「diffraction」を含む例文一覧(7687)
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ＲｕまたはＲｕ合金からなるスパッタリングターゲットであって、ターゲット表面においてＸ線回折法で測定された積分強度値における（００２）面の結晶方位含有比を０．０５以上とする。 - 特許庁 - To provide an optical information recording medium excellent in raw preservability, resolution, diffraction efficiency or the like without producing noise due to distortion of the recording medium while keeping sensitivity of a photopolymer, and to provide an optical information recording method.
本発明は、フォトポリマーの感度を維持しつつ、記録媒体の歪みによるノイズ発生がなく、生保存性、解像度、回折効率等に優れた光情報記録媒体及び光情報記録方法の提供。 - 特許庁 - Next, the number of a sample container and an injection amount are read in steps 170-190 and the read number of the sample container or the like is transmitted to a spectral diffraction control part and a set to a sampling control means 42 to perform measurement.
次にステップ１７０〜１９０で試料容器番号と注入量とを読み出し、読み出した試料容器番号等を分光制御部に送信しサンプリング制御手段４２に設定し、測定が行われる。 - 特許庁 - The crystal orientation ratio of a peak intensity of crystal faces (111) and (200) obtained by the X-ray diffraction of the face to be sputtered is made to 0.1-0.4 and the variation of the crystal orientation ratio is made to 40% or less.
また、スパッタリングされる面のＸ線回折により求められた結晶面（１１１）と（２００）のピーク強度の結晶方位比率を０．１〜０．４、またはそれと結晶方位比率のバラツキを４０％以下とする。 - 特許庁 - To reduce fluctuations of a beam spot formation position due to the temperature fluctuation and the wavelength fluctuation by using at least "a lens made of resin in which a diffraction surface is used" at the side of a light source rather than a deflecting means and by considering factors which are not considered in a conventional optical sanner.
偏向手段より光源側に「回折面を用いた樹脂製レンズ」を用い、従来にない要因を考慮し、温度変動や波長変動によるビームスポット結像位置変動をより軽減させる。 - 特許庁 - A plurality of layers of plane optical transmission path are stacked, and the ribbon fiber arrays 5 are collectively connected to an exit surface 12 of a multilayered optical branching filter 10 formed with spherical reflection mirrors 8 and diffraction gratings 9 on surrounding wall surfaces.
平面光伝送路を複数層積層し、周囲の壁面に球面反射鏡８と回折格子９を形成した多層光分波器１０の出射面１２にリボンファイバアレイ５を一括接続する。 - 特許庁 - As to thin film crystal that is a measuring object, a ratio is found between diffraction intensities at two 2θ to examine to which it conforms of the calibration curve as to the O polar surface and the calibration curve as to the Zn polar surface.
測定対象の薄膜結晶に対して、２つの2θにおける回折強度の比を求め、それがO極性面に対する検量線とZn極性面に対する検量線のいずれかの上に乗るかを調べる。 - 特許庁 - A fiber has a mean diameter of about 1 to about 4 μm, and a degree of crystallization of at least about 5 to about 50% that can be detected by an X-ray diffraction, and has a size of crystal of about 50 to about 500 A.
ファイバーは約１〜約１４μｍの平均直径を有し、Ｘ線回折により検出される少なくとも約５〜約５０％の結晶化度を有し、かつ約５０〜約５００Ａの結晶の大きさを有する。 - 特許庁 - The translucent member 6 is moved by a drive assembly, by which the changing of the state of the diffusion and diffraction of the light by the translucent member 6 is made possible and the decoration having a variety of changes may be provided.
駆動装置により透光部材６を動かすことにより、透光部材６による光の拡散や回折の状態を変化させることができ、変化性に富んだ装飾を提供することができる。 - 特許庁 - To provide a hologram reflection plate by which display light of desired color tone (intermediate tone different from pure colors obtained by spectral diffraction) can be obtained in a broad observation range at the time of liquid crystal display using the hologram reflection plate.
ホログラム反射板を用いた液晶表示の際、所望の色調（分光された純粋な色とは異なる中間調）での表示光を、広い観察範囲で得られるようなホログラム反射板を提供する。 - 特許庁 - To realize magnetic domain expansion reproduction which caused no repeated reproduction, to make it possible to reproduce a signal of cycle below the diffraction limit of light without the reduction in amplitude of a reproducing signal, and to increasingly improve recording density.
