「light pattern」を含む例文一覧(7056)

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  • To form a high resolution pattern by preventing multiple exposures against the pattern by directing the light beam transmitted through a glass substrate to the direction away from the substrate without rereflection.
    ガラス基板を透過した光線を再反射せずに基板から遠ざかる方向に向け、パターンに対する多重露光を防ぎ、高い解像度のパターンを形成すること。 - 特許庁
  • In the image processing in an inspection, inclination of a fillet is determined, by specifying the direction of the illuminating light corresponding to its pattern from a reflection pattern that has appeared in an image.
    検査の際の画像処理では、画像に現れた反射パターンからそのパターンに対応する照明光の方向を特定して、フィレットの傾斜角度を求める。 - 特許庁
  • To provide a method for manufacturing a reticle for easily aligning a light shielding pattern to a projection pattern of a transparent substrate while reducing the cost than a conventional method.
    従来よりもコストを削減しながら、遮光パターンと透明基板の凸パターンとの位置合わせを容易に行うことができるレチクルの製造方法を提供すること。 - 特許庁
  • CONDUCTIVE BASE MATERIAL FOR PLATING, ITS MANUFACTURING METHOD, MANUFACTURING METHOD OF BASE MATERIAL WITH CONDUCTOR LAYER PATTERN USING IT, BASE MATERIAL WITH CONDUCTOR LAYER PATTERN, AND LIGHT-TRANSMITTING RADIO WAVE SHIELDING MEMBER
    めっき用導電性基材、その製造方法及びそれを用いた導体層パターン付き基材の製造方法、導体層パターン付き基材、透光性電磁波遮蔽部材 - 特許庁
  • To accurately form a light-shielding pattern on the lower surface of a lens sheet, by uniformly and stably forming the fine pattern of an adhesive part and a non-adhesive part on a photosensitive adhesive layer.
    感光性粘着層に粘着部と非粘着部の微細パターンを均一かつ安定に形成して、レンズシート下面に遮光パターンを高精度に形成する。 - 特許庁
  • To reduce or prevent the scanning area boundary lines from appearing on a pattern when forming the pattern on the substrate by scanning the substrate several times with a light beam.
    光ビームによる基板の走査を複数回行って、基板にパターンを描画する際に、パターンに走査領域の境界線が発生するのを抑制又は防止する。 - 特許庁
  • To obtain a good pattern shape when a resist film is patternwise exposed with light of 1 nm band to 180 nm band to form a resist pattern.
    露光光として1nm帯〜180nm帯の光を用いてパターン露光を行なってレジストパターンを形成する場合に、良好なパターン形状が得られるようにする。 - 特許庁
  • A mirror drive control part 48 reads out an Hadamard modulation pattern from a drive pattern storage part 50 to incline the respective mirror elements, and makes reflected light get into reception parts 60, 62.
    ミラー駆動制御部48は、駆動パターン記憶部50からアダマール変調パターンを読み出して各ミラー素子を傾斜させ、受信部60、62に反射光を入射する。 - 特許庁
  • For example, strip-like light-shielding regions 14v, 14h are disposed along the center axes 12v, 12h of the rectangular basic pattern 8, respectively, so as to dispose a cross-shaped auxiliary pattern 10.
    例えば、矩形の基本パターン8の中心軸12v,12hに沿って帯状の遮光領域14v,14hを配置して、十字型の補助パターン10を設ける。 - 特許庁
  • Alkali treatment, acid treatment or both the treatments are carried out in a state where a translucent film pattern is protected with a light shielding film pattern.
    半透光膜パターンが遮光膜パターンで保護された状態において、アルカリ処理または酸処理すること、またはその両方の処理をすることを特徴とする。 - 特許庁
  • A resist pattern 148 having continuous chevron figures is formed by superposing images of the light diffracted by the mask pattern onto the resist in an appropriate process.
    このマスクパターンを回折した光がレジスト上で再結像する際、これらをプロセス的に重ねることで連続したシュブロン形状を有するレジストパターン148を形成する。 - 特許庁
  • To provide a method for manufacturing photomask blanks providing a favorable mask pattern accuracy and pattern transfer accuracy by having a favorable flatness in patterning a light-shielding film.
    遮光膜のパターニング時に良好な平坦度を有することで、良好なマスクパターン精度及びパターン転写精度が得られるフォトマスクブランクの製造方法を提供する。 - 特許庁
  • A conductive pattern 33 as an element pattern electrode formed on the primary surface of the element mount member 31 is soldered to the emission surface electrode of a light emitting element 41.
    そして、その素子マウント部材31の一主面上に形成された導電パターン33の素子パターン電極と、発光素子41の発光面電極とをはんだ付けする。 - 特許庁
  • To provide a method for verifying a photomask pattern with high accuracy and high reliability for decreasing unnecessary correction by comparing with CAD pattern data after performing simulation of light intensity.
