「diffraction」を含む例文一覧(7687)
＜前へ 1 2 .... 131 132 133 134 135 136 137 138 139 .... 153 154 次へ＞- This diffraction grating 10 for hologram recording is so constructed that a shielding line 12 of a line and space pattern is formed on the surface of a transparent substrate 11 formed of glass, and a protective film 13 having the index of refraction equal to the index of refraction of the transparent substrate 11 is formed on the surface of the transparent substrate 11 including the shielding line 12.
ガラスでなる透明基板１１の表面にラインアンドスペース・パターンの遮光ライン１２が形成され、遮光ライン１２を含む透明基板１１の表面に透明基板１１の屈折率と同等な屈折率を有する保護膜１３を形成する。 - 特許庁 - The conductive substrate has an ITO film formed thereon, in which the integrated intensity ratio A/C of the integrated intensity A of 2θ peak corresponding to (222) plane and the integrated intensity of 2θ peak corresponding to (440) plane by the X-ray diffraction method is not less than 5.0.
Ｘ線回折法による（２２２）面に相当する２θピークの積分強度Ａと（４４０）面に相当する２θピークの積分強度Ｃとの積分強度比Ａ／Ｃが５．０以上であるＩＴＯ膜が形成されていることを特徴とする、導電性基板。 - 特許庁 - Aberration detection is performed on the basis of diffraction intensity distribution in the reflected luminous flux of the pair of sub-luminous-fluxes from the optical disk 102, and aberration correction is performed by generating aberration being of inverse polarity and the same kind as aberration detected by an aberration correction element 228.
そして、光ディスク１０２からの一対の副光束の反射光束における回折強度分布に基づいて収差検出を行い、収差補正素子２２８により検出された収差と逆極性の同種の収差を発生させて収差補正を行う。 - 特許庁 - To provide reflectance calculation method and device of a reflection plate of a reflection type display device by which optimization of a shape which can enhance reflection efficiency can be attained and design predicting change of the diffraction direction and intensity due to difference of wavelengths can be realized and to provide a program.
反射効率を向上し得る形状の最適化を図れ、波長の違いによる回折方向、強度の変化を予測した設計を実現できる反射型表示装置の反射板反射率算出方法およびその装置、並びにプログラムを提供する。 - 特許庁 - To provide an optical element, an objective optical element and an optical pickup device, which are used for reproducing and/or recording the information with respect to two kinds of optical information recording media having different substrate thicknesses and are able to obtain a sufficient diffraction efficiency regarding two kinds of wavelengths.
基板厚さの異なる二種類の光情報記録媒体に対する情報の再生及び／又は記録に用いられ、二種類の波長に関して十分な回折効率を得られる光学素子、対物光学素子及び光ピックアップ装置を提供する。 - 特許庁 - The carbon catalyst has a crystallinity degree of 41.0% or less as determined by an X-ray diffraction method, a (nitrogen atom)/(carbon atom) ratio of 0.7 or more as determined by an X-ray photoelectron spectroscopy, and oxygen reduction onset potential of 0.774 V (vs. NHE) or more.
また、本発明に係る炭素触媒は、Ｘ線回折法により得られる結晶化度が４１．０％以下であり、Ｘ線光電子分光により得られる窒素原子／炭素原子比が０．７以上であり、酸素還元開始電位が０．７７４Ｖ（ｖｓ．ＮＨＥ）以上である。 - 特許庁 - A diffraction element 116 is arranged at the position which matches an intermediate image plane being present between the light source of the retina scan type display and a light emitting section or shifted from the position of the intermediate image plane on the optical path between the light source of the display and the light emitting section.
【解決手段】網膜走査型ディスプレイの光源と出射部との間における光路上に、それら光源と出射部との間に存在する中間像面と一致するかまたはその中間像面から外れた位置に回折素子１１６を設置する。 - 特許庁 - The number of steps in one period of the second region is same as the number of steps in one period of the first region and the horizontal width in the step-like part is made identical for all steps so that the diffraction efficiency for the designed wavelengths in the first and second regions is optimized.
また、第２の領域の１周期内の段数を第１の領域の１周期内の段数と同じにして、階段状の部位の水平面の幅を全て同じにし、第１、第２の領域の設計波長に対する回折効率を最高にする。 - 特許庁 - The content ratio of the conductive phase calculated by the following equation based on its X-ray diffraction profile is not more than 20%, where the content ratio of the conductive phase(%) = (the integral intensity of the maximum peak of the conductive phase/the integral intensity of the maximum peak of the aluminum nitride phase) x 100.