繰り返し再生が発生しない磁区拡大再生を実現し、再生信号振幅を低下させることなく、光の回折限界以下の周期の信号を再生可能とし、記録密度を大幅に向上させる。 - 特許庁 - The manufacturing apparatus of optical fiber further has a pair of mirrors 4a, 4b which are disposed oppositely to each other between the phase grid 3 and optical fiber 5 so as to reflect only ±primary diffraction beams of the ultraviolet beams 10 diffracted by the phase grid 3.
また、位相格子３により回折された紫外光１０の±１次回折光のみ反射するように位相格子３と光ファイバ５との間に対向配置された一対のミラー４ａ・４ｂとを有している。 - 特許庁 - The label for forming the information recording medium is obtained by successively forming the rewritable layer 6 and the protective layer 7 the top surface of the transparent base material 5 and the light diffraction structure 3, the light reflective layer 2 and the adhesive layer 8 on the under surface.
また、透明基材５の上面に、リライタブル層５、および保護層７、下面に、光回折構造３、光反射性層２、および接着剤層８を順次形成して、情報記録媒体作成用のラベルとした。 - 特許庁 - An aberration adding part 8 for adding fourth-order aberration is provided between the optical recording medium and the light receiving part, the first and the second regions 81a and 81b, 82a and 82b of the aberration adding part 8 are made regions with different diffraction directions.
光記録媒体と受光部との間に４次の収差を付加する収差付加部８を設け、その第１及び第２の領域８１ａ及び８１ｂ、８２ａ及び８２ｂを、回折方向が異なる領域とする。 - 特許庁 - Radiation light from the light emitting element 30 is branched into three beams by the diffraction grating 20, and optical axes of respective branched beams are superposed on the measuring object 13, to thereby form one detection point 14.
そして、発光素子３０からの放射光を回折格子２０にて３つの光束に分岐し、この分割されたそれぞれの光束の光軸を被測定物１３上で重ね合わせて１つの検出点１４を形成する。 - 特許庁 - The ±first order diffraction light are passed through first and second phase compensation elements 60, 61, and polarized and separated by first and second polarization separation elements 56, 57 and made incident on first and second detectors 58, 59.
±１次回折光は、第１および第２位相補償素子６０，６１を通り、第１および第２偏光分離素子５６，５７によって偏光分離されて第１および第２検出器５８，５９に入射する。 - 特許庁 - A diffraction grating 41 is arranged so as to be rotated between a laser beam generator 40 and a cable 10, and the laser beam of the laser beam generator 40 is used as a pattern beam 43 configured of a plurality of slit beams 42.
回折格子４１は、レーザ光発生器４０とケーブル１０との間に回動可能に配置されており、レーザ光発生器４０のレーザ光を複数のスリット光４２からなるパターン光４３とする。 - 特許庁 - EUV light coming out of a light source 1 enters an optical system to be inspected 6, after passing through an illumination optical system 2 and a pinhole 3a on a pinhole implement 3, and is divided into two or more beams by a diffraction grating 4.
光源１から出射されたＥＵＶ光は、照明光学系２及びピンホール部材３上のピンホール３ａを通り、回折格子４で複数のビームに分割されて被検光学系６に入射する。 - 特許庁 - A crystalline structure observed in the surface side of the electrophotographic photoreceptor by X-ray diffraction analysis exhibits a ≤0.8 ratio of the reflection intensity in a 101 direction of crystal plane to the peak reflection intensity in a 110 direction of crystal plane.
電子写真用感光体表面がわからみた結晶構造のＸ線回折で得られる面方位１１０の反射強度のピーク値に対する、面方位１０１の反射強度の比率が０．８以下とする - 特許庁 - To obtain an optical prism capable of satisfactorily correcting a chromatic aberration and which enables a user to satisfactory observe an observation image by installing a diffraction optical element on the appropriate plane of the prism, and to obtain an observation optical system using the optical prism.
回折光学素子をプリズムの適切なる面に設けることにより色収差を良好に補正し、観察像を良好に観察することができる光学プリズム及びそれを用いた観察光学系を得ること。 - 特許庁 - To provide an optical multiplexer/demultiplexer and an optical multiplexer/demultiplexer module in which the relative positions of a diffraction grating and an optical fiber is accurately determined and which are miniaturized and have excellent mass-productivity.