    光強度シミュレーション実施後のCADパターンデータとの比較検証で、無駄な修正を低減し、高精度で信頼性の高いフォトマスクパターンの検証方法を提供する。 - 特許庁
  • Uneveness 51a, having a circle pattern or a spiral pattern, are provided on the under surface of a transparent dial 51, and a translucent reflecting film 47 is provided on the light-receiving surface side of the solar cell 40.
    透過性文字板51の下面にサークル模様又は渦巻き模様の凹凸51aを設け、ソーラーセル40の受光面側に半透過反射膜47を設ける。 - 特許庁
  • To provide a method for producing a light transmission plate by which in formation of a reflection pattern by ultrasonic machining, the occurrence of unevenness in the surface is prevented by adjusting the unevenness of a reflection pattern.
    超音波加工により反射パターンを形成した場合において、反射パターンの不均一さを調整することで、表面にムラが生じることを防止する。 - 特許庁
  • To provide a photosensitive resin composition that forms a pattern having excellent heat resistance and light transmitability, and also provide a pattern formed by the photosensitive resin composition and a display.
    耐熱光透過率に優れたパターンを形成し得る感光性樹脂組成物、該感光性樹脂組成物を用いて形成されるパターン及び表示装置を提供する。 - 特許庁
  • Thus, dark areas in a light distribution pattern of low beam are reduced and visibility in the front direction can be improved.
    これにより、ロービーム用配光パターンのダークが軽減され、前方の視認性を向上させることができる。 - 特許庁
  • The projecting means 3 obliquely projects a prescribed light pattern onto the surface of a print board K from above.
    照射手段3は、プリント基板Kの表面に対し斜め上方から所定の光パターンを照射する。 - 特許庁
  • An edge-less uneven pattern 8g in a smooth shape may be given to the surface of the light reflecting film 8a.
    従って、光反射膜8aの表面に、エッジのない、なだらかな形状の凹凸パターン8gを付与できる。 - 特許庁
  • To provide a correction device of a fine pattern capable of finely adjusting the quantity of illumination light at a low level.
    照明光の光量を低いレベルで微調整することが可能な微細パターン修正装置を提供する。 - 特許庁
  • To provide a three-dimensional information input camera that a pattern light can easily be adjusted with a simple configuration.
    簡単な構成で、パターン光の調整を容易にすることができる3次元情報入力カメラを提供する。 - 特許庁
  • A control device 50 to which the electrical signal of the brightness pattern is input is connected to the light receiving part 47.
    前記受光部47には、明暗パターンの電気信号が入力される制御装置50を接続している。 - 特許庁
  • The resin is removed from the original pattern by using the ashing gas and the near-field light.
    そして、前記アッシングガスおよび前記近接場光を用いて、前記パターン原版から前記樹脂を除去する。 - 特許庁
  • To form a decoration pattern under constant light in radiation without being affected with the color and the thickness of a substrate.
    塗料の色や厚さの影響を受けずに一定の光照射条件で装飾パターンを形成すること - 特許庁
  • The image of a pattern is projected, by exposure light, to a substrate 112 through the optical element of a projection optical system 114.
    露光光によりパターンの像を投影光学系114の光学素子を介して基板112に投影する。 - 特許庁
  • The high-beam light distribution pattern is formed by moving the second shade 36 to a shade release position.
    また、第2シェード36を遮光解除位置へ移動させることにより、ハイビーム用配光パターンを形成する。 - 特許庁
  • INK FOR FORMING PATTERN, METHOD FOR PRODUCING THE SAME, LIGHT GUIDING PLATE, LUMINESCENT UNIT AND LIQUID CRYSTAL DISPLAYING DEVICE HAVING THIS
    パターン形成用インキ、その製造方法、導光板、発光ユニット及びこれを有する液晶表示装置 - 特許庁
  • The patterning method of an organic EL element comprises radiating a laser beam on an organic EL element, and forming a light emitting pattern on the organic EL element.
    有機EL素子上にレーザビームを照射して、発光パターンを有機EL素子上に形成する。 - 特許庁
  • An object pixel extraction part 5 extracts the position of a pixel corresponding to the light pattern in the reflection intensity image.
    目的画素抽出部5は、反射強度画像において光パターンに対応する画素の位置を抽出する。 - 特許庁
  • To provide a photosensitive resin composition which is superior in weatherability, light and heat resistances and enables a fine pattern to be formed.
    耐候性、耐光性、耐熱性に優れ、微細パターンの形成が可能な感光性樹脂組成物を提供する。 - 特許庁
  • To project a linear pattern using a coherent light source, while restricting generation of speckle in a projection surface.
