「light pattern」を含む例文一覧(7056)
＜前へ 1 2 .... 40 41 42 43 44 45 46 47 48 .... 141 142 次へ＞- Next, the orientation direction of the nanowires is controlled so as to be along in a longitudinal direction of an anisotropic pattern of light 14 in an irradiation region while irradiating the anisotropic pattern light 14 obtained by making bichromatic flux 13 of a laser beam interfere with each other (B).
次に、レーザーの二光束１３を干渉させて得られる異方性パターン光１４を照射し、照射領域内においてナノワイヤの配向方向を光１４の異方性パターンの長手方向に沿うように制御する（Ｂ）。 - 特許庁 - In a ceramic chip carrier 1 mounting a semiconductor light receiving element 4, a gap 5 is made between the p electrode pattern 2 and the n electrode pattern 3 of the semiconductor light receiving element 4 in order to reduce the parasitic capacitance.
半導体受光素子４が搭載されたセラミックチップキャリア１において、半導体受光素子４のｐ極の電極パターン２とｎ極の電極パターン３との間に寄生容量の低減を目的とした間隙５を形成する。 - 特許庁 - In addition, the optical waveguide substrate 11 has a wiring pattern 21, which is electrically connected to the light emitting device 40, and a component 41, which is installed on the wiring pattern 21 on the end side of the optical waveguide 30 and supports the light emitting device 40.
また、光導波路基板１１は、発光素子４０と電気的に接続される配線パターン２１と、光導波路３０の端部側で配線パターン２１上に設けられ、発光素子４０を支持する部品４１と、を有している。 - 特許庁 - The plurality of the second light sources P2 are arrayed in a second array pattern different from the first array pattern so that an in-plane luminous distribution can be uniform at a prescribed height when the second light source group only is lighted as a whole.
複数の第２の光源Ｐ２は、第２の光源グループのみを全体的に点灯させた場合に所定の高さでの面内輝度分布が一様となるように、第１の配列パターンとは異なる第２の配列パターンで配列する。 - 特許庁 - The optimum light distribution pattern P5 to the surroundings of a vehicle is automatically selected, and a road surface can be always illuminated with the selected optimum light distribution pattern P5 to the surroundings of the vehicle, which is preferable in traffic safety.
車両の周囲環境に最適な配光パターンＰ５を自動的に選択し、この選択された車両の周囲環境に最適な配光パターンＰ５で路面などを常時照明することができるので、交通安全上好ましい。 - 特許庁 - A pattern 2 is printed on the back surface of the sheet-like base material 1 by a light-transmitting UV curable resin or a two-liquid curable resin, the light reflection layer 3 is formed on the outer side of the pattern printed layer, and a backup layer 4 is further formed.
シート状基材１の裏面に光透過性の紫外線硬化型樹脂又は２液硬化型樹脂で図柄２を印刷し、図柄印刷層の外側に光反射層３を形成し、更にバックアップ層４を形成する。 - 特許庁 - To provide a vehicle head lamp of projector type to form a light distribution pattern for a low beam, which can form a light distribution pattern bright enough even if a lighting device of side inserting type is used.
ロービーム用配光パターンを形成するように構成されたプロジェクタ型の車両用前照灯において、側方挿入型の灯具構成を採用した場合においても十分に明るい配光パターンを形成可能とする。 - 特許庁 - The sensor part is used for receiving the corresponding infrared ray from the ink of the prescribed pattern and taking information of the prescribed pattern, and dispenses with an internal light source explained in a conventional technology only by utilizing an external light source.
センサ部は、所定のパターンのインクからの対応する赤外線を受け取り、所定のパターンの情報を取り込むために使用され、外部の光源を利用するだけで、従来技術で説明されるような内部の光源を必要としない。 - 特許庁 - With this, plane light emission giving out the irregular roughnesses and finenesses depending on directions can be formed, so that stage direction illumination such as a water surface pattern and a starry sky pattern can be easily formed at low cost without the need of any complicated light control.
これにより、方向によって不規則な粗密を成す面発光を形成することができるので、水面模様や星空模様等の演出照明を、複雑な調光制御なしに、容易、かつ、安価に実現することができる。 - 特許庁 - A phase shift mask in which a phase of a transmitted light through one electrode pattern is inverted to a phase of a transmitted light through the other electrode pattern is used as a reticle for forming the reproducing track width of the magnetic head of the magnetic disk device to form ≤0.25μm track width.