本発明は、回折格子と光ファイバの位置関係を正確に決めることが容易にでき、小型化が可能で量産性に優れた光合分波器並びに光合分波器モジュールを提供することを目的の１つとする。 - 特許庁 - An inter-barycentric-coordinate propagation characteristic estimation part 6 refers to the route information, calculates and adds complex electric fields in all the routes using a reflection coefficient and a diffraction coefficient, etc., and stores them in the route information memory 5.
重心座標間伝搬特性推定部６は、該経路情報を参照し、反射係数や、回折係数などを用いて、全ての経路における複素電界を算出して加算し、経路情報メモリ５に記憶する。 - 特許庁 - Preferably, the Ti-MWW layered precursor is one giving an X-ray diffraction pattern having values below and having a composition represented by general formula: xTiO_2-(1-x)SiO_2 (wherein x is a numerical value of 0.0001-0.1).
該Ｔｉ-ＭＷＷ層状前駆体としては、下記に示す値のＸ線回折パターンを有し、かつ一般式ｘTiO2・(1−x)SiO2（式中ｘは0.0001〜0.1の数値を表す。）で表される組成を有するものであることが好ましい。 - 特許庁 - To provide an optical scanner using a power diffraction face, wherein fluctuation of a beam spot diameter caused by change not only in temperature but also through mode hopping in a semiconductor laser is reduced to be able to optically scan with a stable beam spot diameter.
パワー回折面を用いた光走査装置において、半導体レーザにおける温度変動やモードホップによるビームスポット径変動を低減し、安定したビームスポット径で光走査を行うことを可能にする。 - 特許庁 - In the dust core, the soft magnetic particles are composed of mixed particles of Fe-Si-Al alloy particles and Fe-Ni alloy particles, and when the dust core is analyzed by X-ray diffractometry, the next diffraction peak intensity ratio is 0.45 or less.
この圧粉磁心は、前記軟磁性粒子は、Fe-Si-Al合金粒子とFe-Ni合金粒子と混合粒子で構成され、当該圧粉磁心をX線回折法により分析した際、次の回折ピーク強度比が0.45以下である。 - 特許庁 - When the diffraction grating is formed on the side face of a ridge in a ridge-shaped waveguide, a mask pattern is formed while irregularities formed on the surface of a crystal layer are used, and its side face is side-etched so as to form a mask.
また、リッジ型導波路においてそのリッジ側面に回折格子を形成する際に、結晶層の表面に形成した凹凸を利用してマスクパターンをつくり、その側面をサイドエッチングしてマスクを形成する。 - 特許庁 - The image of the scanning element region 4an is spectrally diffracted by the diffraction lattice 13 so as to expand a spectrum in the vertical direction of the imaging plane 15p of a CCD 15 to form a two-dimensional spectral image on the imaging plane 15p.
回折格子１３が、走査要素領域４ａｎの像をＣＣＤ１５の撮像面１５ｐの垂直方向にスペクトルが広がるように分光し、撮像面１５ｐ上に二次元スペクトル画像を形成する。 - 特許庁 - In the orientating properties of the crystal of a metal measured by the X-ray diffraction of the metal mask, the ratio of the peak strength on a (220) face to the sum of those on a (111) face, a (200) face and the (220) face is set to be at least 0.4.
メタルマスクのＸ線回折により測定したメタルの結晶の配向性において、（１１１）面、（２００）面及び（２２０）面ピーク強度の合計に対する（２２０）面のピーク強度比が０．４以上にする。 - 特許庁 - To provide an inexpensive and compact optical low-pass filter capable of suppressing the generation of high order diffraction light, to provide a method for producing the same, or to provide an optical system having a satisfactory image contrast using the optical low-pass filter.
高次回折光の発生を抑制することができ且つ安価で小型の光学的ローパスフィルタ、その製造方法、または、該光学的ローパスフィルタを用いた画像コントラストの良好な光学系を提供すること。 - 特許庁 - The negative electrode active material used is a carbon whose inter layer distance d(002) by an X-ray diffraction method is not less than 0.377 nm, and the size of the crystalit in the c-axial direction is not larger than 1.29 nm.
