「light pattern」を含む例文一覧(7056)
＜前へ 1 2 .... 34 35 36 37 38 39 40 41 42 .... 141 142 次へ＞- To provide a thin film pattern deposition method capable of easily forming a pattern of high accuracy and large area, and an organic electric field light emission and display device (organic EL display) manufacturing method using the thin film pattern deposition.
高精度かつ大面積のパターンを簡易に形成することができる薄膜パターンの形成方法、および、これを用いた有機電界発光表示装置（有機ＥＬディスプレイ）の製造方法を提供する。 - 特許庁 - In the pattern exposure using that exposure mask 1, only the doughnut pattern 3 and the long patterns 5 are resolved while regulating light exposure within a range where the crosslinking pattern 7 is not resolved.
この露光マスク１を用いたパターン露光においては、ドーナツパターン３および各長尺パターン５のみが解像され、かつ架橋パターン７が解像されない範囲に露光量を調整することによって行われる。 - 特許庁 - A pattern forming device 1 comprises a stage 3 holding a substrate 9, a discharging part 52 discharging the pattern forming material toward the substrate 9, and a light emitting part 53 emitting ultraviolet rays to the pattern formed by the discharging.
パターン形成装置１は、基板９を保持するステージ３、基板９に向けてパターン形成材料を吐出する吐出部５２、および、吐出されたパターンに紫外線を出射する光出射部５３を備える。 - 特許庁 - Even if the reflected light from the main beam expands radially from the center of the recording medium because of scratches or the like, its pattern is converted to a pattern on a line in a prescribed direction, with the expanded state of the pattern limited.
メインビームからの反射光が傷等により光記録媒体中心から放射状に拡がっても、そのパターンが所定の方向の直線上のパターンに変換されパターンの拡がり状態が限定される。 - 特許庁 - The system includes a pattern generator 104 with multiple pattern generating devices, a projection system 108 for directing light from the pattern generator 104, and an aperture located at or near an object window 210.
複数のパターン生成装置を備えたパターンジェネレータ１０４と、パターンジェネレータ１０４からの光を配向する投影システム１０８と、対象物ウィンドウ２１０のところにまたはその近くに配置されたアパーチャが設けられている。 - 特許庁 - In a photomask 100 used in a semiconductor manufacturing process, a first mask pattern 106 transferred to a resist pattern and a second mask pattern 108 of a resolution limit or less for suppressing the light proximity effect are provided.
半導体製造工程に用いられる露光用１００において、レジストパタンに転写される第１マスクパタン１０６と光近接効果を抑制するための、解像限界以下の第２マスクパタン１０８を設ける。 - 特許庁 - To provide a projection aligner that can set the size of a pattern that is formed on a light-sensitive substrate and at the same time the division position of the pattern on a mask can be arbitrarily set when allowing the division pattern to be subjected to joint exposure.
分割パターンを継ぎ露光する際、感光基板に形成されるパターンの大きさを任意に設定できるとともに、マスク上におけるパターンの分割位置を任意に設定できる露光装置を提供する。 - 特許庁 - Since the library of the light intensity distribution of a virtual pattern is created, based on the measured refractive index n after pattern formation and the like, the precise line width adapted to the pattern state at the time of line width measurement is measured.
仮想パターンの光強度分布のライブラリがパターン形成後の実測の屈折率ｎなどに基づいて作成されるので，線幅測定時のパターン状態に適合した正確な線幅が測定される。 - 特許庁 - This method for pattern formation comprises the steps of forming a film of a fluophor composition on a film of a resin composition for filters, exposing the film side of the resin composition to light using an exposure mask followed by carrying out a development operation, and thereby simultaneously forming a filter pattern and a fluophor pattern.