磁気ディスク装置の磁気ヘッドの再生トラック幅を形成するためのレチクルに、一方の電極パターンの透過光の位相が他方の透過光の位相と反転する位相シフトマスクを用い、0.25μｍ以下のトラック幅を形成する。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a fine optical pattern with good yield on a sheet where the optical pattern is formed of light absorbing material and light reflecting material or the like used for a back projection type television and a liquid crystal display device or the like.
背面投射型テレビや液晶ディスプレイ等に使用される光吸収材、光反射材等により光学パターンが形成されたシートにおいて、微細な光学パターンを歩留まりよく製造する方法を提供する。 - 特許庁 - The lighting optical system sets a light to the specified pattern to be one with a range of specific incident angle, and it sets the light with a range of specific incident angle to TE polarization for the specified pattern.
照明光学系は、所定のパターンに対する照明光を特定の入射角度範囲の照明光に設定すると共に、特定の入射角度範囲の照明光を所定のパターンに対するＴＥ偏光に設定する。 - 特許庁 - On the other hand, fourth light emitting performance data-seventh light emitting performance data different for every variable pattern P1-P4 are specified by a performance flag set for every variable pattern P1-P4 in a data determination processing so as to be output.
その一方、変動パターンＰ１〜Ｐ４毎に異なる第４発光演出データ〜第７発光演出データは、データ判定処理において変動パターンＰ１〜Ｐ４毎に設定される演出フラグにより、特定して出力できるようにした。 - 特許庁 - To provide a fluorescent pattern detector, with which the light emission strength distribution of exciting light can be monitored with a simple configuration and the fluorescent pattern of a fluorescent material to be detected can highly accurately be detected.
この発明は、簡単な構成により励起光の発光強度分布をモニタでき、検出対象となる蛍光物質の蛍光パターンを高精度に検出できる蛍光パターン検出装置を提供することを課題とする。 - 特許庁 - At the time of an exposure of the pattern of a reticle R, the reticle R is illuminated with exposure light IL1 consisting of pulsed light of a wavelength of 193 nm from an ArF excimer laser beam source 1 and the pattern of the reticle R is transferred on a wafer W via a projection optical system PL.
露光時にはＡｒＦエキシマレーザ光源１からの波長１９３ｎｍのパルス光よりなる露光光ＩＬ１でレチクルＲを照明し、レチクルＲのパターンを投影光学系ＰＬを介してウエハＷ上に転写する。 - 特許庁 - The aligner EX is provided with a lighting optical system IL for illuminating a mask M forming a pattern by exposure light EL from the light source 10, and a projection optical system PL for transferring a pattern image on a photosensitive substrate P.
露光装置ＥＸは、光源１０からの露光光ＥＬで、パターンが形成されたマスクＭを照明する照明光学系ＩＬと、パターンの像を感光基板Ｐ上に転写する投影光学系ＰＬとを備えている。 - 特許庁 - The photomask is to be used for transferring a predetermined transfer pattern including a line-and-space pattern onto a resist film formed on a process object to be etched to obtain a resist pattern in the resist film, which functions as a mask in the etching process, wherein the line pattern of the line-and-space pattern formed on a transparent substrate comprises a translucent portion while the space pattern comprises a light-transmitting portion.
エッチング加工がなされる被加工体上に形成されたレジスト膜に対して、ライン・アンド・スペース・パターンを含む所定の転写パターンを転写させ、レジスト膜を前記エッチング加工におけるマスクとなるレジストパターンとなすフォトマスクにおいて、透明基板上に形成されるライン・アンド・スペース・パターンのラインパターンを半透光部で設け、スペースパターンを透光部で設ける。 - 特許庁 - The method includes steps of: consecutively disposing a phase shift layer pattern and a light shielding layer pattern over a transparent substrate to form a photomask and forming a resist layer over the entire surface of the photomask having a defective pattern causing a bridge between neighboring portions of the phase shift layer pattern; exposing the defective pattern by etching the resist layer; and removing the exposed defective pattern.