負極活物質として、Ｘ線回折法による層間距離ｄ（００２）が０．３７７ｎｍ以上であり、ｃ軸方向の結晶子の大きさＬｃが１．２９ｎｍ以下である炭素材料を用いる。 - 特許庁 - A polarizing/separating means has the constitution in which a polarizing/separating element where an air layer is formed in contact with a polarizing/separating plane for polarizing/separating light by diffraction based on a grid structure, is arranged in a medium such as liquid.
偏光分離手段として、格子構造に基づく回折により光を偏光分離する偏光分離面に接して空気層が形成された偏光分離素子を液体等の媒質中に設けた構成とする。 - 特許庁 - This catalyst is a titanosilicate catalyst which has an X-ray diffraction pattern of the values indicated below and is also represented by the general formula: xTiO_2-(1-x)SiO_2 (x in the formula represents a figure of 0.0001 to 0.1), and serves for producing propylene oxide.
下記に示す値のＸ線回折パターンを有し、かつ一般式 ｘＴｉＯ_２・（１−ｘ）ＳｉＯ_２ （式中ｘは０．０００１〜０．１の数値を表す。）で表されるチタノシリケートであるプロピレンオキサイド製造用触媒。 - 特許庁 - The laser beam having the nonuniform distribution is cast to the diffraction optical element and the transmitted light thereof is condensed by the condenser lens.
ある範囲内の格子点でのビームパワーが同一になるように回折型光学素子（ＤＯＥ）の位相パターンを決めておき、不均一分布をもつレーザビームを回折光学素子に当てて、その透過光を集光レンズによって集光する。 - 特許庁 - To provide a solid-state imaging apparatus that minimizes influences of attenuation and diffraction of light even if wiring is present in a path of light, and also improves sensitivity and prevents color mixing while microfabricating pixels.
光の経路に配線が存在する場合でも、光の減衰や回折の影響を最小限に留め、画素の微細化を図ると同時に感度の向上、混色の防止を図ることのできる固体撮像装置を提供する。 - 特許庁 - Next, a first optical fiber 2 having a diffraction grating K is positioned in the rear side of the semiconductor laser element 1 so that an output of the laser beam exited from the front side end part of the semiconductor laser element 1 is maximized.
次いで、半導体レーザ素子１の前側端部から出射されるレーザ光の出力が最大となるように、回折格子Ｋを備えた第１の光ファイバ２を半導体レーザ素子１の後側に位置決めする。 - 特許庁 - An interference fringe having a function to reproduce a hologram stereoscopic image is recorded at the center part of a medium, and a diffraction grating pattern having the function to reproduce a two-dimensional image I2 is recorded at peripheral part thereof.
媒体の中央部分には、ホログラム立体像Ｉ１を再生する機能を有する干渉縞を記録し、その周囲部分には、二次元画像Ｉ２を再生する機能を有する回折格子パターンを記録する。 - 特許庁 - In the electron microscope applying a phase retrieval method, an image size decided by a pixel size p of a diffraction image, a camera length L, and a wavelength λ of irradiation beams and a sample irradiation area are set to have a constant relation.
位相回復法を適用した電子顕微鏡等において、回折像の画素サイズｐ、カメラ長L、照射ビームの波長λにより決まる画像サイズと試料照射領域が一定関係になるようにする。 - 特許庁 - By irradiating the plane waveguide type optical circuit with an ultraviolet laser beam 50 through a phase grating mask 30, the diffraction grating 25 is formed in the core layer 20 (figure 1 (d)) by the refractive index modulation pattern.
そして、この平面導波路型光回路に対して、位相格子マスク３０を介して紫外レーザ光５０を照射して、屈折率変調パターンによる回折格子２５をコア層２０内に形成する（図１（ｄ））。 - 特許庁 - A diffraction grating 20 for an X-ray Talbot interferometer has a plurality of X-ray absorption parts 20b formed on a substrate 22 by cutting a metal film 20bx in a wavy shape at prescribed intervals in one direction.
基板２２上に金属膜２０ｂｘを切削して形成したＸ線吸収部２０ｂが、一方向に沿って所定間隔で畝状に複数形成されているＸ線タルボ干渉計用回折格子２０である。 - 特許庁 - A mask 33 for diffraction grating is formed not only on a group III-V compound semiconductor film 21a of a first semiconductor laminate 25, but also on a group III-V compound semiconductor film 29 of a second semiconductor laminate 31.
