「diffraction」を含む例文一覧(7687)
＜前へ 1 2 .... 114 115 116 117 118 119 120 121 122 .... 153 154 次へ＞- The optical base 10 is provided with a tubular part 11 having an opening at one end, the diffraction grating 20 is stored in the tubular part 11, and the laser diode is arranged so as to block the opening of the tubular part 11.
光学ベース１０は、一端に開口部を持つ筒状を呈する筒状部１１を備え、回折格子２０は、筒状部１１内に収容され、レーザダイオードは、筒状部１１の開口部を塞ぐように配置されている。 - 特許庁 - The evaluation of the crystallinity of the aluminum electrode film 34 by the specific resistance value requires less trouble and time compared with a prior art method evaluating by using an x-ray diffraction method or the like, and a used apparatus is comparatively inexpensive.
この比抵抗値によるアルミニウム電極膜３４の結晶性の評価は、Ｘ線回折法などを用いて評価する従来の方法に比べて、手間や時間がかからず、また用いる装置も比較的安価である。 - 特許庁 - The inspection device 11 of the optical pickup 101 repetitively displaces an objective lens in a radial direction of an optical disk 106 and determines the quality of the disposition of a diffraction grating by using a differential push-pull signal obtained therethrough.
光ピックアップ１０１の検査装置１１は、光ディスク１０６の半径方向に対物レンズを繰返し変位させ、この間に得られた差動プッシュプル信号を用いて回折格子の配置の良否を判定する。 - 特許庁 - A wafer table is provided with a plurality of heads constituting an encoder system, and position information of the wafer table in an XY plane is measured on the basis of an output of a head opposed to a scale plate 21 (diffraction grating RG).
エンコーダシステムを構成する複数のヘッドがウエハテーブルに設けられ、スケール板２１（回折格子ＲＧ）に対向するヘッドの出力に基づいて、ウエハテーブルのＸＹ平面内における位置情報が計測される。 - 特許庁 - The copper-based alloy excellent in press-workability and its manufacturing method are characterized in that the total of diffracted intensities of {111} and {222} is twice or more of the diffracted intensity of {200} in surface X-ray diffraction of materials.
材料の断面のＸ線回折強度で｛１１１｝と｛２２２｝の回折強度の合計が｛２００｝回折強度の２倍以上であることを特徴とするプレス加工性に優れた銅基合金とその製造方法。 - 特許庁 - A third arithmetic means 38 discriminates the reciprocal lattice point group forming X-ray diffraction at every twin crystal component based on the crystal azimuth matrix at every twin crystal component to form display data for three-dimensionally displaying them in the same way.
第３演算手段３８は，結晶方位行列に基づいて，Ｘ線回折が生じる逆格子点群を，双晶成分ごとに区別して，それを同様に立体的に表示するための表示データを作成する。 - 特許庁 - The collimated light from the parabolic mirror 104 is processed by a slit 106, which parallel to the incident surface into the plasmon element 105 and a diffraction grating 107 for imparting dispersion in a direction vertical to the slit 106, and is detected by a two-dimensional detector 108.
放物面鏡104からの、コリメートされた光を、プラズモン素子105への入射面に平行なスリット106と、スリット106に垂直な方向に分散を与える回折格子107によって処理し、２次元検出器108で検出する。 - 特許庁 - An X-ray generator 1 emits an X-ray to a sample 3 of oxide heated in a high temperature chamber 4, and a two-dimensional X-ray detector 5 measures X-ray diffraction intensity in the sample 3.
高温チャンバー４内で加熱されている酸化物の試料３に対してＸ線発生装置１からＸ線を照射し、試料３におけるＸ線回折強度を、二次元Ｘ線検出器５により測定する。 - 特許庁 - To provide an optical element applicable to recording/reproducing of four types of optical recording media, having high diffraction efficiency and optical performance, and provide an optical pickup device using the same.
４種の光記録媒体に対する記録・再生に適用可能であって、しかも回折効率が高く、かつ光学性能をさらに高めた光学素子及びその光学素子を用いた光ピックアップ装置を提供する。 - 特許庁 - Here, λshows the wavelength of the emitted light, and T0 shows the thickness of the anode in which a combination efficiency of the diffraction grating becomes not less than 10-2 (μm-1) in case the wavelength λ is 550 nm.