透明基板上に位相反転膜パターン及び光遮蔽膜パターンを順次に配置してフォトマスクを形成し、隣接する位相反転膜パターンをブリッジさせる不良パターンの生じたフォトマスク全面にレジスト膜を形成する段階と、レジスト膜をエッチングして不良パターンを露出させる段階と、露出した不良パターンを除去する段階と、を含む構成とした。 - 特許庁 - This lamp unit is provided with a printed wiring board 2, on which an LED element 6 used as a light source is mounted and a resistor pattern 4 and a wiring pattern 5 are formed, and a lamp cover 3 having a terminal 7, which connects the resistor pattern 4 and the wiring pattern 5 on the printed wiring board 2 together, on the lower face.
光源として用いられるＬＥＤ素子６が実装されると共に抵抗パターン４及び配線パターン５が形成されたプリント配線基板２と、このプリント配線基板２上の抵抗パターン４と配線パターン５とを接続する端子７を下面に備えるランプカバー３とを備える。 - 特許庁 - An organic film is formed on a negative type resist pattern using the resist pattern scaledown material comprising a resin, a base generating agent and a solvent and a base component is diffused from the organic film into the resist pattern by heat treatment or irradiation with light to form a solubilized layer on the surface of the resist pattern.
ネガ型レジストパターン上に、樹脂と、塩基発生剤と、溶媒とからなるレジストパターン微細化材料を用い有機膜を形成し、熱処理又は光照射処理により、有機膜からレジストパターン中に塩基成分を拡散させ、レジストパタン表面に可溶化層を形成させる。 - 特許庁 - This is to simulate the shape of a circuit pattern that is formed by going through the steps of inputting data for an input pattern to be formed, and exposing a resist to a specified exposure light intensity based on input data for the input pattern to be formed, thus obtaining a resultant circuit pattern.
形成用入力パターンのデータを入力し、入力された形成用入力パターンのデータに基づき、所定の露光強度でレジストを露光して回路パターンを形成する製造工程を経て形成された回路パターンの形状をシミュレーションして結果回路パターンを得る。 - 特許庁 - The optical element is provided with a light transmissive active matrix liquid crystal display part, a memory part to store a plurality of pattern data for displaying them on the display part, a selection part to select an arbitrary pattern data from the memory part, and a drawing circuit to display a pattern corresponding to the selected pattern data on the display part.
光透過型のアクティブマトリックス液晶表示部と、前記表示部に表示するための複数のパターンデータを格納する記憶部と、記憶部から任意のパターンデータを選択する選択部と、選択されたパターンデータに対応するパターンを前記表示部に表示させる描画回路とを備える。 - 特許庁 - The light guide panel is molded by using the molding die and has a diffusion pattern 20 (high-density concave pattern) formed by the above high-density convex pattern and also has fine concave portions 24 on the surface of concave portions 22 in the diffusion pattern 20 by the fine particles.
導光パネルはこの成型用金型を用いて成形され、その高密度凸状パターンによって、導光パネルに拡散パターン２０（高密度凹状パターン）が形成されるとともに、微粒子によって、拡散パターン２０の凹部２２の表面に微細凹部２４が形成される。 - 特許庁 - An ordinary pattern storage and display window 35b for displaying the number of memories capable of start of an ordinary pattern display device 34 and a special pattern storage and display window 36b for displaying the number of memories capable of start of a special pattern display device 32 are respectively formed in the shape of lens with light transmissive materials.
普通図柄表示装置３４の始動可能な記憶数を表示する普通図柄記憶表示窓３５ｂおよび特別図柄表示装置３２の始動可能な記憶数を表示する特別図柄記憶表示窓３６ｂは、それぞれ透光性材料によりレンズ状に形成されている。 - 特許庁 - A light defect 42 is determined as a location where the brightness of the image pattern exceeds the brightness of the upper pattern image by comparing the brightness at each location in each gray area of the image pattern picked up by the image pickup apparatus with the brightness at each location in each gray area of the upper pattern image.
