基本物性に優れるとともに、ラインパターンを形成する際におけるＥＬ、ＬＷＲ、及び最小倒壊寸法に優れた感放射線性組成物及び半導体レジスト用重合体を提供する。 - 特許庁
  • A basic conceptual drawing for the protective relay system is constituted by relay operations 10-1 to 10-n for deciding failure by a system electric quantity from a bus 6, a relay operation output pattern state change detection means 11, a system failure recognizing means 12, and a failure mode deciding means 13.
    本発明の保護継電装置の基本概念図であり、バス６よりの系統電気量により事故判定を行うリレー演算１０−１〜１０−ｎ、リレー演算出力パターン状変検出手段１１、系統の故障認識手段１２、故障モード判定手段１３から構成される。 - 特許庁
  • Besides, high-frequency components of respective transmissive grooves G1 to G5 are superposed on effective values of variation components corresponding to a basic period applied on the illumination light by the alternating transmission pattern, consequently, such the trouble that flickering remarkably arises is prevented following the mitigation of the moving image blurring.
    また、交番する透過パターンによって照明光に与えられる基本周期に対応する変動成分実効値に対して各透過溝Ｇ１〜Ｇ５の高周波成分を重畳することになり、動画ボケの緩和に伴ってフリッカが顕著になることを防止できる。 - 特許庁
  • With respect to the basic edge pattern, when adjacent blocks are in the same inclination direction as that of a target block, the CPU 160 executes edge connection processing of cumulatively adding burr widths (widths of a gradient of a change in a pixel value) of the blocks with each other, calculates a blur width of the target block and determines block burr.
    そして、この基本エッジパターンについて、注目ブロックと隣接するブロックが同じ傾き方向であれば、これらのブロック同士のぼやけ幅（画素値の変化の勾配の幅）を累積加算するエッジ連結処理を実行して、注目ブロックのぼやけ幅を算出し、ブロックぼやけ判定を行う。 - 特許庁
  • To provide a photoresist composition having sufficient basic characteristics such as sensitivity and excellent lithographic performances represented by an MEEF (mask error enhancement factor) and LWR (line width roughness) as an indicator, to provide a method for forming a resist pattern using the photoresist composition, and to provide a polymer and a compound to be used for the resist composition.
    感度等の基本特性を満足し、ＭＥＥＦ及びＬＷＲを指標とするリソグラフィー性能に優れるフォトレジスト組成物、並びにこのフォトレジスト組成物を用いたレジストパターンの形成方法、上記フォトレジスト組成物に用いられる重合体、及び化合物の提供。 - 特許庁
  • The base-reactive, surface-modifying agent is reactive to hydroxide and increases the surface hydrophobicity of a pattern formed in a layer of the radiation-sensitive composition upon treatment with a basic developing solution during lithographic processing of a substrate.
    塩基に反応性の表面を改質する薬剤は、水酸化物に対して反応性のものであると共に基体のリソグラフィーの加工をする間に塩基性の現像する溶液での処理の際に放射に敏感な組成物の層に形成されたパターンの表面の疎水性を増加させる。 - 特許庁
  • The word evaluating means 6 evaluates each word on the basis of the collation result for each standard pattern obtained as the time series and information of a word dictionary 7 in which words to be recognized are described as an array of speech basic units to find a recognition result according to the evaluation result.
    単語評価手段６では、前記時系列として得られた各標準パタン毎の照合結果と認識対象語の単語を音声基本単位の並びとして記述する単語辞書７の情報に基づいて各単語を評価し、前記評価結果に従って認識結果を求める。 - 特許庁
  • Two liquid crystal panels of one liquid crystal panel, which performs time-division display of R, G, B signals and one liquid crystal panel of W (white) pixels are used to optically composite images by arranging the basic pixels for the time-division display of R, G, B signals and the additional W pixels into the so-called quincunx pattern.
    Ｒ，Ｇ，Ｂを時分割表示する１枚の液晶パネルに、Ｗ（白）画素の液晶パネルを加えた２板の液晶パネルを用い、Ｒ，Ｇ，Ｂを時分割表示する基本画素と追加Ｗ画素を、五の目配置となるようずらせて光学的に合成する。 - 特許庁
  • To obtain positive type and negative type radiation sensitive resin compositions each sensitive to not only short-wavelength radiation such as far UV but also ordinary UV, having high sensitivity and high resolution, capable of forming a rectangular resist pattern and excellent in shelf stability even in the presence of a basic compound.
    遠紫外線の如き短波長放射線のみならず、通常の紫外線にも感応し、高感度、高解像度で、矩形のレジストパターンを形成することができ、かつ塩基性化合物の存在下でも保存安定性に優れたポジ型およびネガ型の感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
  • When a customer inputs the name of an insurance company and a policy number to the basic information input screen of a terminal 1a, the diagnostic site 3A obtains the insurance policy pattern corresponding to the policy number of the corresponding insurance company from the database 3a and transmits it to the terminal 1a.
