「light pattern」を含む例文一覧(7056)
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投影部は、測定対象物に対して一定照度のパターン光を照射する。 - 特許庁 - A photodetector array detects the line pattern light reflected by the object to be measured.
受光素子アレイが、被測定物体より反射されたラインパターン光を検出する。 - 特許庁 - When a registration control pattern 38 is formed with toner that has high reflectivity, diffusion reflection light from the registration control pattern 38 is detected by a photo-sensor 46 used for diffusion reflection light detection.
反射率の高い色のトナーで形成されたレジコンパターン３８の場合、レジコンパターン３８の拡散反射光を拡散反射光検出用フォトセンサ４６で検出する。 - 特許庁 - The light guiding plate 2 for guiding light of LED 1 to a lighting part 3 provided to correspond to keys is commonly used for forming the key pattern circuit pattern 5.
すなわち、ＬＥＤ１の光を、キー対応に設けられた照明部３へ導くための導光板２を、キー回路パターン５の形成のためにも兼用して用いる。 - 特許庁 - The hologram recording medium is irradiated with a signal light with a phase modulation pattern according to recording data and a reference light with a predetermined phase modulation pattern.
記録データに応じた位相変調パターンを与えた信号光と、所定の位相変調パターンを与えた参照光とをホログラム記録媒体に対して照射する。 - 特許庁 - A mask shown in (b) is formed with a pattern transmitting the maximum quantity of light in the boundary portion, and is formed with a pattern not transmitting light in the other portion.
（ｂ）に示されたマスクは、境界部分には、光を最大量透過させるパターンが、その他の部分には光を透過させないパターンが形成されたマスクである。 - 特許庁 - The pattern 14a of the upper-layer light shield film is made of titanium or metal containing titanium, and the pattern 13a of the lower-layer light shield film is made of iron or metal containing iron.
上層遮光膜のパターン１４ａは、チタン又はチタンを含む金属で構成され、下層遮光膜のパターン１３ａは、鉄又は鉄を含む金属で構成される。 - 特許庁 - Then the photomask is moved so that the light quantity at the central pattern position may become zero.
中心のパターン位置からの光量が０となるようにフォトマスクを移動する。 - 特許庁 - Accordingly, without having to change the line width of the stripe part S1 of each light-shielding pattern, energy quantity contributing resist resolution in each light-shielding pattern can be balanced.
これにより、各遮光パターンのストライプ部Ｓ１の線幅を変えることなく、各遮光パターンにおけるレジスト解像に寄与するエネルギー量をバランスさせることができる。 - 特許庁 - The first light source shape is such a light source shape that optimizes processing tolerance for forming an on-substrate pattern adapted to the at least two pattern layouts.
また、第１の光源形状は、前記少なくとも２つのパターンレイアウトに応じた基板上パターンを形成する際のプロセス裕度が最適化される光源形状である。 - 特許庁 - To provide a light irradiation structure for making it possible to accurately read a vein pattern even with a relatively small light quantity in an authentication device utilizing the vein pattern.
静脈パターンを利用した認証装置において、比較的少ない光量でも静脈パターンの正確な読み取りを可能とする光照射構造を提供する。 - 特許庁 - To add variety to the size of a pattern and enable the size and the depth of the pattern to be diversified, thereby to increase a light diffusing effect while evenly maintaining the brightness of light.
パターンのサイズを多様に変化し、パターンのサイズ及び深さを多様化することができ、光の輝度を均一に保持しながらも光の拡散効果を増大させる。 - 特許庁 - As a result, a light distribution pattern suited for a given lamp function can be obtained.
この結果、この発明は、所定のランプ機能に適した配光パターンが得られる。 - 特許庁 - At this time, the magnetic substances in the coating film 17 reflect light to form the pattern.
