「light pattern」を含む例文一覧(7056)
＜前へ 1 2 .... 13 14 15 16 17 18 19 20 21 .... 141 142 次へ＞- A controller 170 controls the optical pattern controller 115 or a light source 110 to decide an optical pattern on the collimator 140.
コントローラ１７０は、光パターンコントローラ１１５或いは光源１１０を制御し、コリメータ１４０上の光パターンを決定する。 - 特許庁 - The pattern projection lens of a light emitting device is positioned such that a projection pattern is obtained depending on the focal distance (Step 103).
焦点距離に応じて投影パタ−ンが得られるように発光装置のパタ−ン投影レンズの位置を定める（ステップ１０３）。 - 特許庁 - The flickering pattern is then extracted from the two-dimensional light receiving image data, and the additional data are reproduced from the flickering pattern and displayed.
そして、この二次元受光画像データから点滅パターンを抽出し、この点滅パターンから追加データを再生して表示する。 - 特許庁 - To form a light distribution pattern in which switching of the distribution pattern is made possible and which has a clear cut line while achieving downsizing.
小型化を図った上で配光パターンの切替を可能とすると共に鮮明なカットラインを有する配光パターンを形成する。 - 特許庁 - Next, a circuit pattern and an absorption film other than the area are selectively removed to form a circuit pattern and a light-shielding frame area.
次に、回路パターンとその領域外の吸収膜を選択的に除去して回路パターンと遮光枠領域を形成する。 - 特許庁 - The scale (1) is provided with a lattice striped pattern which forms the matrix of marks (12) used to give the pattern of light to a diffraction grating (2).
目盛（１）は、回折格子（２）に光のパターンを与えるためのマーク（１２）のマトリックスを形成する格子縞パターンを有している。 - 特許庁 - As a result, by its soft etching operation, diffuse reflection is reduced when the pattern 2 is irradiated with light, and the luminance of the pattern 2 is increased.
このためソフトエッチングにより，パターン部２に光を照射したときの乱反射が減少し，パターン部２での輝度が高くなる。 - 特許庁 - A connection pattern for the flexible printed board is installed and the pattern is arranged on a substrate face opposite to the light emitting/receiving unit mounting part.
フレキシブルプリント基板に対する接続パターンを備え、該パターンを、受発光ユニット実装部とは反対の基板面に設ける。 - 特許庁 - The LED 18 emits the light so as to decorate the device with a color and a pattern of the emitted light.
またＬＥＤ１８が光を発するので、その発光色や発光パターン等によって装飾を行うことが可能になる。 - 特許庁 - A light receiving section 141 receives an optical signal emitted from a transmission apparatus for emitting light in a prescribed blinking pattern.
受光部１４１は、所定の点滅パターンで発光する送信装置により発光される光の信号を受光する。 - 特許庁 - A badge 15 emits light from a light emission surface of prescribed length, also with a prescribed pattern and with luminance changing together with the elapse of time.
バッジ１５は、所定の長さの発光面、および所定のパターンで、時間経過とともに変化する輝度で発光する。 - 特許庁 - Namely, the overhead light distribution pattern is formed by light transmitting through the plurality of fine holes of the shade.
すなわち、シェードに形成された複数の微細な穴を透過した光によってオーバーヘッド用配光パターンを形成する。 - 特許庁 - The device includes a light source, a current controller coupled to the light source, a sensor and a pattern detection engine.
本発明による装置は、光源、この光源に接続された電流コントローラ、センサ、及びパターン検出エンジンを備えている。 - 特許庁 - To provide optical lens structure which, in association with a light emitting source, provides a better side-emitting light-radiation pattern.
発光源と関連して、より良好な側面発光光放射パターンを提供できる光学レンズ構造を提供する。 - 特許庁 - To provide a vehicular headlight system that forms a desired beam pattern with light emitted from a semiconductor light source.