そして、画像読取装置で読取った画像パターンの各濃淡域における各位置の輝度と上限パターン画像の各濃淡域における各位置の輝度とを比較して、画像パターンの輝度が上限パターン画像の輝度を超えた位置を明欠陥４２と判定する。 - 特許庁 - A fine pattern is formed on a resist by charged beam exposure (21), the resist is heat treated (22), a rough pattern is formed on the resist through light exposure (23), the resist is heat treated again (24), and lastly the resist on which the rough pattern and the fine pattern are formed is developed (25).
荷電ビーム露光によりレジストにファインパターンを形成し（２１）、次いでレジストに加熱処理を施し（２２）、次いでレジストに光露光によりラフパターンを形成し（２３）、次いでレジストに再び加熱処理を施し（２４）、最後にラフパターンとファインパターンとが形成されたレジストを現像する（２５）。 - 特許庁 - To provide a resist pattern thickening material, which can utilize ArF laser light, which can thicken a resist pattern regardless of the size by only applying the material on the ArF resist pattern or the like, which is excellent in etching durability and capable of easily and inexpensively forming a fine resist space pattern or the like exceeding an exposure limit.
ＡｒＦレーザー光を利用でき、ＡｒＦレジストパターン等上に塗布等するだけで、そのサイズ依存性なく厚肉化可能で、エッチング耐性に優れ、露光限界を超えて微細なレジスト抜きパターン等を低コストで簡便に形成可能なレジストパターン厚肉化材料等の提供。 - 特許庁 - The sound/lamp control part 80 reads lighting pattern data specified by the received pattern specifying command from a lighting pattern memory 81, and makes a plurality of LEDs mounted on LED boards 110a, 110b, and 110c set on the front face of a casing of the game machine emit light in lighting patterns based on the lighting pattern data.
音・ランプ制御部８０は、受信したパターン指定コマンドにより指定された点灯パターンデータを、点灯パターンメモリ８１から読み出し、当該点灯パターンデータに基づく点灯パターンで、遊技機の筐体前面に設置されたＬＥＤ基板１１０ａ，１１０ｂ，１１０ｃに設けられた複数のＬＥＤを発光させる。 - 特許庁 - To provide a method for producing a fiber fabric having a three-dimensional pattern and/or a discharged pattern formed by using a weak acid salt of guanidine by which the clear three-dimensional pattern and/or discharged pattern can be formed and a colored fabric having excellent color fastness to light can be obtained.
グアニジン弱酸塩を用いて、立体模様および／または抜染模様が形成された繊維布帛を製造する方法において、鮮明な立体模様および／または抜染模様が形成され、耐光堅牢度に優れる着色布帛を得ることのできる製造方法を提供する。 - 特許庁 - The photomask includes a reticle 202 formed of a first material through which exposure light can transmit, a first pattern formed on the reticle and formed of a material through which light cannot transmit, a second pattern having a size smaller than the first pattern, and an auxiliary pattern 204 formed to come in contact with the first pattern and formed of a second material different from the first material of the reticle.
露光が透過し得る第１の物質で形成されたレチクルと、前記レチクル上に形成され、露光が透過し得ない物質で形成された第１のパターン及び前記第１のパターンよりもサイズが小さい第２のパターン及び前記第１のパターンと接するように形成され、前記レチクルの前記第１の物質と異なる第２の物質で形成される補助パターンとを含むことを特徴とする。 - 特許庁 - To maintain an irradiative light quantity as a constant by detecting irradiative light quantity variations correctly, even if whether they happen due to the light quantity of a lamp or the variations of distribution pattern of light quantity.
ランプ光量に起因する照射光量変化があっても、光量分布パターンの変化に起因する照射光量変化があっても、これを正確に検出して、照射光量を一定に維持できるようにすることを課題としている。 - 特許庁 - To provide a liquid crystal display device in which luminance unevenness is eliminated by suitably diffusing light emitted from a light source with a sealing member on the light source side or a seal pattern mounted between the light source and the sealing member.
光源側のシール部材叉は光源とシール部材との間に設けたシールパターンによって光源から照射された光を適切に拡散させて、輝度ムラを解消することを可能とする液晶表示装置を提供することを目的とする。 - 特許庁 - The diffuser plate 6A has, on the light exit surface thereof, a first light-controlling part having a pattern of stripes parallel to the linear light sources 2, and a pair of second light-controlling parts extending in the arrangement direction at positions corresponding to the supporting members 5.