Ｔ≦（λ／550）×Ｔ0（ｎｍ） …式（１） ここで、λは出射光の波長を示し、Ｔ0は、波長λが550ｎｍのときの、回折格子の結合効率が１０^-2（μｍ^-1）以上となる有機発光層の最大の厚さを示す。 - 特許庁 - One of three semiconductor laser chips that has the shortest wavelength is located at the center of these three laser chips, so that the angle of diffraction of a beam detected by a hologram element etc. is reduced and then the size of a semiconductor substrate can be reduced.
３つの半導体レーザチップのうち、波長が最も短い半導体レーザチップを中央に配置することで、ホログラム素子等による検出ビームの回折角が小さくなり、半導体基板の寸法を小さくできる。 - 特許庁 - Laser beams 14 of the respective wavelengths are all coupled to the respective core layers 6 of the multilayered optical branching filter 10 by one wave each, and are respectively condensed and coupled to the ribbon fibers 13 by the diffraction gratings 9, and the spherical reflection mirrors 8.
多層光分波器１０の各コア層６には、各波長のレーザ光１４がすべて１波ずつ結合され、回折格子９と球面反射鏡８によりリボンファイバ１３に各々集光合波される。 - 特許庁 - To provide an optical element having an incident plane and a diffraction plane formed thereon, which allows different films to be formed on the planes without masking one of the plane.
入射面と偏向面とが形成された光学素子において、入射面と偏向面とにそれぞれ異なる膜を形成する場合に、一方の面をマスキングすることなく膜を形成することが可能な光学素子を提供する。 - 特許庁 - Accordingly, a large quantity of the chlorine plasma without reacting on the mask diffuses into an opening at the center part of a diffraction grating large in mask width, whereby the concentration of the chlorine plasma in the opening is increased and etching speed is increased.
したがって、マスク幅の広い回折格子中央部ではマスク上で反応しない塩素プラズマが多量に開口部に拡散することにより開口部での塩素プラズマは高濃度になりエッチング速度が増加する。 - 特許庁 - A diffraction grating 20 is formed in a two-dimensional direction at an interface between a transparent electrode 103 and a glass substrate 104 as an interface where total reflection takes place with different refractive indices inside the self-luminous surface-emitting element.
自発光型面状発光素子内部において屈折率が異なり全反射が起こる界面である透明電極１０３とガラス基板１０４との界面に回折格子２０が２次元方向に形成されている。 - 特許庁 - It is preferable that the electrolytic manganese dioxide has a (110)/(021) peak intensity ratio of 0.50-0.80 in the X-ray diffraction peak pattern, and an interplanar distance between the (110) planes of 4.00-4.06 Å.
電解二酸化マンガンのＸ線回折ピークにおける（１１０）／（０２１）のピーク強度比が０．５０以上０．８０以下、（１１０）面の面間隔が４．００Å以上４．０６Å以下であることが好ましい。 - 特許庁 - The desulfurizing agent comprises a spongy nickel which has such a volume-average particle diameter of 80-300 μm as is measured by a laser diffraction scattering method and has such a specific surface area of 65-200 m^2/g as is measured by a BET method.
レーザー回折散乱法により測定した体積平均粒子径が８０〜３００μｍであり、かつＢＥＴ法により測定した比表面積が６５〜２００ｍ^２／ｇであるスポンジニッケルからなる脱硫剤。 - 特許庁 - The optical multiplexing-branching function of the array-waveguide diffraction grating type optical multiplexing-branching filter is set for the interval of 100 GHz, and, for example, the wavelength multiplexing light having the wavelength interval of 200 GHz is made incident and branched.
アレイ導波路回折格子型光合分波器の光合分波機能を１００ＧＨｚ間隔に設計し、例えば２００ＧＨｚ間隔の波長を有する波長多重光を入射して分波する。 - 特許庁 - To provide a hologram recording device and a program capable of recording each of a plurality of holograms so as to make the intensity of diffraction light constant regardless of the positions of multiple light emitting elements on a substrate in the width direction.
複数の発光素子の基板上での幅方向の位置に拘わらず、回折光の強度が一定となるように、複数のホログラムの各々を記録することができるホログラム記録装置及びプログラムを提供する。 - 特許庁 - To provide an optical head having a diffraction element which is capable of improving the quality of a TE signal by a DPP method even when light amounts of two sub-spots are unbalanced with respect to optical disks having different groove pitches.