所望のビームパターンを半導体光源によって放出された光で形成する車両用ヘッドライトシステムを提供する。 - 特許庁 - RUGGED PATTERN FORMATION SHEET, LIGHT DIFFUSING BODY, PROCESS SHEET ORIGINAL PLATE FOR MANUFACTURING THE LIGHT DIFFUSING BODY, AND METHOD FOR MANUFACTURING THEM
凹凸パターン形成シート、光拡散体および光拡散体製造用工程シート原版およびそれらの製造方法 - 特許庁 - To provide an EL light-emitting device capable of arbitrarily setting a light-emitting display pattern according to a user's preference and application or the like.
発光表示のパターンをユーザーの好みや用途等に応じて任意に設定できるＥＬ発光装置を提供する。 - 特許庁 - A third reflective surface 13 forms a focusing light distribution pattern SP containing the high luminous light distribution patter HP.
第３反射面１３は、高光度用配光パターンＨＰを包含する集光用配光パターンＳＰを形成する。 - 特許庁 - The reflector 50 is arranged between the point light source 10 and has a pattern to diffuse the remaining light formed.
反射板５０は点光源１０の下に配置され、反射板５０には残りの光を拡散させるパターンが形成される。 - 特許庁 - To provide a photo mask which allows an isolated pattern hole to sufficiently receive light so as to make up for the insufficiency of the light, and to provide a method for fabricating the photo mask.
孤立したパターンホールの受光不足を補うことができるフォトマスク及びその製造方法を提供する。 - 特許庁 - Therefore, a light reflection pattern of the transparent substrate is made to good precision and scattering and loss of light are not caused.
このため、透明基板の光反射パターンは、良好な精度のものとなり、光の散乱や損失を招くことがない。 - 特許庁 - The light irradiation part 131 emits light of wavelength having transmissivity to a thin film pattern of the web 9.
光照射部１３１からは、ウエブ９の薄膜パターンに対して透過性を有する波長の光が出射される。 - 特許庁 - A plate light guide body 2 is formed with a light reflection pattern 29 comprising a stepped prism on its upper surface 15.
板状導光体２の上面１５に、階段状プリズムから構成される光反射パターン２９を形成する。 - 特許庁 - A light shielding pattern comprising a resist film formed in the integrated circuit pattern region of a mask with a light shielding pattern comprising a metal formed in the peripheral region is removed and a new light shielding pattern comprising a resist film is formed again in the integrated circuit pattern region of the mask to regenerate the mask.
また、周辺領域にメタルからなる遮光パターンが形成されたマスクの集積回路パターン領域に形成されたレジスト膜からなる遮光パターンを剥離した後、再度、その周辺領域にメタルからなる遮光パターンが形成されたマスクの集積回路パターン領域にレジスト膜からなる新たな遮光パターンを形成することでマスクを再生するものである。 - 特許庁 - When detecting a state where the pattern projecting device is mounted on the camera, a mode where photographing having projected pattern light and photographing which does not have projected pattern light can be conducted continuously is provided, and when photographing is not made to have projected pattern light, the pattern projecting means is retreated from a stroboscopic emission optical path, and the stroboscopic emission for normal photographing can be conducted.
更に、パターン投影装置のカメラへの装着を検出した場合は、パターン光を投影した撮影と、パターン光を投影させない撮影を連続して行うモードを備えるものとし、パターンを投影させない撮影の際は、パターン投影手段がストロボ発光光路から退避して、通常撮影のストロボ発光を行えるものとした。 - 特許庁 - A hologram prepared by being exposed to record a pattern which regulates the exiting direction and range of diffracted light and a pattern which constitutes a decorative image different from the above pattern is used for the reflector.
回折光の出射方向・範囲を規定するパターンと、前記パターンとは異なる装飾画像を構成するパターンとが露光記録されたホログラムを採用する。 - 特許庁 - The pattern forming device performs the pattern formation by simultaneously irradiating the pattern with a plurality of beams of varying intensity through a plurality of channel light valves, a plurality of irradiation heads, etc.