    顧客が端末１ａの基本情報入力画面に保険会社名や証書番号を入力すると、診断サイト３Ａは、保険会社情報データベース３ａより該当する保険会社の証書番号に対応する保険証券パターンを取得して端末１ａへ送信する。 - 特許庁
  • A basic cell includes a capacity element which is made up of: a first well diffusion layer into which a first conductive impurity is diffused in a region from a surface of a substrate to a prescribed depth; an insulation film which is provided on the first well diffusion layer; and a first dummy pattern which is provided on the insulation film.
    基板の表面から所定の深さまでの領域に第１の導電性不純物が拡散された第１のウェル拡散層と、第１のウェル拡散層の上に設けられた絶縁膜と、絶縁膜上に設けられた第１のダミーパターンとからなる容量素子を有する。 - 特許庁
  • Consequently, at the process until the cutting cutter 15 reaches the recessed surface part 6b of the female mold 6b, the movement of the cutting cutter 15 is not disturbed by the portion of the basic pattern pad 20 projecting toward the flat surface part 6a of the female mold 6, and also, the track of the cutting cutter 15 is not vibrated during cutting.
    このため、切断カッター１５が雌型６の凹面部６ｂに達するまでの過程で、切断カッター１５の動きが雌型６の平坦面部６ａにはみ出た原型パッド２０の部分に邪魔されることもなく、切断カッター１５の切断時の軌道が振れ動くこともなくなる。 - 特許庁
  • When the ball lending number change switch 20 is operated in a specific operation pattern, by changing the control mode of the putting-out control board 18 to a lending number change mode and by switching on the ball lending number change switch 20 during the ball lending number change mode, the basic ball lending number K is changed.
    そして、球貸数変更スイッチ２０を特定の操作パターンで操作したときに、払出制御基板１８の制御モードを球貸数変更モードに切り換え、この球貸数変更モード中に球貸数変更スイッチ２０をオンすることで基本球貸数Ｋを変更する。 - 特許庁
  • A virtual base point is set on an image plane, and, concerning the plurality of basic pattern elements having a specific relative position relation, the position of the base point thereof is set by the relative position on a relative coordinate on a screen where the relative position with the virtual base point on the image plane becomes constant regardless of the display magnification.
    画面上に仮想基点を設定し、特定の相対位置関係にある複数の基本図形要素についてはその基点の位置を、画面上における仮想基点との相対位置が表示倍率に関わらず一定となるスクリーン上相対座標における相対位置で設定する。 - 特許庁
  • The flexible wiring board 1 comprises a polyimide film 10, where a filmy basic material is turned down and the opposing faces are bonded tightly, and a pattern electrode 13 is formed continuously from the first surface 11 to the second surface 12 of the polyimide film 10.
    本発明のフレキシブル配線板１は、フィルム状の基材が折り返され相対向する面が密着固定されたポリイミドフィルム１０を有し、ポリイミドフィルム１０の第１の表面１１から第２の表面１２にわたってパターン電極１３が連続的に形成されている。 - 特許庁
  • The basic algorithm predates, and is a little fancier than, an algorithmpublished in the late 1980's by Ratcliff and Obershelp under the hyperbolic name ``gestalt pattern matching.'' The idea is to find the longest contiguous matching subsequence that contains no``junk'' elements (the Ratcliff and Obershelp algorithm doesn'taddress junk).
    基礎的なアルゴリズムは可塑的なものであり、1980年代の後半に発表されたRatcliffとObershelpによるアルゴリズム、大げさに名づけられた``ゲシュタルトパターンマッチング''よりはもう少し良さそうなものです。 その考え方は、``junk''要素を含まない最も長いマッチ列を探すことです(RatcliffとObershelpのアルゴリズムではjunkを示しません)。 - Python
  • The decorative construction board is printed with a combination filter image where a layer 2 having a working image for making some image difference emerge among a plurality of decorative construction boards is superposed on a layer 1 having a basic image forming the main part of a pattern and common to the plurality of decorative construction boards.
    化粧建築板は、絵柄模様の主要部分を形成する基本画像を有し複数の建築板に共通のレイヤー１と、複数の化粧建築板間に寡少の画像差を発現させる加工用画像を有するレイヤー２とが重ね合わされた合成フィルタ画像が印刷されている。 - 特許庁
  • In this polishing sheet forming the polishing layer on a face on one side of a basic material film, the polishing layer is formed like an arbitrary pattern required when polishing, and a bank-shaped structural body or a water repellent layer is provided in a part where the polishing layer is not formed.
    基材フィルムの一方の面に、研磨層を形成した研磨シートにおいて、研磨層が研磨使用時に必要となる任意のパターン状に形成し、また、研磨層が形成されていない部分へ、土手形状構造体または撥水層を設けることを特徴とする。 - 特許庁
  • A pixel block determining means 31 sequentially extracts a pixel block of a prescribed size from a search target image, in accordance with a collation pattern; determines whether the extracted pixel block satisfies a prescribed determination condition; and sets a search basic pixel corresponding to each pixel block, in the case of satisfying the condition.