溝ピッチが異なる光ディスクに対して、２つのサブスポットの光量がアンバランスな場合でも、ＤＰＰ方式によるＴＥ信号の品質向上が可能な回折素子を有する光学ヘッドを提供する。 - 特許庁 - Laser beams irradiated from the laser irradiation devices 11a to 11d extend the luminous flux by the convex lenses 12a to 12d, and incidence is made to the diffraction optical elements 10a to 10d as reproducing illumination light 13a to 13d.
レーザ照射装置１１ａ〜１１ｄから照射されたレーザ光は、凸レンズ１２ａ〜１２ｄで、その光束が広げられ、再生照明光１３ａ〜１３ｄとして回折光学素子１０ａ〜１０ｄに入射する。 - 特許庁 - The 3D sample form can be constructed from the TEM images, which can not be regarded as projection data, and the 3D form of a crystalline sample, with which diffraction contrast can be easily mixed, such as semiconductor device can be constructed as well.
投影データとは見なせないTEM像からの３次元試料形状構築が可能となり、半導体デバイス等、回折コントラストが混入し易い結晶性試料の３次元形状構築も可能となる。 - 特許庁 - To realize expansion and reproduction of magnetic domain which causes no repeated reproduction, to make it possible to reproduce a signal of cycle below the diffraction limit of light without the reduction in amplitude of a reproducing signal, and to increasingly improve recording density.
繰り返し再生が発生しない磁区拡大再生を実現し、再生信号振幅を低下させることなく、光の回折限界以下の周期の信号を再生可能とし、記録密度を大幅に向上させる。 - 特許庁 - In the electrode, the ratio I (111)/I (200) of the peak intensity I (111) for the (111) face and the peak intensity I (200) for the (200) face in the X-ray diffraction measurement of the catalyst material on the electrode surface is made 1.7 or less.
電極表面の触媒物質のＸ線回折測定値における（１１１）面のピーク強度Ｉ（１１１）と（２００）面のピーク強度Ｉ（２００）との比率Ｉ（１１１）／Ｉ（２００）を、１．７以下とする。 - 特許庁 - The negative collector uses copper or copper alloy wherein the ratio (200)/(111) of the X-ray diffraction intensity on the (200) face of a XRD device having a CuKα line as a ray source to that on the (111) face is from 0.3 to 4.0.
負極集電体として、ＣｕＫα線を線源とするＸＲＤ装置による（２００）と（１１１）面のＸ線回折強度比（２００）／（１１１）が０．３以上、４．０以下の銅または銅合金を用いる。 - 特許庁 - After capturing with a multi-mode fiber (MF), spectrometers (S1-S4) are used to measure intensity of diffraction order having been pre-induced spatially as a function of wavelengths (I_0'(λ), I_0(λ), I_+1'(λ), and I_-1(λ)).
マルチモードファイバ（ＭＦ）での捕捉の後、スペクトロメータ（Ｓ１−Ｓ４）を使用して波長（Ｉ_０’（λ）、Ｉ_０（λ）、Ｉ_＋１’（λ）、およびＩ_−１（λ））の関数としての空間的に再誘導された回折次数の強度を測定する。 - 特許庁 - To provide an optical disk clearly displaying drawn characters and figures by setting the pit interval to an optimum value in an optical disk having an effect for displaying characters and the figures utilizing a diffraction phenomenon in a pit zone.
ピット領域における回折現象を利用して文字や図形を表示する効果を有する光ディスクにおいて、ピット間隔を最適値にすることで描いた文字や図形を明確に表示する光ディスクを提供する。 - 特許庁 - The diffraction optical element having cyclic step shape is manufactured by repeating a series of processes for exposing and developing a base plate 1 coated with a resist 2 by using a mask so as to form a resist pattern, and for etching it.
マスクを用いてレジスト２が塗布された基板１を露光，現像してレジストパターンを形成し，エッチングする一連のプロセスを繰り返して，周期的な階段形状を有する回折光学素子を製造する。 - 特許庁 - Thus, the intensity of laser light applied on the hologram recording medium M does not get unstable, diffraction efficiency of generated reconstruction light L4 can be made constant, and high-accuracy reproduced data can be obtained.
これにより、ホログラム記録媒体Ｍに照射されるレーザ光の強度が不安定になることもなく、発生する再生光Ｌ４の回折効率を一定にすることができ、高精度の再生データを得ることができる。 - 特許庁 - In the polishing of a multilayer film whose one portion has a thin film with a reflection prevention operation by an interference/diffraction effect, variation in a reflection factor is small even if polishing advances before a polishing surface approaches the thin film.