Ｘ線回折プロファイルにより下記式で算出した導電相の含有割合が２０％以下である（導電相の含有割合（％）＝（導電相の最強線ピークの積分強度／窒化アルミニウム相の最強線ピークの積分強度）×１００）。 - 特許庁 - The optical surface of the diffractive structure has a structure 22 having such a diffracting operation that an L-th diffracted light of the luminous flux of wavelength λ1 and an M-th diffracted light of the luminous flux of wavelength λ2 become respectively the maximum diffraction efficiency when the optical path difference applying structure is not prepared.
回折構造の光学面は光路差付与構造が無い場合に波長λ１の光束のＬ次回折光と波長λ２の光束のＭ次回折光がそれぞれ最大の回折効率となる回折作用を有する構造２２を備える。 - 特許庁 - To provide a hologram recording material which can achieve high sensitivity, high diffraction efficiency, preferable storage property, a low shrinkage degree, a dry processing and multiple recording characteristics (high recording density) which is applicable for a high-density optical recording medium, a three-dimensional display, a holographic optical element or the like.
高密度光記録媒体、３次元ディスプレイ、ホログラフィック光学素子等への応用可能な高感度かつ高回折効率、良保存性、低収縮率、乾式処理、多重記録特性（高記録密度）を両立することができるホログラム記録材料を提供する。 - 特許庁 - A scanning optical system applied the multi-beam optical system is composed of a light source 1, a beam expander 2, the diffraction diverging element 3, a correction optical system 4, a convergence mirror 5, a multichannel modulator 6, a collimating lens 7, a polygon mirror 8, an fθ lens 9, and a surface 10 for exposure.
マルチビーム光学系が適用された走査光学系は、光源１、ビームエクスパンダー２、回折分岐素子３、補正光学系４、収束ミラー５，マルチチャンネル変調器６、コリメートレンズ７、ポリゴンミラー８、ｆθレンズ９、露光対象面１０から、構成されている。 - 特許庁 - A diffraction type optical element 8 for dividing a laser beam to be converged by an fθ lens 6 into a plurality of laser beams is arranged on an optical path between the fθ lens 6 for converging the laser beam deflected by a galvano-mirror 4 and a printed board 7.
ガルバノミラー４により偏向されたレーザ光を集光するｆθレンズ６とプリント基板７との間の光路上に、当該ｆθレンズ６により集光されるレーザ光を複数のレーザ光に分岐する回折型光学素子８を導入する。 - 特許庁 - The diffracting element 16 has a flat surface 16a on the side of the polygon mirror 14 and at part of a surface 16b on the side of the fθ lens 20, a diffraction surface for correcting the magnification chromatic aberration of the fθ lens 20 is formed around the point A of intersection with the optical axis.
回折素子１６は、ポリゴンミラー１４側の面１６ａが平坦面であり、ｆθレンズ２０側の面１６ｂの一部にｆθレンズ２０の倍率色収差を補正するための回折面が光軸との交点Ａを中心として形成されている。 - 特許庁 - To provide an optical pickup apparatus in which deterioration of amplitude of a tracking error signal by an objective lens shift is small for a plurality of kinds of optical disks of which the guide groove pitch is different, even when phase deviation given to respective regions of multi-division diffraction gratings is made small.
多分割回折格子の各領域に与える位相ずれを小さくした場合でも、案内溝ピッチが異なる複数の種類の光ディスクに対して、対物レンズシフトに伴うトラッキング誤差信号の振幅劣化が小さい光ピックアップ装置を提供する。 - 特許庁 - The LED operation layer 3, further, includes a space layer 12 which extends in a direction (direction parallel to the surface direction of the LED operation layer), orthogonal to the thickness direction in the first contact layer 4, in addition to a two-dimensional diffraction grating 10A comprising a plurality of recessed parts 11A.
このＬＥＤ動作層３は、複数の凹部１１Ａからなる２次元回折格子１０Ａの他に、第１のコンタクト層４において厚み方向と直交方向（ＬＥＤ動作層の面方向と平行方向）に延在する空間層１２を有する。 - 特許庁 - The measurement device measures the position of the stage WST in the Y axis direction, by detecting the interference light of a plurality of diffraction beams of the light beam, obtained by making a return beam from the fixed scale 135 to be reflected again on the reflection surface 134.