拡散板６Ａの出射面には、線状光源２に平行な縞模様を呈する第１光制御部と、支持部材５のそれぞれと対応する位置で前記配列方向に延びる一対の第２光制御部とが形成されている。 - 特許庁 - To provide an exposure apparatus and an exposure method that suppress the change of exposure light intensity and uniformly perform pattern exposure while extending the lives of semiconductor light-emitting elements and also reducing power consumption when a substrate is exposed by exposure light generated from multiple semiconductor light-emitting elements.
複数の半導体発光素子から発生した露光光により基板を露光する際、半導体発光素子の寿命を延ばし、また消費電力を抑えながら、露光光の強度の変化を抑制して、パターンの露光を均一に行う。 - 特許庁 - To improve the precision in size and position of light scattering pattern by integrally forming projecting regions in a light guide and forming light scattering patterns on the surface of the projecting regions, and aim at uniformization of the intensity of outgoing light in the main scanning direction.
導光体に凸領域を一体的に形成し、この凸領域の表面に光散乱パターンを形成することで、光散乱パターンの寸法精度，位置精度を向上させ、主走査方向における出射光強度の均一化を図る。 - 特許庁 - The display device 8 which is installed on a transom or the like of the island is consisted of the display plate in which the pattern is printed with a paint in the nature of diffusing the light onto a light guide board such as an acrylic board and a light source part which irradiates the end face of the display plate with the light.
島台の欄間などに設ける表示装置８を、アクリル板などの導光板に光を拡散する性質の塗料で模様を印刷した表示プレートと、この表示プレートの端面に光を照射する光源部とで構成する。 - 特許庁 - At this time, an S polarized light component s1 reflected by a vibrating diaphragm 151 in the first optical path is made to interfere with the reference light (P polarized light component p02 of reference light) passing the third optical path to form a first interference pattern.
この際、第１の光路において振動膜１５１により反射されたＳ偏光成分ｓ１と、第３の光路を通る参照光（参照光のＰ偏光成分ｐ０２）とを互いに干渉させて第１の干渉縞を形成する。 - 特許庁 - To provide a high pressure discharge lamp device of which, a reflection mirror does not touch a lamp wiring and a light emitting tube when changing a light distribution, and a dizziness and the problem of an omission at central part of a light distribution pattern hardly happens even when the light distribution is changed.
配光を変更する際にランプの配線および発光管に反射鏡が触れることがなく、配光を変更しても眩しさおよび配光パターンの中抜けの問題を生じにくい高圧放電ランプ装置を提供すること。 - 特許庁 - The optical lens system 1-3 is equipped with a lens surface capable of forming the interference pattern by projecting light emitted from one light source as if the light is emitted virtually from two light sources on a plane on the optical axis to an object.
光学レンズ系１−３は、一つの光源から放出された光を光軸上平面において仮想的に２つの光源から放出された光であるように対象物に投影し干渉模様を形成し得るレンズ面を備える。 - 特許庁 - To provide a nitride semiconductor light-emitting device and a flip-chip light-emitting device that form an insulating light-scattering layer having a convexo-concave pattern, by using an insulating material layer with optical transparency that is formed at least across the light-emitting device.
発光素子の少なくとも一面に形成された光透過性を有する絶縁物質層を利用して凹凸パターンを有する絶縁性光散乱層を形成する窒化物半導体発光素子及びフリップチップ発光素子を提供する。 - 特許庁 - This electrical light warning display device 10 is constructed by including a plurality of electric light warning display units 12 (12-1, 12-2 and 12-3) each having an electric light display part 16 equipped with a plurality of display lamps 14 and performing electric light display in a predetermined pattern.
電光威嚇表示装置１０を、複数の表示灯１４を設けた電光表示部１６を備え、所定パターンで電光表示を行う電光威嚇表示ユニット１２（１２−１，１２−２，１２−３）を複数ユニット含んで構成する。 - 特許庁 - Moreover, the exposure mask is formed in such a manner that in the light-shielding parts 3 in the mosaic region where the pattern forming parts 2 and the light-shielding parts 3 are arranged into a mosaic, the gap region between the light-shielding parts 3 adjacent in the longitudinal or lateral direction is also formed into a light-shielding region.