その一部に干渉・回折効果による反射防止作用を持つ薄膜を有する多層膜を研磨する場合、研磨面が当該薄膜に近づく前は、研磨が進行しても反射率の変動はわずかである。 - 特許庁 - The optical head device has a laser beam source generating a laser beam L and the diffraction element 13 rotating a polarization direction of the laser beam L and generating a beam used for tracking control of the optical signal.
光学ヘッド装置は、レーザ光Ｌを発生するレーザ光源と、レーザ光Ｌの偏光方向を回転させたり光信号のトラッキング制御に用いられるビームを生成したりする回折素子１３とを有する。 - 特許庁 - The indium oxide powder is characterized in that, in a volume-basis particle size distribution obtained by measuring by a laser diffraction scattering type particle size distribution measurement method, (D90-D10)/D50 ranges from 1 to 10.
レーザー回折散乱式粒度分布測定法により測定して得られる体積基準粒度分布において、（Ｄ９０−Ｄ１０）／Ｄ５０が１〜１０であることを特徴とする酸化インジウム粉末を提案する。 - 特許庁 - The good optical coupling efficiency of the optical fiber 22 and the optical element 23 may be obtained by the diffraction lens structure 25 built into the slope 24a, by which the need for the laborious work of assembling parts, such as lenses, is eliminated.
傾斜面２４ａに作り込んだ回折レンズ構造２５によって光ファイバ２２と光素子２３との良好な光結合効率を得ることができ、レンズ等の部品の面倒な組み込み作業が不要となる。 - 特許庁 - After a support vector machine is trained using a set of the simulation diffraction signals as an input and a set of profile parameter value as an expected output, process of production is performed so that the structure may be fabricated on a wafer.
入力としてシミュレート回折信号の組を、予期される出力としてプロファイルパラメータの値の組を用いて、サポートベクトルマシンが訓練された後、ウェハ上に構造を製造するように製造プロセスが実行される。 - 特許庁 - To achieve less wear in a rotating mechanism for a diffraction grating of a spectrograph for an inductive coupling plasma spectrum analyzer by sliding a contact mounted at the end of a sine bar in smooth contact with a knife edge.
誘導結合型プラズマ分光分析装置用分光器の回折格子の回転機構において、サインバー端部に取付けられている接触子とナイフエッジとの接触を滑らかにスライドさせ、損耗の少なくする。 - 特許庁 - To provide a constitution for improving temperature characteristic in an optical head system where lights of different wavelengths are focused on the recording surface of an optical recording medium by utilizing the refraction and diffraction of an optical element.
光学素子の屈折および回折を利用して異なる波長の光を光記録媒体の記録面上に集光させる光ヘッド装置において、温度特性の改善を図ることのできる構成を提供すること。 - 特許庁 - The light emitted from a light source 1 is converged by a concave mirror 2 that is a toroidal mirror and emitted to an inlet slit 3, and the light transmitted by the slit is sent to a plane diffraction grating 5 by a collimator mirror 4 that is a toroidal mirror.
光源１から発した光をトロイダル鏡である凹面鏡２で集光して入口スリット３に照射し、スリットを通り抜けた光をトロイダル鏡であるコリメータ鏡４により平面回折格子５へ送る。 - 特許庁 - On-axis chromatic aberration generated by a rectangular parallelepiped prism (15) is corrected by providing diffraction effect to an HOE(31) for each luminous flux of R, G and B and by making different the focal distances for the luminous fluxes.
ＨＯＥ（３１）にＲ、Ｇ、Ｂの各光束に対して回折効率をもたせるとともに、各光束に対するＨＯＥの焦点距離を相違させて、直方体プリズム（１５）で発生する軸上色収差を補正する。 - 特許庁 - The light source unit 4 of the optical head unit is provided with a common frame, where annular end faces 61 and 62 for defining the optical axis direction positions of a laser diode 7 and a diffraction grating holder 9 are formed.
光ヘッド装置の光源ユニット４は、共通フレーム６を備え、ここには、レーザダイオード７および回折格子ホルダ９の光軸方向位置を規定するための円環状端面６１、６２が形成されている。 - 特許庁 - The parallel radiation (12) emitted from the sample (4) in a known apparatus for X-ray analysis (e.g.; diffraction) is analyzed corresponding to a wavelength and matched with a focus 20 by a parabolic multilayered mirror 14.