フィルタ用樹脂組成物の膜に蛍光体組成物の膜を形成し、露光マスクを用いてフィルタ用樹脂組成物の膜側から露光し現像して、フィルタパターンと蛍光体パターンを同時に形成する。 - 特許庁 - In the pattern forming method etc., the plastic mold having a prescribed pattern is pushed to the visible radiation curable resin composition to mold the prescribed pattern, and the resin composition is cured by being irradiated with light.
所定パターンを有するプラスチックモールドを、可視光硬化性樹脂組成物に押し付けて該所定パターンを成形し、光を照射して該樹脂組成物を硬化させることを特徴とするパターン形成方法等を提供する。 - 特許庁 - An inspected object 50 is irradiated with an irradiation light 111 with a fringe-like pattern 190, and a defect pattern 195 appeared in response to the defective part of the inspected object is detected from the fringe-like pattern transmitted through the inspected object.
縞状のパターン１９０にてなる照射光１１１を被検査物５０へ照射し、被検査物の通過した縞状パターンから、被検査物の欠陥部に応じて現れた欠陥パターン１９５を検出する。 - 特許庁 - To provide a photosensitive paste causing neither pattern bottom thickening nor pattern meandering, free of lowering of the sensitivity and capable of reliably improving light exposure margin, in order to form a pattern having high definition and a high aspect ratio.
高精細かつ高アスペクト比のパターンを形成するために、パターンの底部太りやパターンの蛇行、感光性ペーストの感度低下がなく、露光量マージンを確実に向上できる感光性ペーストを提供する。 - 特許庁 - An optical sensor 8' for detecting the position of a patch pattern 7' on a transfer belt 5 emits a radiation pattern IR' which is almost an oval shape that is orthogonal to a proceeding direction of the patch pattern 7' and receives the reflected light from the same.
転写ベルト５上のパッチパターン７’を位置検出するための光学的センサ８’はパッチパターン７’の進行方向に直交するほぼ長円形状の照射パターンIR’を発光してその反射光を受光する。 - 特許庁 - In the image forming device, a reflection-type sensor module 16 employs an ultraviolet LED light source 40, and therefore even if the test pattern is printed in any of C, M, Y, and K colors, a pattern of the highest concentration can be discriminated with high precision from the test pattern.
反射型センサモジュール１６に紫外ＬＥＤ光源４０を用いているので、ＣＭＹＫいずれの色で印字されたテストパターンでも、高い精度で最も濃度の濃いパターンを判別することができる。 - 特許庁 - Thus, despite the presence of the pattern of irregularities at the internal interface of the decorative sheet S, it is possible to clearly recognize the pattern from outside by light reflection upon the internal interface of the decorative sheet S due to the presence of the decorative layer 2 on the back of the pattern.
装飾シートＳの内部界面に凹凸模様があっても、その裏面に装飾層２が存在するため、界面での光反射によって外部から凹凸模様を鮮明に認識することができる。 - 特許庁 - Though the light source 71 has a two-dimensional radiation pattern which is a radiation pattern having luminosity changing as the function of a position, a two-dimensional luminosity pattern at the position of the exit aperture 76 is made comparatively uniform by the condensing unit 72.
光源（７１）は位置の関数として変化する光度を持つ放射パターンである二次元放射パターンを有するが、出口開口（７６）の位置での二次元光度パターンは集光器（７２）によって比較的均一となる。 - 特許庁 - By appropriately selecting the interval and thickness of a resist pattern, a fine pattern having a three-dimensional height or a fine pattern having a pattern width equal to or smaller than the resolution of exposure light can be formed in a single lithographic process.
本発明の構成によれば、レジストパターンの間隔と、レジストパターンの厚みを適宜選択することにより、単一のリソグラフィ工程で、３次元的な高さを持った微細パターンや、露光光の解像限界以下のパターン幅を持った微細パターンを形成することが出来る。 - 特許庁 - In a step S1, an exposure amount corresponding to the size difference between a sparse pattern and a dense pattern is determined by using first correlation between the exposure amount of pre-acquired exposure light with which an exposure device is irradiated and variations in size of the sparse pattern and dense pattern.