第１の半導体積層物２５のIII−Ｖ化合物半導体膜２１ａ上だけでなく第２の半導体積層物３１のIII−Ｖ化合物半導体膜２９上にも回折格子用マスク３３を形成する。 - 特許庁 - To provide an optical pickup device capable of reducing astigmatism resulting from diffraction grating, which can correct light intensity distribution for an optical beam emitted from the light source, and simplifying an assembling process.
光源から出射される光ビームの光強度分布を補正することのできる回折格子に起因する非点収差を低減し得ると共に、組立て工程の簡略化を実現し得る光ピックアップ装置を提供する。 - 特許庁 - Ultraviolet rays 16 radiated by a pulse ultraviolet light source 12 are subjected to wavelength dispersion by a diffraction grating 14, and are made to be linear excitation light 28 along the direction, where a wavelength is dispersed, for irradiating a sample 28.
パルス紫外線光源１２の放射した紫外線１６は、回折格子１４によって波長分散されたのち、波長が分散された方向に沿った線状励起光２８にされ、試料３０に照射される。 - 特許庁 - Thus, a laser beam L leaking from a fuse element to be cut to the semiconductor substrate side is absorbed by the attenuation member 140, consisting of the plurality of columnar bodies and scattered by Fresnel diffraction.
これにより、切断すべきヒューズ素子から半導体基板側へ漏れ出したレーザビームＬは、複数の柱状体によって構成された減衰部材１４０によって吸収されるとともに、フレネル回折によって散乱する。 - 特許庁 - To provide a light guide plate using a diffraction grating, which has high luminous efficiency by good moldability of a pattern from original plate and good productivity and is manufactured at low cost, and its manufacturing method.
回折格子を使用した導光板であって、原版からのパターンの成形性が良好で発光効率が高く、生産性が良好で廉価なフィルム導光板、及びその製造方法を提供すること。 - 特許庁 - In the stamper used as a die for pattern transfer, at least the outermost surface of each projecting part is formed of a material 110 having no crystalline peak in X-ray diffraction.
パターン転写の型として用いられるスタンパであって、少なくともそのスタンパの凸部最表面を、Ｘ線回折において結晶性ピークを有していない材料１１０で形成することにより、上記課題を解決する。 - 特許庁 - To efficiently eliminate the flare component of a photographed image due to an undesired diffraction light caused by the wavelength dependence of a diffractive lens in a digital camera having an image pickup optical system consisting of a refractive lens and the diffractive lens.
屈折レンズと回折レンズとからなる撮像光学系を有するデジタルカメラにおいて、回折レンズの波長依存性により発生する不要回折光による撮像画像のフレア成分を効率よく除去すること。 - 特許庁 - To provide a simple defect inspection device and a defect inspection method for performing defect inspection on a substrate by using diffraction beams generated from a repetitive pattern of further fine intervals without shortening the wavelengths of illumination beams.
照明光の波長を短くしなくても、さらに微細なピッチの繰り返しパターンから発生する回折光を利用して、基板の欠陥検査を行える簡易な欠陥検査装置および欠陥検査方法を提供する。 - 特許庁 - An optical signal which is wavelength-multiplexed and transmitted through an optical fiber 10 is separated and condensed by a chirped diffraction grating optics 14, and is detected by a photo-detector array 24 via a light-receiving waveguide array 26.
波長多重化され光ファイバ１０を伝送してきた光信号は、チャープ型回折格子光学１４によって分離・集光され、受光導波路アレイ２６を介して、光検出器アレイ２４で検出される。 - 特許庁 - To provide a diffraction optical element and a method of manufacturing the element by which an antireflection film can be continuously formed with uniform film thickness on the surface of a periodical grating having a grating consisting of a plurality of recesses and projections.
複数の凹凸状の格子を有する周期格子の表面に、反射防止膜を連続して均一の膜厚で形成することのできる回折光学素子およびその製造方法を提案すること。 - 特許庁 - A diffraction grating recording medium is provided, forming 'hidden information' from pixels different from its pixels, forming a clear 'color image' having no irregularities, capable of reading easily the 'hidden information' by expansion in 5-10 times.
「隠し情報」をその画素とは異なる画素で形成し、鮮明でムラの無い「カラー画像」を形成し、且つ、５倍〜１０倍程度の拡大により容易に「隠し情報」を判読できる回折格子記録媒体を得た。 - 特許庁
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