さらに、露光マスクは、パターン形成部２と遮光部３がモザイク状に配置されたモザイク領域にある遮光部３のうち、縦方向または横方向に隣接する遮光部３の間の領域も遮光されるよう構成する。 - 特許庁 - Plane shape is measured based on the fringes being formed through interference of a reference light comprising 0-order diffraction light reflected from the pattern face 7a of the diffraction optical element and a measuring light comprising the light reflected from the plane 8 to be inspected.
回折光学素子の回折パターン面（７ａ）での反射０次回折光からなる参照光と被検面（８）での反射光からなる測定光との干渉によって形成される干渉縞に基づいて被検面の面形状を測定する。 - 特許庁 - White light as an aggregate of RGB component light can be obtained from the fluorescent pattern layer 11a, and the white light becomes high in quality because the size of the three primary color basic block K is smaller than the planar size of a light emitting plane Q.
蛍光パターン層１１ａからは、ＲＧＢの各成分光の集合としての白色光が得られるが、これは、３原色基本ブロックＫのサイズが発光面Ｑの平面サイズよりも小さいために、高品質の白色光となっている。 - 特許庁 - To provide a liquid crystal display device in which light emitting from a light source is appropriately diffused by a sealing member in the light source side or by a sealing pattern disposed between the light source and the sealing member, so as to eliminate luminance unevenness.
光源側のシール部材叉は光源とシール部材との間に設けたシールパターンによって光源から照射された光を適切に拡散させて、輝度ムラを解消することを可能とする液晶表示装置を提供することを目的とする。 - 特許庁 - The display device 8 which is installed on a transom or the like of the island is constituted of a display plate in which the pattern is printed with a paint in the nature of diffusing the light onto a light guide board such as an acrylic board and a light source part which irradiates the end face of the display plate with the light.
島台の欄間などに設ける表示装置８を、アクリル板などの導光板に光を拡散する性質の塗料で模様を印刷した表示プレートと、この表示プレートの端面に光を照射する光源部とで構成する。 - 特許庁 - This printed wiring board has a laser light reflecting layer formed of copper-zinc alloy with a high reflection factor on the laser-light irradiated surface of its 2nd conductor pattern 4 and CO2 laser light 21 reaching the laser light reflecting layer 4b is sufficiently reflected.
第２導体パターン４のレーザー光照射面に反射率の高い銅−亜鉛合金から成るレーザー光反射層４ｂが形成されているので、レーザー光反射層４ｂに到達したＣ０_2レーザー光２１が十分に反射される。 - 特許庁 - To provide an illumination device can carry out more pliable and flexible light distribution control than the light distribution control of binary modes for forming a light distribution pattern for a low beam and a light distribution for a high beam, when used for a vehicular lighting fixture.
車両用灯具に使用されるとき、ロウビーム用配光パターン，ハイビーム用配光パターンの形成という２値的な配光制御以上のより柔軟で融通性のある配光制御を行なうことの可能な照明装置を提供する。 - 特許庁 - This allows the light transmittance of the image element having a wiring pattern manufactured in Copper Damascene Process to be improved and the system to prevent the dispersion and irregular reflection of the light incident on the light receiving element, thereby enables the improvement of the light transmittance and the simplification of the manufacturing process.
これにより、銅ダマシン工程で製造された配線パターンを有するイメージ素子の光透過率を向上でき、受光素子に入射される光の散乱と乱反射とを防止して、光感度を向上でき、製造過程を単純化できる。 - 特許庁 - This nanoimprint stamper 1 is constituted of a light-transmitting hard substrate 7, a light-transmitting elastomer plate 9, a light-transmitting flexible hard stamper base 11, a light-transmitting stamper cushioning layer 13, and a light-transmitting stamp pattern layer 15, and a Young's modulus of the stamper cushioning layer is lower than that of the stamp pattern layer.
ナノインプリント用スタンパ１であって、光透過性硬質基板７と、光透過性弾性体プレート９と、光透過性で可撓性の硬質スタンパベース１１と、光透過性スタンパ緩衝層１３と、光透過性スタンプパターン層１５とから構成されており、前記スタンパ緩衝層のヤング率が前記スタンプパターン層のヤング率よりも低いことを特徴とするナノインプリント用スタンパ。 - 特許庁
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