このとき、塗膜１７中の磁性体に光が反射し、模様が形成される。 - 特許庁 - SYSTEM AND METHOD FOR THREE DIMENSIONAL MAPPING, AND STRUCTURED LIGHT BARCODE PATTERN USED FOR THEM
３次元マッピングシステムと方法、および、これに使用される構造光バーコード・パターン - 特許庁 - In the inspection device of the pattern flaw, the circuit pattern on the wafer 1 is linearly illuminated with the light, which is emitted from an illumination light source 3 capable of outputting a plurality of wavelengths by an illumination optical system 4.
パターン欠陥検査装置において、複数の波長を出力可能な照明光源３から射出された光を、照明光学系４で線状に照明する。 - 特許庁 - The parallactic picture pattern light beam 72 for the right eye enters the right eye 10 of the observer through the mirror 30, the parallactic picture pattern light beam 73 enters the left eye 11, so that a stereoscopic picture can be viewed.
ミラー３０を経て観察者の右眼１０には右眼用視差像パタン光７２、左眼１１には左眼用視差像パタン光７３が入り、立体像が見られる。 - 特許庁 - To provide a prescribed light distribution pattern for a low beam and a prescribed light distribution pattern for travelling.
簡単な発光部の設計やリフレクタの光学設計で、所定のすれ違い用の配光パターンと所定の走行用の配光パターンとが確実に得られることを目的とする。 - 特許庁 - A display part 19 performing light emission display comprises an assembly of a first deflection pattern 32a and a second deflection pattern 32b provided on the lower surface of a light guide plate 16.
発光表示する表示部１９は、導光板１６の下面に設けた第１の偏向パターン３２ａと第２の偏向パターン３２ｂの集合によって構成される。 - 特許庁 - THIN-FILM PATTERN FORMING METHOD, THIN FILM, LIGHT-EMITTING DEVICE, IMAGE DISPLAY DEVICE, AND ELECTRONIC EQUIPMENT
薄膜パターン形成方法、薄膜、発光素子、画像表示装置、および、電子機器 - 特許庁 - A first exposure is carried out by aligning the first light shielding pattern to a predetermined position, and a second exposure is carried out by aligning the second light-shielding pattern to a predetermined position.
第一遮光パターンを所定の位置に位置合わせして第一露光を行い、第二遮光パターンを前記所定の位置に位置合わせして第二露光を行うこと。 - 特許庁 - To improve precision of a pattern that is obtained after development of a photosensitive material when exposing a pattern in which the area of a light-shielded part is larger than that of a light-transmissible part.
遮光部の面積が光透過部の面積よりも大きいパターンを露光するような場合に、感光材料の現像後に得られるパターンの精度を向上する。 - 特許庁 - After this, light beams scattered from the first resist pattern are generated and collected.
その後、第１のレジストパターンからの散乱光線の生成および収集を行う。 - 特許庁 - To provide a projector type headlight can prevent dazzle to an opposite lane and form an auxiliary light distribution pattern at a suitable height against a main light distribution pattern.
対向車線での眩惑を防止しつつ主配光パターンに対する適切な高さ位置に補助配光パターンを形成することができるプロジェクタ型ヘッドランプを提供する。 - 特許庁 - The V-shaped projections 11a or V-shaped recessed grooves are formed in a circular pattern concentrically about the light source 15 or in a radiation pattern about the light source 15.
Ｖ字形突起１１ａ又はＶ字形凹溝は光源１５を中心に同心円のサークル状の模様に、又は光源１５を中心に放射目状の模様に形成する。 - 特許庁 - If the light absorbing layer is in a desired pattern, a deposition reflecting the pattern of the light absorbing layer on which laser beams are irradiated is conducted on the second substrate.
光吸収層が所望のパターン形状であれば、レーザ光が照射された光吸収層のパターン形状を反映した成膜が第２の基板に行われる。 - 特許庁 - A blinking pattern generation part 16 generates the blinking pattern, corresponding to the corresponding kind of the E-mail to make respective light-emitting elements A to C of a light- emitting element part 5 blink.