ステップＳ１では、予め取得された、露光装置で照射する露光光の露光量と疎パターン及び密パターンの各寸法の変化との第１の相関関係を用いて、疎パターンと密パターンとの寸法差に対応した露光量を決定する。 - 特許庁 - To form an alignment mark capable of improving superposition accuracy, and of reducing an exposure and superposition measurement processing time when a new pattern is formed by superposing a new pattern on a pattern formed by a double pattern to be exposed to light.
ダブルパターンで形成されたパターンに新たなパターンを重ね合わせて露光して、新たなパターンを形成する際、重ね合わせ精度を向上させると共に、露光及び重ね合わせ計測処理時間を短縮することができるアライメントマークを形成できるようにする。 - 特許庁 - To provide a pattern defect repairing device where a problem when a laser beam is adopted as a light source of an inspection device of a pattern defect, the defect of a pattern is inspected with higher resolution and the defect of the mask pattern can highly precisely be repaired.
レーザ光をパターン欠陥の検査装置の光源として採用した場合の問題点を解決し、より高い分解能でパターンの欠陥を検査し、これにより高精細なマスクパターンの欠陥修復を行なえるパターン欠陥修復装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a pattern defect repair apparatus capable of repairing the defect of a higher fineness mask pattern by solving the problem of the case a laser beam is employed as a light source for an inspection apparatus for the pattern defect and by inspecting the defect of the pattern with higher resolution.
レーザ光をパターン欠陥の検査装置の光源として採用した場合の問題点を解決し、より高い分解能でパターンの欠陥を検査し、これにより高精細なマスクパターンの欠陥修復を行なえるパターン欠陥修復装置を提供する。 - 特許庁 - The controller 12 connected with the game machine body 11 for inputting operation from a user is equipped with an infrared light emitting element 53, and the light emitting pattern of the infrared light emitting element 53 is controlled by an infrared light transmitting circuit 56.
ゲーム装置本体１１に接続されて、ユーザからの操作を入力するためのコントローラ装置１２に赤外線発光素子５３を設け、この赤外線発光素子５３の発光パターンを赤外線送信回路５６によって制御する。 - 特許庁 - The optical lens system 1-3 is provided with a lens face for forming the interference pattern by projecting light emitted from one light source as light emitted virtually from the two light sources.
光学レンズ系１−３は、一つの光源から放出された光を光軸上平面において仮想的に２つの光源から放出された光であるように対象物に投影し干渉模様を形成し得るレンズ面を備える。 - 特許庁 - To effectively suppress the generation of glare light in a vehicular headlamp structured so as to form a light distribution pattern having a horizontal cutoff line, by a catoptric system provided with a light source comprising a semiconductor light emitting element.
半導体発光素子からなる光源を備えた反射光学系により、水平カットオフラインを有する配光パターンを形成するように構成された車両用前照灯において、グレア光の発生を効果的に抑制する。 - 特許庁 - To inspect the defects of a pattern at a high speed and with high accuracy with a laser light having a large amount of light, by solving the problems of the temporal and spatial coherences that are generated by using the laser light as a light source.
照明の光源にレーザを用いることによって発生する時間的・空間的コヒーレンスの問題、を解決して、光量の大きいレーザを用いて高速に高感度でパターンの欠陥を検査することを可能にする。 - 特許庁 - The imaging apparatus having an auxiliary light source determines a light emitting pattern which shows on/off of light emission in an auxiliary light source by 1/0, as shown in (a), based on imaging conditions so that a corrected image has proper brightness.
補助光源を有する撮像装置であって、ぶれ補正後の画像が適切な明るさとなるように撮影条件に基づいて、(a)に示す補助光源における発光のオン／オフを１／０で示す発光パターンを決定する。 - 特許庁 - To provide a lighting lamp for vehicle with reduced depth configured to emit light received from a light emitting element forward through a translucent member, and to form a spot light distribution pattern of high central light intensity.