計測装置は、固定スケール１３５からの戻りビームを、再度反射面１３４を経由させることで得られる前記光ビームの複数の回折ビームの干渉光を前記検出部で検出することで、ステージＷＳＴのＹ軸方向の位置を計測する。 - 特許庁 - A β type crystal and a γ type crystal of 4-amino-5-chloro-2-ethoxy-N-[[4-(4-fluorobenzyl)-2-morpholinyl]methyl]benzamide-citrate which are characterized by a powder x-ray diffraction pattern and/or a differential scanning calorimetric analysis thermogram, and are stable at the room temperature are disclosed.
粉末Ｘ線回折パターン及び／又は示差走査熱量分析サーモグラムで特徴付けられ、室温で安定な、４−アミノ−５−クロロ−２−エトキシ−Ｎ−［［４−（４−フルオロベンジル）−２−モルホリニル］メチル］ベンズアミド・クエン酸のβ型結晶及びγ型結晶。 - 特許庁 - A signal of DFWM (degenerate four-wave mixing) based on the two optical pulse beams P1 and P2 is radiated by the diffraction grating 71a in a direction of 2k_2-k_1 directly after the second pulse beam P_2 is made incident and switching for the DFWM signal by the optical pulse beam P_2 is performed.
２つの光パルスＰ_１、Ｐ_２に基づくＤＦＷＭの信号が、回折格子７１ａにより２ｋ_２−ｋ_１の方向に第２パルスＰ_２が入射された直後に放射され、光パルスＰ２によるＤＦＷＭ信号に関するスイッチングが行われる。 - 特許庁 - Thus, the curved surface part 6c of a plastic raw material used for the diffraction optical element 6b is sufficiently smoothly turned relative to the V-shaped surface on the side of the optical box 1 even though fine moving adjustment is performed, so that the highly accurate adjustment can be performed in a short time.
これにより、回折光学素子６ｂに用いられているプラスチック素材の曲面部６ｃは、光学箱１側のＶ字形状表面に対し、微動調整を行っても十分スムーズに回動出来、高精度な調整を担持間に行うことが可能となる。 - 特許庁 - When light is made incident from the surface of the transmission type diffraction grating where the grooves are formed and diffracted light is fetched from the surface of the base plate where the grooves are not formed, the cycle (a) of the groove is within 0.51λc to 1.48λc when the center wavelength of the wavelength region to be used is defined as λc.
この透過型回折格子の溝の形成された面から光を入射し、溝の形成されていない基板面から回折光を取り出すとき、溝の周期ａを、使用する波長域の中心波長をλcとして、０．５１λc〜１．４８λcの範囲とする。 - 特許庁 - After setting the sample, a diffracted X-ray obtained by diffracting an X-ray from an X-ray tube 1 by the sample 6 is detected to execute X-ray diffraction analysis, by moving synchronously and rotatavely the X-ray tube 1 and a detector 3 around the rotation center 5.
試料のセッティング後、Ｘ線管１と検出器３を回転中心５の回りに同期して回転駆動することによって、Ｘ線管１からのＸ線が試料６によって回折された回折Ｘ線を検出してＸ線回折分析が行われる。 - 特許庁 - To evade the lowering of measuring precision caused by a cross error in biaxial lines, simplify structure of a diffractometer, and shorten a measuring time, by omitting rotation corresponding to one axis out of biaxial rotations conducted conventionally in micro X-ray diffraction measurement.
微小部Ｘ線回折測定において従来行われていた２軸回転のうちの１軸分を省略することにより、２軸線の交差誤差に起因する測定精度の低下を回避し、装置の構造を簡単にし、さらに測定時間を短縮する。 - 特許庁 - The analyzing element comprises a plurality of films 3, 4 having at least a metal film 4 and laminated on a substrate 2, and the diffraction grating 5 which can induces the evanescent wave by irradiating with an exciting light and which is formed on a boundary surface or a surface of a front layer between the layers 2 and 3 except the film 4.
基板２上に少なくとも金属膜４を含む複数の膜３，４を積層し、励起光の照射によりエバネッセント波を誘起しうる回折格子５を金属膜４以外の層２，３間の境界面或いは表層の表面に形成する。 - 特許庁 - The recording medium has a reference data region in which the reference diffraction gratings corresponding to the three-dimensional light interference patterns of the coherent light beam modulated according to the reference data are previously stored, a sector region where the sector data are recorded and a user data region where the user data are recorded.