    画素ブロック判定手段３１が、照合パターンに従って所定サイズの画素ブロックを探索対象画像から順次抽出し、抽出した画素ブロックに対して所定の判定条件を満たすかどうかの判定を行い、条件を満たす場合に各画素ブロックに対応する探索基点画素を設定する。 - 特許庁
  • In the operation aptitude test method, a combination of the stimulus and a selection button in response to it offsets the effect of learning of the previous operation aptitude test and shortens a period till a next operation aptitude test by using operation patterns 202, 203, 204, 205, and 206 different from a basic operation pattern 201.
    運転適性検査方法において、刺激とそれに対する選択ボタンとの組み合わせが基本操作パターン２０１とは異なる操作パターン２０２，２０３，２０４，２０５，２０６を用いることにより、前回の運転適性検査時の学習効果を相殺し、次回の運転適性検査までの期間を短縮して実施できるようにした。 - 特許庁
  • The method for producing the helmet is characterized in that vibration absorbing sponges to be shock absorbing members by an outside material and an inside materials are held, formed by a thermocompression bonding to give the basic projected masses, which are set so as to have a flat appearance of an approximately honeycomb pattern as a whole.
    また、本発明は、前記ヘルメットの製造方法であり、外面材と内面材とで実質的に衝撃吸収部材となる振動吸収性スポンジを挟持し、熱圧着成形して前記基本凸塊を、全体として略亀甲形状の平面外見を有するように設けることを特徴とするものである。 - 特許庁
  • In the N-digit addition and subtraction unit and the N-digit addition and subtraction module using it, an output pattern of results of addition and subtraction is predicted based on a relation between an augend and an addend on the basis of regurality of addition and subtraction of an adder-subtracter, particularly, thereby preventing borrowing and carrying from being propagated in modules having basic digits.
    本発明は、加減算器のうち特に加減算の規則性に基づき、被加減数と加減数の関係から加減算結果の出力パターンを予見し、基本となる桁数のモジュール内では桁借り、桁上げが伝搬しないＮ桁加減算器ユニット及びそれを用いたＮ桁加減算器モジュールを特徴とする。 - 特許庁
  • In setting the color element level (luminance level) of sub-pixels corresponding to the basic part of characters and patterns and that of the nearby sub-pixels, the luminance level (compensation pattern) of all these sub-pixels is set in accordance with the on/off or the irradiation light quantity level of a display device irradiation means 50.
    文字および図形の基本部分に対応するサブピクセルと、その近傍のサブピクセルの色要素レベル（輝度レベル）を設定する際に、表示デバイス照射手段５０のオン／オフまたは照射光量レベルに応じて、基本部分に対応するサブピクセルおよびその近傍サブピクセルの輝度レベル（補正パターン）を設定する。 - 特許庁
  • Since an intermetallic compound is not produced between tin on the surface and the basic copper due to presence of the underlying film, tin whisker of the film carrier, or the like, can be prevented effectively and since the underlying film and the fine pattern are heated, whisker preventive function is enhanced through removal of strain from the underlying layer and annealing of copper base.
    下地皮膜の介在で表面のスズと素地の銅との間で金属間化合物が生成しないため、フィルムキャリア等のスズホイスカーを有効に防止できるうえ、下地皮膜と微細パターンを加熱するため、下地層の歪みの除去と銅素地の焼なまし作用により、ホイスカー防止機能がより増進される。 - 特許庁
  • To provide a radiation sensitive resin composition having superior dry etching resistance and high transparency to radiation, excellent in basic physical properties as a resist such as sensitivity, resolution and pattern shape, excellent also in shelf stability as a composition and retaining satisfactory adhesiveness to a substrate.
    優れたドライエッチング耐性を有し、しかも放射線に対する透明性が高く、かつ感度、解像度、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れるとともに、組成物としての保存安定性にも優れ、また基板に対する十分な接着性を保持した感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
  • A decoding section 92 receives low-order four bits of a video signal output from an LUT, specifies a modulation period (for example, 8 frames, 7 frames, 6 frames, 5 frames, etc.) of frame modulation, and specifies a frame modulation pattern designating which of the respective frames is made +1 higher in gradation than a basic gradation.
    デコード部９２は、ＬＵＴから出力される映像信号の下位４ビットを受け取り、フレーム変調の変調周期（例えば、８フレーム、７フレーム、６フレーム、５フレームなど）を特定し、各フレームのいずれのフレームを基本階調より＋１だけ階調を高くするかを示すフレーム変調パターンを特定する。 - 特許庁
  • To provide a radiation sensitive resin composition having high transparency to radiation as a chemical amplification type positive type resist, excellent in basic solid state properties as the resist, e.g. sensitivity, resolution and pattern shape, not causing development defects in microfabrication and capable of producing semiconductor devices in a high yield.
    化学増幅型ポジ型レジストとして、放射線に対する透明性が高く、しかも感度、解像度、パターン形状等のレジストとしての基本物性に優れるのみならず、微細加工時の現像欠陥を生じることがなく、半導体素子を高い歩留りで製造しうる感放射線性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
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