発光素子からの光を透光部材により前方へ出射させるように構成された車両用照明灯具において、その奥行寸法を小さくした上で、中心光度が高いスポット状の配光パターンを形成可能とする。 - 特許庁 - To enhance use efficiency of light source luminous flux in the case a light distribution pattern having horizontal and slant cutoff lines is formed at an upper end part, in a direct radiation lamp for a vehicle using a light-emitting element as a light source.
発光素子を光源とする直射型の車両用照明灯具において、上端部に水平および斜めカットオフラインを有する配光パターンを形成するようにした場合にも光源光束の利用効率を高める。 - 特許庁 - The shielding member 21 has a specific shielding pattern formed on it set so that the combinations of existence of light-receiving in the light receiving element 13 for light from the respective light emitting elements 12 are different in every position of the shielding member 21.
この遮光部材２１には、各発光素子１２からの光に対する受光素子１３での受光の有無の組合せが当該遮光部材２１の位置毎に異なるように設定された特定の遮光パターンを形成した。 - 特許庁 - To provide a white light source device can align the positions and shapes of emission part images in an entire emission wavelength band, and prevent emitted light from being separated to become white light nor becoming light with a color pattern.
全ての発光波長帯で発光部像の位置と形状を揃えると共に、発する光が分離されて白色光とならず、色模様が付いた光となってしまうことを防止することができる白色の光源装置を提供する。 - 特許庁 - To provide a headlight for a vehicle capable of making light beams of high luminous intensity incident along a nearly parallel line of a projection lens optical axis of reflection light from a light source, making vertically spectroscopic colors alleviated, and capable of restraining color unevenness on a light distribution pattern.
光源からの反射光を投影レンズ光軸の略平行線上に高光度の光線を入射可能とし、上下分光色を緩和させ、配光パターン上の色ムラを抑制できる車両用前を提供する。 - 特許庁 - To provide a vehicular lamp capable of making clear a light-shade boundary line of a light-distribution pattern formed by superposing light projected from a plurality of lenses even if the positional relationship between the plurality of lenses and a plurality of light-emitting elements is not set up in high precision.
複数のレンズ及び複数の発光素子の位置関係を高精度にしなくとも、複数のレンズから投射された光を重ね合わせて形成される配光パターンの明暗境界線が明りょうに現れるようにする。 - 特許庁 - To provide a headlight for a vehicle capable of making light beams of high luminous intensity incident along a nearly parallel line of a projection lens optical axis of reflection light from a light source, making vertically spectroscopic colors alleviated, and capable of restraining color unevenness on a light distribution pattern.
光源からの反射光を投影レンズ光軸の略平行線上に高光度の光線を入射可能とし、上下分光色を緩和させ、配光パターン上の色ムラを抑制できる車両用前照灯を提供する。 - 特許庁 - A light scattering pattern 3 of grid shape and dot shape or the like for scattering light incident from the side face of a light guide plate body 4 to the front of the light guide plate body 4 is formed on a thin reflecting sheet 2 by printing by a paste ink.
薄い反射シート２に、導光板本体４の側面から入射した光を導光板本体４の前方へ散乱させるためのグリッド状、ドット状等の光散乱パターン３を糊インクにより印刷で形成する。 - 特許庁 - A light-emitting panel assembly includes a light-emitting panel member 22 having a uniform or variable pattern of light-extracting deformities 109 of well-defined shapes in or on one or more surfaces of the light-emitting panel 22.
発光パネルアセンブリは、発光パネル（２２）の１つまたはそれ以上の表面の中または上に明確に規定された形状の光抽出変形部（１０９）の均一なまたは可変のパターンを有する発光パネル部材（２２）を含む。 - 特許庁 - Since each of the light irradiating regions PLHi, PRHi are superimposed and moreover irradiating light volume of each of the zones is controlled, a light volume of a crossing zone by both of the zones can be controlled and thereby a desired light distribution pattern can be obtained.