ホログラムシステムは、基準データ領域に格納された基準回折格子から再生された基準データと、セクタ領域から再生されたセクタデータと、データ処理部の基準メモリ内に備えた基準データとに応じて、再生データを補正し、所定データに復調する。 - 特許庁 - To provide a hologram recording method applicable to a high density optical recording medium, a three-dimensional display, a holographic optical element etc. and capable of making a high sensitivity, a high diffraction efficiency, a satisfactory storage property, a low shrinkage rate, a dry processing, and a multiplex recording property compatible with each other.
高密度光記録媒体、３次元ディスプレイ、ホログラフィック光学素子等への応用可能な高感度かつ高回折効率、良保存性、低収縮率、乾式処理、多重記録特性を両立することができるホログラム記録方法を提供する。 - 特許庁 - The exposure amounts of R, G, and B laser light emitted from a fabrication light source are so adjusted that the diffraction efficiency at R, G, and B wavelengths in an optical element is commensurate with the light intensity at the R, G, and B wavelengths in the light emitted from a reproduction light source.
光学素子におけるＲＧＢごとの回折効率が、再生用光源の出射光におけるＲＧＢごとの光強度に応じた回折効率となるように、作製用光源から出射されるＲＧＢのレーザー光の露光量を調整する。 - 特許庁 - The latent image 13b for diffraction slit is irradiated with laser beam 21 from the bottom of the transparent substrate base 10, a developer is supplied as detecting zero-order, 1st-order or 2nd-order diffracted lights and development is stopped at a point of time when light quantity ratio between diffracted lights becomes prescribed one.
透明基板素体１０の下側からレーザビーム２１を該回折スリット用潜像１３ｂに照射し、０次、１次又は２次回折光を検出しながら現像液を供給し、回折光同士の光量比が所定比となった時点で、現像を停止する。 - 特許庁 - This light scattering element 20 is provided with diffraction gratings 20R, 20G, 20B corresponding to each wavelength of the light source, and is arranged in the manner that the image forming position of the one-dimensional intermediate image corresponding to each wavelength is shifted in the direction of the arrow x corresponding to the scanning direction of a scanning optical system.
この光散乱素子20を光源の各波長に対応する回折格子20R,20G,20Bを備え、各波長に対応する１次元中間像の結像位置を、走査光学系の走査方向と対応する矢印ｘで示す方向にずらして配置する。 - 特許庁 - To provide a printed-circuit board having micro strip lines, a printed-circuit board having strip lines, and manufacturing methods of them, wherein crosstalk and diffraction phenomena generated between signal lines are reduced and the transmitting quality of high-speed digital signals is improved.
信号線間のクロストーク現象及び分散現象が低減されて、高速デジタル信号の伝送品質を向上させることができる、マイクロストリップラインを備えた印刷回路基板、ストリップラインを備えた印刷回路基板、及びそれらの製造方法を提供する。 - 特許庁 - In this manufacturing method, regions A1, A2, A3 of a diffraction optics 1 are divided successively into a circular and two annular regions in this order in the radial direction, and an eight step stair structure is manufactured in the region A1 by repeating patterning and etching processes.
回折光学素子１を領域Ａ１、Ａ２、Ａ３はそれぞれ半径方向に円形及び円環形領域に３分割し、領域Ａ１においてパターニング及びエッチングの工程を繰り返すことにより領域Ａ１に８段の階段構造を製作する。 - 特許庁 - The optical pickup device is provided with a two-wavelength semiconductor laser 11, a phase difference plate 12, diffraction gratings 13 and 13b arranged from a side of the two-wavelength semiconductor laser 11 in order, a beam splitter 14, a collimator lens 15, an objective lens 16, a sensor lens 17 and a photodetector 18.
２波長半導体レーザ１１と、位相差板１２と、２波長半導体レーザ１１側から順に配置された回折格子１３ａ，１３ｂと、ビームスプリッタ１４と、コリメータレンズ１５と、対物レンズ１６と、センサレンズ１７と、光検出器１８とを有している。 - 特許庁 - In the sample fixing method of X-ray diffraction measurement, a sample is pasted to one surface of a base having a hollow exceeding an X-ray irradiation area for irradiating the sample with X rays from a target and capturing and counting diffracted X rays from the sample.
Ｘ線回折測定における試料固定方法は、ターゲットからＸ線を試料に照射し、試料からの回折されたＸ線を捕捉して計数するために、Ｘ線照射面積を越える中空を有する土台の片面に試料を貼るものである。 - 特許庁 - The measurement area 93 of the substrate 9 is irradiated with an illumination light by a light emission part 3, and a reflected light of the illumination light from the measurement area 93 is spectrally dispersed by a diffraction grating 52 of a spectroscope 5, to acquire a measured spectral reflectance.