    コヒーレント光源を用いて線状パターンの投影を行いつつ、投影面でのスペックルの発生を抑制する - 特許庁
  • To provide a substrate for film-formation capable of being formed with a film shaped into a desired pattern in film-formation with light.
    光による成膜において、膜を所望の形状にすることができる成膜用基板を提供する。 - 特許庁
  • To provide a device that provides a more accurate light distribution pattern according to positions of a vehicle traveling ahead and a vehicle traveling in the opposite direction.
    先行車や対向車の位置に応じて、より的確な配光パターンを実現する装置を提供する。 - 特許庁
  • The operation of the pattern-weaving machine is easy and the weaving table is light weight and miniaturizable, and every one can weave at any place.
    織りの操作が簡単で織り台が軽く小型にもでき、誰でも何処でも織れる型織り機となった。 - 特許庁
  • COMPOSITION FORMING ANTIREFLECTIVE LIGHT ABSORBING FILM AND METHOD FOR FORMING PATTERN IN SEMICONDUCTOR DEVICE USING THE SAME
    反射防止用光吸収膜形成組成物及びこれを利用した半導体素子のパターン形成方法 - 特許庁
  • To solve the following problem: it is difficult to form in high precision a cut-off line of light distribution pattern in a conventional vehicle lamp.
    従来の車両用灯具では、配光パターンのカットオフラインを高精度に形成することが難しい。 - 特許庁
  • A fill light projection part that includes a luminescence unit and a spectroscopic prism projects a focus detection pattern onto a subject.
    補助光投影部は、発光ユニットと分光プリズムとを有し、焦点検出用パターンを被写体に投影する。 - 特許庁
  • To provide a lighting fixture which can change the atmosphere of a room according to a control pattern for controlling a plurality of light sources.
    複数の光源を制御する制御パターンにより部屋の雰囲気を変更できる照明器具を提供する。 - 特許庁
  • If desired, the additional LED and lens having, for example, a different light distribution pattern can be used.
    所望なら、例えば異なる光分布パターンを有する付加的なLED及びレンズを使用することができる。 - 特許庁
  • The outer diameter of the annular opening is 5.0 to 16.0 μm, and the outer diameter of the light shielding pattern is 3.0 to 15.0 μm.
    環状開口部の外径が5.0μm〜16.0μm、遮光パターンの外径が3.0μm〜15.0μmである。 - 特許庁
  • METHOD AND MOLD FOR FORMING PATTERN, SEMICONDUCTOR DEVICE, ELECTRICAL CIRCUIT, DISPLAYING BODY MODULE, COLOR FILTER, AND LIGHT-EMITTING DEVICE
    パターン形成方法、パターン成形型、半導体デバイス、電気回路、表示体モジュール、カラーフィルタおよび発光素子 - 特許庁
  • To provide a projection lens inspection device for easily modifying the color of illumination light and a test pattern.
    照明光の色及びテストパターンを容易に変更することができる投写レンズ検査装置を提供する。 - 特許庁
  • Here, L/λ is ≥10, where L is the size of the reverse-surface pattern 5d and λ is the wavelength of the exposure light.
    裏面パターン5dの寸法をL、露光光の波長をλとしたとき、L/λが10以上となる。 - 特許庁
  • To adjust distances among a plurality of light receiver regions without no change of a pattern for a semiconductor chip.
    半導体チップのパターン変更を伴わずに半導体チップの複数の受光部領域間の距離を調節する。 - 特許庁
  • Further, the optical system unit U1 forming a light-irradiation pattern with a cutoff line can make aiming adjustment.
    又、カットオフラインを有する光照射パターンを形成する光学系ユニットU1をエイミング調整可能とする。 - 特許庁
  • Right and left light fittings 30 irradiate regions which include an upper part from the cutoff line of a luminous intensity distribution pattern for low beams.
    左右の灯具30は、ロービーム用配光パターンのカットオフラインから上方を含む領域を照射する。 - 特許庁
  • To provide a method for manufacturing a mask by which a phase shifter pattern and a light shielding film can be aligned in a good state.
    位相シフタパターンと遮光膜との位置合わせを良好に行えるマスクの製造方法を提供する。 - 特許庁
  • To provide an invisible light beam reflection pattern printed transparent sheet excellent in reading performance having a wide reading range.
    広い読取角度を有する読取性能に優れた非可視光線反射パターン印刷透明シートを提供する。 - 特許庁
  • To provide a semiconductor laser diode emitting laser light in a single peak intensity pattern at a narrow emission angle.
    狭い出射角、かつ単峰性の光強度パターンのレーザ光を出射する半導体レーザを提供する。 - 特許庁
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