点滅パタン発生部１６は検索されたＥメールの種別に対応する点滅パタンを発生して発光素子部５の各発光素子Ａ〜Ｃを点滅させる。 - 特許庁 - OPTICAL SYSTEM FOR CONDENSING LIGHT IN SQUARE PATTERN AND UV RAY IRRADIATION APPARATUS FOR LIQUID CRYSTAL PANEL
角形状集光用光学系および液晶パネル用紫外線照射装置 - 特許庁 - NITRIDE SEMICONDUCTOR LIGHT-EMITTING ELEMENT INCLUDING PATTERN FORMING SUBSTRATE, AND ITS MANUFACTURING METHOD
パターン形成基板を具備した窒化物半導体発光素子及びその製造方法 - 特許庁 - For example, if malfunction is caused in the shade driving actuator, the light distribution pattern is preferentially shifted to a light distribution pattern giving no glare to a front vehicle and a front passenger.
例えば、シェード駆動アクチュエータに不具合が生じた場合に前方車両や前方歩行車にグレアを与えないような配光パターンに優先的に移行させる。 - 特許庁 - To enhance the contrast of a resist and to improve pattern accuracy, in a pattern forming method, using excimer laser light that has a wavelength of ≤200 nm for the exposure light.
波長２００ｎｍ以下のエキシマレーザー光を露光光として用いたパターンの形成方法において、レジストのコントラストを向上させて、パターン精度を改善する。 - 特許庁 - Exposures are carried out by using a photomask having a metal light shade pattern or a photomask having a resist film light shade pattern, depending on the number of exposures with the photomasks.
フォトマスクの露光処理数に応じて、メタルからなる遮光パターンを有するフォトマスクと、レジスト膜からなる遮光パターンを有するフォトマスクとで使い分けて露光処理を行う。 - 特許庁 - (a) A first photomask having a light shielding pattern which defines the letter string A and a second photomask having a light shielding pattern which defines letters used in the letter string B are prepared.
（ａ）文字列Ａを規定する遮光パターンを有する第１フォトマスクと、文字列Ｂに用いられる文字を規定する遮光パターンを有する第２フォトマスクを用意する。 - 特許庁 - The amount of sticking toner of the test pattern 2 is detected from a value of the reflected light.
さらに、この反射光の値から、テストパターン２のトナー付着量を検出する。 - 特許庁 - Regions on the negative resist shot with the exposing light are left as a resist pattern.
ネガレジストでは、露光光が照射された領域がレジストパターンとして残される。 - 特許庁 - A wiring pattern 25 for positive electrode and a wiring pattern 26 for negative electrode of a light emitting module 21 are made principally of Ag, and are provided on a module substrate 22 as light reflecting surfaces.
発光モジュール２１の正極用の配線パターン２５と負極用の配線パターン２６は銀を主成分とし、これらをモジュール基板２２上に設け光反射面とする。 - 特許庁 - To eliminate a burning pattern due to deterioration of a spontaneous light emitting element such as an organic EL element.
有機ＥＬなどの自発光素子の劣化による焼付きパターンを解消する。 - 特許庁 - A display panel section 2, in which a phosphorescent material contained in a prescribed pattern section and the pattern section afterglows, by being irradiated with at least one of visible light or ultra-violet light, is provided.
所定のパターン部分に蓄光体を含み、可視光及び紫外光の少なくとも一方の照射によりパターン部分が蓄光する表示パネル部２を設ける。 - 特許庁 - The light condensing system includes a back light system equipped with a light source and a primary light condensing part (X) capable of condensing the light emitted from the light source within the extent of ±60° in the front direction and a light condensing film having no pattern structure as a secondary light condensing element (Y).