基板９の測定領域９３には光照射部３により照明光が照射され、測定領域９３からの照明光の反射光が分光器５の回折格子５２にて分光されることにより、測定分光反射率が取得される。 - 特許庁 - To materialize high C/N and to control the deterioration of C/N associated with regeneration in an optical-recording medium capable of reproducing a minute recording mark exceeding a diffraction limit by laminating a nonlinear optical material layer and a phase change type recording layer closely.
非線形光学材料層と相変化型記録層とを近接させて積層することにより、回折限界を超える微小記録マークの再生が可能な光記録媒体において、高Ｃ／Ｎを実現すると共に、再生に伴うＣ／Ｎ低下を抑えることである。 - 特許庁 - A laser beam, among laser beams emitted from a semiconductor laser element 1, which passes through a coupling lens 2 is divided into a plurality of different optical beams with a diffraction grating arranged in the middle part of a compound element 17 and forms three beam spots on an information recording medium.
半導体レーザ素子１から出射されたレーザ光のうち、カップリングレンズ２を透過したレーザ光は、複合素子１７の中央部に配置された回折格子により複数の異なる光に分離されて情報記録媒体上に３つのビームスポットを形成する。 - 特許庁 - This illumination optical system is provided with a light source 1 emitting white light, a diffraction type lens 3 condensing the luminous flux of the white light, and plural shielding plates 6 arranged to be switchable to an image point side from the lens 3 and provided with an aperture 6a, respectively.
照明光学系は、白色光を射出する光源１と、白色光の光束を集光する回折型レンズ３と、回折型レンズ３より像点側に切り換え可能に配置された夫々開口６ａを有する複数の遮蔽板６とを有している。 - 特許庁 - To provide a hologram recording material capable of achieving all of the high sensitivity applicable to a high density optical recording medium, three-dimensional display, holographic optical element, etc., and high diffraction efficiency, satisfactory storage property, low shrinkage rate, dry processing and multiplex recording characteristics (high recording density).
高密度光記録媒体、３次元ディスプレイ、ホログラフィック光学素子等への応用可能な高感度かつ高回折効率、良保存性、低収縮率、乾式処理、多重記録特性（高記録密度）を両立することができるホログラム記録材料を提供する。 - 特許庁 - The part of the light of the specific wavelength is selectively reflected by this diffraction grating part 40, returned to the optical amplifying medium 103 of each optical amplifier 10n through an optical path reverse to an optical path so far, and reflected by the reflecting surface 211 of the optical amplifier 10_n.
そのうち特定波長の光の一部は、この回折格子部４０により選択的に反射され、これまでと逆の光路を辿って、各光増幅部１０_ｎの光増幅媒体１０３に帰還し、光増幅部１０_ｎの反射面２１１で反射される。 - 特許庁 - The composite particle is manufactured by aggregating calcium carbonate fine particles and titanium oxide fine particles by using a cationic polymer or an amphoteric polymer so as to have 50% volume average particle diameter of 0.5-5 μm measured by a laser diffraction/scattering method, and is added into pulp slurry as the filler.
炭酸カルシウム微粒子と酸化チタン微粒子をカチオン性ポリマーまたは両性ポリマーを使用してレーザー回折／散乱法による５０％体積平均粒子径が０．５〜５ミクロンに凝集処理した複合粒子を製造し、パルプスラリーに填料として内添する。 - 特許庁 - Incidentally, the luminous flux radiating means 1 is composed of a laser 11 that radiates one luminous flux, a diffraction plate 12 that splits one luminous flux into a plurality of luminous fluxes, and a collimator lens 13 that makes the plurality of luminous flux parallel to the optical axis of the laser 11.
なお、光束放射手段１は、１本の光束を放射するレーザ１１と、１本の光束を複数本の光束に分離する回折板１２と、複数本の光束をレーザ１１の光軸に対して平行とするコリメートレンズ１３とにより構成される。 - 特許庁 - The metal partitioning material for the image display unit is the Fe-Ni alloy or the Fe-Ni-Cr alloy including, by wt.% 38-52% Ni, and the residual stress is controlled to 0.2-0.7 degrees by half-width of a X-ray diffraction peak for the face (311).