パターン形成装置は、複数チャンネルライトバルブ、複数の照射ヘッド等を介して、異なる強度の複数のビームを同時に照射することによりパターン形成を行う。 - 特許庁 - Reflected light from an irregular circuit pattern edge such as a logic pattern is eliminated with a simple spatial filter, thus making it possible to detect a defect on the circuit pattern with high precision.
ロジックパターンのように不規則な回路パターンエッジからの反射光を簡易な空間フィルタで除去し、回路パターン上の欠陥を高精度に検出することが可能になる。 - 特許庁 - A processor processes the detected light to calculate pattern color values for color components of the color pattern, and compares the pattern color values with the authentic ink color values.
プロセッサが、その検出された光を処理して、前記カラーパターンの色成分ごとのパターン色彩値を計算し、そのパターン色彩値を前記純正インク色彩値と比較する。 - 特許庁 - To provide a pattern forming board and a pattern forming method which offer a precision inspect pattern useful to an inspection device with a broader scope of inspection, such as a defect inspection device using an ultraviolet light source or an ultraviolet laser light source.
紫外光源または紫外レーザ光源を用いた欠陥検査装置のように視野が広い検査装置の精度点検パタンとして使用可能なパタン形成基板およびパタン形成方法を提供する。 - 特許庁 - Data of the pattern for determination stored in a pattern data storage part 301 includes data in which light deflection surfaces 43, to which a light beam LB is radiated in formation of an electrostatic latent image of each thin-width pattern, are the same.
パターンデータ記憶部３０１に記憶されている判定用パターンのデータは、各細幅パターンの静電潜像の形成において光ビームＬＢを照射する光偏向面４３が同じとなるデータを含む。 - 特許庁 - Then, the aluminum film 41 is dissolved with a diluted nitric acid to simultaneously remove the burnt resist pattern 43 and the light-shielding film 27 on the resist pattern 43, whereby a pattern of the light-shielding film 27 having openings 28 is formed.
そして、アルミ膜４１を希硝酸で溶解させることにより、焦げ付いたレジストパターン４３とレジストパターン４３上の遮光膜２７を同時に除去し、開口２８を有する遮光膜２７のパターンを形成する。 - 特許庁 - The second light source shape is such a light source shape that optimizes processing tolerance for forming an on-substrate pattern adapted to a pattern layout formed on the semiconductor device and adapted to at least the two pattern layouts.
第２の光源形状は、前記半導体装置に形成するパターンレイアウトおよび前記少なくとも２つのパターンレイアウトに応じた基板上パターンを形成する際のプロセス裕度が最適化される光源形状である。 - 特許庁 - A CPU 32 makes LEDs 37a-39a which emit light and are held by microphones 37-39 which collect sound emit light in a specific light emission pattern.
CPU３２は、音声を集音するマイクロホン３７乃至３９が有する、光を発光するLED３７a乃至３９aを、特定の発光パターンで発光させる。 - 特許庁 - To detect failure in a spatial light modulator modulating a light beam in an early stage, upon drawing a pattern on a substrate by scanning the substrate with a light beam.
光ビームにより基板を走査して、基板にパターンを描画する際、光ビームを変調する空間的光変調器の不具合を早期に検出する。 - 特許庁 - The light-distribution pattern P2 for an overhead sign is obtained by reflecting the light L2 of the semiconductor type light source 7 with s second reflection surface 9.
また、半導体型光源７からの光Ｌ２を第２反射面９で反射させることにより、オーバーヘッドサイン用の配光パターンＰ２が得られる。 - 特許庁 - Accordingly, colored light, for example, blue light in the vicinity of the cut-off lines CL1, CL2, CL3 of the low beam light distribution pattern P can be extinguished.
このために、すれ違い用の配光パターンＰのカットオフラインＣＬ１、ＣＬ２、ＣＬ３付近の着色光たとえば青色光を消すことができる。 - 特許庁 - To improve light collection efficiency of a solid-state imaging device using a microlens to focus light onto a light-receiving region with the wiring pattern of the solid-state imaging device.