光源および光源からの出射光を、正面方向に対して、±６０°以内に集光することができる一次集光部（Ｘ）を有するバックライトシステム、ならびに、パターン構造を有さない集光フィルムを二次集光素子（Ｙ）として含有することを特徴とする集光システム。 - 特許庁 - To provide a front light capable of suppressing loss light caused in that light transmitted to a light guide plate penetrates to outside due to a deflection pattern, increasing light emitted from a light emitting surface, and suppressing noise light emitted from the light guide plate directly to observer's eyes.
導光板を伝搬する光が偏向パターンから外部へ透過することによって生じる損失光を抑制して、光出射面からの出射光量を増加させ、導光板から観察者の目の方向に直接出射されるノイズ光を抑制することができるフロントライトを提供する。 - 特許庁 - The main lens 5 has a focal point FL located at a light-emitting body 10 of the semiconductor light source 2 and has direct light L1 from the light-emitting body 10 of the semiconductor light source 2 emitted as a light distribution pattern spread to right and left.
主レンズ５は、焦点ＦＬが半導体型光源２の発光体１０に位置し、半導体型光源２の発光体１０からの直射光Ｌ１を左右に拡げた配光パターンとして出射させるレンズである。 - 特許庁 - The device is equipped with a light source which outputs laser light, an information light irradiating unit which irradiates a medium with information light, and a reference light irradiating unit which irradiates the medium with reference light to form a specified speckle pattern thereon.
レーザ光を出力する１つの光源と、情報光を媒体に照射する情報光照射部と、特定のスペックルパターンが媒体に形成されるように、参照光を照射する参照光照射部とを備える。 - 特許庁 - A first pattern P1 and a second pattern P2 are printed so that paper 20 is irradiated with light and are observed at the same time.
用紙２０に光を照射して同時に観測を行うための第１のパターンＰ１と第２のパターンＰ２を印刷する。 - 特許庁 - Alternatively, a photomask includes an auxiliary pattern at a corner portion of a light-blocking portion, and the auxiliary pattern is formed by a zigzag curved line.
または、遮光部の角部に補助パターンを有し、当該補助パターンはジグザグ状の曲線で構成されるフォトマスクである。 - 特許庁 - The circumference of the chip pattern 11 is peripherally provided with a peripheral aperture ratio regulation pattern 14 opened in the prescribed part of a light shielding film.
チップパターン１１の周囲に、遮光膜の所定部位が開口されてなる周辺開口率調整パターン１４を周設した。 - 特許庁 - METHOD FOR FORMING IMAGE PATTERN AND IMAGE PATTERN AND SEMICONDUCTOR DEVICE, ELECTRIC CIRCUIT, DISPLAY MODULE, COLOR FILTER, AND LIGHT EMITTING ELEMENT
画像パターン形成方法および画像パターン並びに半導体デバイス、電気回路、表示体モジュール、カラーフィルタおよび発光素子 - 特許庁 - A pattern illumination source irradiates a surface to be inspected of a board with light from an oblique direction to form an inspection pattern on the surface to be inspected.
パターン照明源は、基板の被検査面に斜め方向から光を照射して被検査面に検査パターンを形成させる。 - 特許庁 - A first reticle pattern RP1 for position detection and a second reticle pattern RP2 for monitoring light quantity change are arranged on a reticle R.
レチクルＲ上に位置検出用の第１レチクルパターンＲＰ１と光量変化監視用の第２レチクルパターンＲＰ２を設ける。 - 特許庁 - In the random pattern layer 12, a random phase pattern such as a transmission grating for random phase modulation of light waves is recorded.
ランダムパターン層１２には、光波をランダムに位相変調するための例えば透過型格子のランダム位相パターンが記録されている。 - 特許庁 - Therefore, the deformation of a photoresist pattern by reflected light rays from the reflecting pattern can be minimized in a photoetching process.
これにより、写真蝕刻工程時反射性パターンから反射された反射光によるフォトレジストパターンの変形が最小化される。 - 特許庁
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