各光照射領域ＰＬＨｉ，ＰＲＨｉを重畳し、かつ各ゾーンの照射光量を制御することで両ゾーンが交差した交差ゾーンの光量を制御することができ、所要の配光パターンを得る。 - 特許庁 - The optical sensors 2A and 2B having light emitting elements 3 and 11 and light receiving elements 4 and 12 and detecting predetermined detection objects control the light emission of the light emitting elements 3 and 11 by a predetermined pattern by a control means 15.
発光素子３，１１及び受光素子４，１２を有し、所定の検出対象を検出する光センサ２Ａ，２Ｂは、制御手段１５により発光素子３，１１の発光を予め定められたパターンにより制御する。 - 特許庁 - The scanning controller further generates a first light quantity correction signal and a second light quantity correction signal and corrects a driving signal of each light emission section at the each station by using the reference pattern and the light emission power correction equation when an image is formed.
そして、画像形成が行われる際に、ステーション毎に、基準パターン及び発光パワー補正式を用いて、第１光量補正信号及び第２光量補正信号を生成し、各発光部の駆動信号を補正する。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing a light guide plate for planer light source device, in which the ratio of a light diffusion pattern to the other rough surface part can be easily adjusted even if the plate thickness of the light guide plate is reduced, and uniform planar lighting can be performed.
導光板の板厚を薄くしても、光拡散パターンとその他の粗面部との比率の調整が容易にでき、均一な面照明を可能にする面光源装置用の導光板の製造方法を提供する。 - 特許庁 - This reduces the size of an image of the light source 18a formed by reflected light from the region 20a1 close to the lower-end edge, thus a sufficient amount of light is secured for a part close to the cutoff line in the low-beam light distribution pattern P.
これにより下端縁近傍領域２０ａ１からの反射光により形成される光源１８ａの像のサイズを小さなものとし、ロービーム配光パターンＰにおけるカットオフライン近傍部分の光量を十分に確保する。 - 特許庁 - The display device using light emitting diodes is provided with: a plurality of light emitting diodes 1 arranged in a display pattern of a character, a graphic, a symbol or the like; and a power source 2 connected to the light emitting diodes 1 and supplying the current to turn on the light emitting diodes 1.
発光ダイオードの表示装置は、文字、図形、記号等の表示パターンに配列してなる複数の発光ダイオード１と、発光ダイオード１に接続されて発光ダイオード１に電流を流して点灯する電源２とを備える。 - 特許庁 - To provide a thermal transfer sheet for forming a light shielding layer excellent in solvent resistance, a light shielding substrate having the light shielding layer excellent in solvent resistance, a color filter having the light shielding layer by which chipping is hardly produced in a pattern and its manufacturing method.
耐溶剤性に優れる遮光層を形成するための熱転写シート、耐溶剤性に優れる遮光層を有する遮光基板、パターンに欠けが生じ難い遮光層を有するカラーフィルタ及びその製造方法を提供する。 - 特許庁 - A light exposure parameter deciding device comprises a simulation execution part 112 for executing a lithography simulation using light strength information and a predetermined light exposure parameter corresponding to a plurality of regions on a light exposure mask and calculating a prediction pattern shape; and an evaluation value calculation part 113 for calculating an evaluation value of the prediction pattern shape.
露光パラメータ決定装置は、露光マスク上の複数の領域に対応する光強度分布情報及び所定の露光パラメータを用いてリソグラフィシミュレーションを実行し、予測パターン形状を算出するシミュレーション実行部１１２と、前記予測パターン形状の評価値を算出する評価値算出部１１３と、を備える。 - 特許庁 - The second display part has a plurality of colorless transparent light guide plates arranged over a top side of a dial of the first display part, wherein the light guide plates are grooved in a pattern (for example, a flower), and light is guided to the light guide plates as the degree of economical driving is improved to let the driver and passengers view the pattern formed by the grooving.