マイクロレンズによって受光領域への集光を行う固体撮像素子において、配線形状により、集光効率を向上させる。 - 特許庁 - The imaging apparatus emits light from the auxiliary light source for imaging, according to the light emitting pattern, and obtains a photographic image and information on blur at the time of imaging.
そして、該発光パターンに従って補助光源を発光させて撮影を行い、その撮影画像および該撮影時のぶれ情報を取得する。 - 特許庁 - Rays of light from three light spots are projected toward an object with a light projecting pattern shown by a figure 11(b) by using a lens divided into three regions.
３つに領域分割されたレンズを用いて３つの光点からの光を被写体に向けて図１１（ｂ）に示す投光パターンで投光する。 - 特許庁 - The lighting system includes a two-color LED 16 (a first light source and a second light source), a pattern sheet 18 (a light-shielding layer), and a lighting control part 55 (lighting control means).
照明装置は、２色LED１６（第１光源、第２光源）と、模様シート１８（遮光層）と、点灯制御部５５（点灯制御手段）とを備えている。 - 特許庁 - To provide a V-shaped groove pattern for a light guide plate body and a forming method thereof to allow an entire surface light emitting body to emit light with uniform illuminance.
面状発光体全体を均等な照度で発光させるために、導光板体のＶ字溝紋様のパターンとその形成方法を提供する。 - 特許庁 - Consequently, by making an object light 208 with a specified wavelength irradiate the spatial light modulator, light with a pattern corresponding to inputted information is transmitted and is recorded.
したがって所定の波長の物体光２０８を照射することで入力情報に応じたパターンの光を透過し、その記録が可能になる。 - 特許庁 - Moreover, light emission brightness is improved by including phosphor in the dot pattern, and various light is emitted according to necessity by changing a light emitting wavelength.
また、ドットパターンに蛍光体を含むようにして発光輝度を高め、発光波長を変化させることで必要に応じて多様な色を発光させる。 - 特許庁 - A controller 104 detects a specific light emission pattern from a specific light source from inside an image and performs focus control so that the detected light source is in focus.
制御装置１０４は、画像内から特定の光源の特定の発光パターンを検出し、検出した光源に合焦するように合焦制御を行う。 - 特許庁 - A light intensity correcting plate 15 is disposed between the halogen lamp 11 and the stripe-type plate 13, thereby uniformizing the light pattern in light intensity.
ハロゲンランプ１１と縞状板１３との間に、光強度補正板１５が設けられ、これにより、光パターンの光強度の均質化が図られている。 - 特許庁 - To more accurately evaluate an effect of laser light source over the exposure pattern of spectrum of laser beam or imaging performance, when the laser light source is used as a source of exposure light.
レーザ光源を露光光源とする場合に、レーザ光のスペクトルの状態の露光パターン又は結像性能に対する影響をより正確に評価する。 - 特許庁 - Cumulative light exposure per a mask that uses organic photosensitive resin for the light-shielding film is recorded, and the light exposure for pattern transfer is corrected, based on the cumulative exposures.
有機感光性樹脂を遮光膜とするマスク１枚当たりの積算露光量を記録し、その量に応じてパターン転写時の露光量に補正を施す。 - 特許庁 - A light guide plate 11 is provided with a prism piece 15 for deflecting light included in a top surface 12 and a grain pattern for diffusing light included in a bottom surface 13.
導光板１１は、光を屈折させるプリズム片１５を天面１２に含ませるとともに、光を拡散させるシボパターンを底面１３に含ませている。 - 特許庁 - Intensity modulation is applied to short pulse light by a bit sequence pattern (distribution data) before the short pulse light is made incident onto a nonlinear medium, and the intensity modulated light is made incident onto the nonlinear medium.
短パルス光を非線形媒質に入射する前に、ビット列パターン（配信データ）により強度変調してから、非線形媒質に入射する。 - 特許庁
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