重量％でＮｉを３８〜５２％含むＦｅ−Ｎｉ系合金またはＦｅ−Ｎｉ−Ｃｒ系合金であって、残留応力が（３１１）面Ｘ線回折ピークの半価幅で０．２〜０．７度に制御した画像表示装置用金属隔壁材とする。 - 特許庁 - The optical signal processor 1 has an incident end at an end face position of an optical fiber 91 and an emitting end at an end face position of an optical fiber 92, and light beams inputted into the incident end are processed by the diffraction grating element 20 and outputted from the emitting end.
光信号処理器１は、光ファイバ９１の端面位置に入射端を有し、光ファイバ９２の端面位置に出射端を有しており、入射端に入力した光を回折格子素子２０により処理して出射端から出力する。 - 特許庁 - Positions 10A, 10B of incidence of a plurality of beams onto a scale 10 or points of diffraction on a scale grating 12B are separated from the diameters of the beams on the scale grating, and the angle of incidence θof each beam onto the scale and the angle of emission ϕ of diffracted light are made approximately equal.
複数の光線のスケール１０への入射位置１０Ａ、１０Ｂ又はスケール格子１２Ｂ上の回折点を、スケール格子上での光線径より離すと共に、各光線のスケールへの入射角度θと回折光の出射角度φをほぼ同一とする。 - 特許庁 - A crystal sample holder which is set on a sample stage of an X-ray diffraction system, is provided with a holder main body 2; a plurality of sample mount sections 3 formed on the holder main body 2; and a sample rotating mechanism which rotates each sample mount section 3 along a prescribed direction.
Ｘ線回折装置の試料ステージに装着される結晶試料ホルダであって、ホルダ本体２と、このホルダ本体２に設けられた複数の試料マウント部３と、各試料マウント部３を所定の方向に回転させる試料回転機構とを備える。 - 特許庁 - The manganese dioxide in which a content molar ratio (H_2O/MnO_2) of a structural water is larger than 0.20 and a ratio of peak strength for (110)/(021) of X-ray diffraction is 0.50-0.80 can stably exhibits an alkaline electric potential of 350-400 mV.
構造水の含有モル比（Ｈ_２Ｏ／ＭｎＯ_２）が０．２０より大きく、Ｘ線回折の（１１０）／（０２１）のピーク強度比が０．５０以上０．８０以下の二酸化マンガンは、アルカリ電位が３５０ｍＶ以上４００ｍＶ以下を安定的に発揮することができる。 - 特許庁 - The control part 30 specifies a virtual shielding surface by the peripheral vehicle 300 based on the shape information, an inter-vehicle distance, the virtual straight line or the like of the peripheral vehicle 300, and calculates a diffraction angle θ of the radio wave based on the virtual shielding surface, the virtual straight line or the like.
制御部３０は、周辺車両３００の形状情報、車間距離、仮想直線などに基づいて周辺車両３００による仮想遮蔽面を特定し、仮想遮蔽面と仮想直線などに基づいて電波の回折角度θを算出する。 - 特許庁 - An insulating layer (12) is formed between the electrode (6) for controlling reflection and the clad layer (5) while an electronic density or a Hall density of the area of diffraction grid is controlled electrostatically by a voltage impressed on the electrode (6) for controlling reflection to change the wave length of oscillation.
その反射制御用電極(６)とクラッド層(５)との間に絶縁層(１２)を形成し、その反射制御用電極(６)に印加した電圧によって、回折格子領域の電子濃度またはホール濃度を静電的に制御して発振波長を変える。 - 特許庁 - The magnetic material has an X-ray diffraction peak corresponding to the crystal structure of ε-Fe_2O_3 and is composed of a crystal of ε-Ga_xFe_2-xO_3, formed by replacing a part of Ga^3+ ion site in the ε-Fe_2O_3 crystal with Ga^3+ ion, wherein 0<X<1.
ε−Ｆｅ_2Ｏ_3の結晶構造に対応するＸ線回折ピークを有し、ε−Ｆｅ_2Ｏ_3結晶のＧａ^3+イオンサイトの一部がＧａ^3+イオンで置換されたε−Ｇａ_xＦｅ_2-xＯ_3〔ただし０＜Ｘ＜１である〕の結晶からなる磁性材料である。 - 特許庁 - To provide a structural analysis method of a crystal for easily deciding whether the spread shape of a peak to be measured is determined, by reflecting the nonuniform distribution of the composition in the crystal, when evaluating the structure of the crystal by X-ray diffraction.
Ｘ線回折により結晶構造評価を行う際、測定されるピークの拡がり形状が、結晶中の組成が不均一に分布していることを反映して決まっているか否かを、簡便に判定できる、結晶の構造解析方法を提供する。 - 特許庁
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