公知のＸ線分析（例えば、回折用）の装置における試料（４）から発する並行放射線（１２）は波長に応じて分析され、方物面多層鏡１４によって焦点２０に焦点が合わされる。 - 特許庁 - To provide an optical head detecting a tracking error signal for CD and DVD and a focus error signal for a knife edge method using one diffraction optical element (HOE) and one optical detecting element.
１つの回折光学素子（ＨＯＥ）及び１つの光学検出素子を使用して、ＣＤ用及びＤＶＤ用のトラッキングエラー信号、及びナイフエッジ法のフォーカスエラー信号を検出する光学ヘッドを提供する。 - 特許庁 - This aluminum nitride sintered compact contains carbon in which a peak can not be detected at a position of 10-90° reflection angle in an X-ray diffraction chart or is equal to or lower than the detection limit in a matrix composed of aluminum nitride.
窒化アルミニウムからなるマトリックス中に、Ｘ線回折チャートでは反射角が１０〜９０°の位置でピークを検出することができないか、検出限界以下であるカーボンを含有する窒化アルミニウム焼結体。 - 特許庁 - The polarization separating element is provided with a polarization-selectable hologram 3 having different diffraction efficiency respectively for orthogonally intersecting polarized-light components and a prism 13 to which diffracted and undiffracted light is made incident via the polarization-selectable hologram 3.
互いに直交する偏光成分ごとに回折効率が異なる偏光選択性ホログラム３と、この偏光選択性ホログラム３を経た回折光及び非回折光が入射されるプリズム１３とを備える。 - 特許庁 - A hologram element generating diffraction light of only the optical beam of the wavelength λ3 and correcting a focal position in an optical axis direction is disposed in a position through which only the reflected beams pass and before the optical detector 9.
反射光のみが通過する位置であって光検出器９の手前には、波長λ３の光ビームについてのみ回折光を生じて光軸方向の焦点位置を補正するホログラム素子が配置される。 - 特許庁 - To enhance quality of image recording by easily removing heat generated by blocking first order diffracted light to be no signal light in an image recording apparatus using a diffraction grating type SLM (Spatial Light Modulation device).
回折格子型のＳＬＭ（空間光変調デバイス）を用いる画像記録装置において、非信号光である１次回折光を遮光することにより生じる熱を容易に除去して画像記録の質を向上する。 - 特許庁 - To provide an optical scanner having a diffraction face at least in one optical element, in which the variation in a beam spot diameter due to temperature variation is reduced and an optical scanning is performed with a more stabilized beam spot diameter.
少なくとも１つの光学素子に回折面を用いた光走査装置において、温度変動によるビームスポット径変動を低減し、より安定したビームスポット径で光走査を行い得る光走査装置を実現する。 - 特許庁 - To provide a quantity-of-light adjusting device with which an ND filter and aperture blades operate stably not to give trouble for autofocus operation, while reducing degradation of resolution caused by diffraction when adjusting light quantity.
光量調整を行う際に、回折による解像度の劣化を低減しつつ、ＮＤフィルタや絞り羽根が安定して動作し、オートフォーカス動作に支障を与えることがない光量調整装置を提供する。 - 特許庁 - The element 18 consists of an active waveguide 18a, consisting of a composition which absorbs 1.3 μm band light, and a diffraction grating 18b which is disposed adjacent to the waveguide 18a and has Bragg wavelength near in the neighborhood of 1.55 μm.
素子１８は、１．３μｍ帯光を吸収する組成からなる活性導波路１８ａと、導波路１８ａに隣接配置され１．５５μｍ付近にブラッグ波長を具備する回折格子１８ｂとからなる。 - 特許庁 - The tracks for tracking consist of the patterns of the same width formed of the arrays of the period ruggedness, by which the edge portions of the tracks for tracking are considerably increased and the diffraction efficiency by the edges is made extremely high.
本発明においては、トラッキングトラックが周期的な凹凸の配列から形成された同一幅のパターンからなることにより、トラッキングトラックのエッジ部分が大幅に増えエッジによる回折効果が非常に大きくなる。 - 特許庁 - A prescribed area including a boundary position between two adjacent refractive index modulation formation areas in the optical waveguide type diffraction grating element 121 is heated by a thin film heater to adjust an optical path length.
光導波路型回折格子素子１２１における隣合う２つの屈折率変調形成領域の間の境界位置を含む所定領域は、薄膜ヒータにより加熱されて、光路長が調整される。 - 特許庁
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