第２表示部は、第１表示部の目盛盤の表側に重ねて複数枚の無色透明の導光板を配置し、導光板に（例えば花の）図柄を溝によって形成し、エコ運転の度合いが改善するにつれて、導光板に光を導光させて、溝による図柄を運転者や乗員に視認させる。 - 特許庁 - To provide a method for producing a light guide plate, capable of restraining ununiformity of printing of a dot pattern when printing the dot pattern by an inkjet method, to provide the light guide plate which can be obtained by this producing method, to provide a planar light-source device provided with the light guide plate, and to provide a transmissive image-display device.
ドットパターンをインクジェット法により印刷する場合において、ドットパターンの印刷の不均一を抑制することが可能となる導光板の製造方法、およびこの製造方法によって得ることのできる導光板、これを備えた面光源装置および透過型画像表示装置を提供する。 - 特許庁 - Further, one light guide plate constituted by stacking a 1st light guide plate having many hollows in 1st pattern and a 2nd light guide plate having many hollows in 2nd pattern one over the other is used in order to increase the brightness of the panel and the uniformity of the brightness, and light sources are installed nearby end surfaces.
また、パネルの明るさと明るさの均一性を増すために、第一のパターンによる多数のくぼみを有する第一の導光板と、第二のパターンによる多数のくぼみを有する第二の導光板とを、これらのパターンが一致しない様に重ね合わせてなる一つの導光板を用い、端面の近傍に光源を設置する。 - 特許庁 - To provide a semiconductor light-emitting device for making in an ideal linear shape a cut-off line of a light distribution pattern with a projection image of an edge by linearly forming an outer periphery edge of a light-emitting face of the device, and hence, is capable of forming a given light distribution pattern in an ideal shape.
半導体発光装置の光出射面の外周端（エッジ）を直線状に形成することにより該エッジの投影像で形成される配光パターンのカットオフラインを理想的な直線状とし、よって所望の配光パターンを理想的な形状に形成することが可能な半導体発光装置を提供する。 - 特許庁 - The metal pattern formed resin substrate 1 is irradiated with exciting light a1 to get the light emitted from the resin surface 2 of the metal pattern formed resin substrate 1 and the exciting light b1 reflected by the metal patterns 3 detected by a detection system reduced in the sensitivity to the exciting light with respect to the sensitivity to fluorescence or phosphorescence.
金属パターン形成樹脂基板１に励起光ａ１を照射し、金属パターン形成樹脂基板１の樹脂表面２から発せられる光及び金属パターン３が反射する励起光ｂ１を、蛍光又は燐光に対する感度に対して前記励起光に対する感度が低減された検出系で検出する。 - 特許庁 - The display device has a back light unit 4, a solar cell pattern 11A charged with electricity with external light being formed at a position where light from the back light unit 4 is not transmitted and does not affect the display and at a position matching a pattern where a black matrix 6 is formed.
バックライトユニット４を有する表示装置であって、表側基板１に形成した偏光板７内の、バックライトユニット４からの光が透過しなく表示に影響を及ばさない位置である、ブラックマトリックス６が形成されるパターンと一致する位置上に、外光からの光により充電する太陽電池パターン１１Ａを形成した。 - 特許庁 - The photoelectric encoder using a lens array 12 for dividing an image of a scale pattern 10 into a plurality of detection regions 14 and then forming then on a light-receiving element (a light-receiving array element 16), comprises a light-shielding array 22 for reducing the influence of disturbance light, between the scale pattern 10 and the lens array 12.
スケールパターン１０の像を複数の検出領域１４に分割して受光素子（受光アレイ素子１６）に結像するためのレンズアレイ１２を用いた光電式エンコーダであって、前記スケールパターン１０とレンズアレイ１２の間に、外乱光の影響を軽減するための遮光アレイ２２を備える。 - 特許庁
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