「light pattern」を含む例文一覧(7056)
＜前へ 1 2 .... 30 31 32 33 34 35 36 37 38 .... 141 142 次へ＞- An optical pattern composed continually of prism surfaces 61 and flat surfaces 62 is formed on the light incident surface 39a.
入光面３９ａにはプリズム面６１と平面６２とが連続する光学パターンが形成される。 - 特許庁 - Consequently, it is possible for the reflection type photomask to compensate for light reflected by the pitch of the pattern.
これにより、反射型フォトマスクは、パターンのピッチによって反射する光を補償することができる。 - 特許庁 - The dummy pattern is a through hole, etc., and drawn with light exposure of an extent where resist is not exposed.
ダミーパターンはスルーホールなどであり、レジストが露光されない程度の露光量によって描画される。 - 特許庁 - A projector 20 projects a structured light pattern 46 along a first optical axis 44 onto a surface 80.
プロジェクタ２０が、第１の光軸４４に沿って構造光パターン４６を表面８０上に投射する。 - 特許庁 - By this structure, light reflected by or penetrating through the two-dimensional periodic structure has the interference pattern.
これにより、この２次元周期構造で反射された光、又は、透過した光は干渉パターンを有する。 - 特許庁 - To provide a lighting fixture for an automobile capable of efficiently setting optional light distribution pattern.
効率良く任意の配光分布パターンを設定することが可能な自動車用灯具を提供する。 - 特許庁 - A window part 12 of the first shade 5 forms a light distribution pattern LP for a low beam having the cutoff line.
第１シェード５の窓部１２は、カットオフラインを有するロービーム用配光パターンＬＰを形成する。 - 特許庁 - To provide an exposure technology capable of forming a fine pattern on the level of the wavelength of illumination light or less inexpensively.
照明光の波長程度以下の微細パターンを安価に形成可能な露光技術を提供する。 - 特許庁 - POSITIVE RESIST COMPOSITION FOR ELECTRON BEAM, EUV LIGHT OR X-RAY AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME
電子線、ＥＵＶ光又はＸ線用ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法 - 特許庁 - To provide a pitch measuring device for measuring the pitch of a L/S pattern using a relatively long wavelength light.
比較的長い波長の光を用いてＬ／Ｓパターンのピッチを測定することのできるピッチ測定装置。 - 特許庁 - The first wiring board 2 includes a light shielding pattern 2a in a part facing the solid imaging device 1a.
第１配線基板２は、固体撮像素子１ａと対向する部分に遮光パターン２ａを有する。 - 特許庁 - An oscillation threshold is determined according to the light intensity or dimensional change of a near field pattern of a semiconductor laser 3.
半導体レーザー３の近視野像の光強度又はサイズの変化から発振しきい値を決定する。 - 特許庁 - To provide a projector type headlamp capable of improving distant-place visibility of high-beam light distribution pattern.
ハイビーム用配光パターンの遠方視認性を改善することができるプロジェクタ型ヘッドランプを提供する。 - 特許庁 - The resist film 102 is selectively irradiated with exposure light 104 to perform pattern exposure.
続いて、レジスト膜１０２に露光光１０４を選択的に照射することによりパターン露光を行なう。 - 特許庁 - ACTIVE LIGHT SENSITIVE OR RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION, AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME
感活性光線性または感放射線性樹脂組成物及び該組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁 - METHOD FOR FORMING GRADATION PATTERN ON MOLDING SURFACE OF CORE FOR MOLD FOR MOLDING LIGHT GUIDE SHEET BY EMBOSSING PROCESS
導光板成形用金型入子の成形表面にシボによるグラデーションパターンを形成する方法 - 特許庁 - To eliminate noise by processing a line pattern with an image generated by structured light.
構造化光によって生成されたイメージでラインパターンを処理してノイズを除去することを目的とする。 - 特許庁 - ACTIVE LIGHT OR RADIATION SENSITIVE RESIN COMPOSITION AND PATTERN FORMING METHOD USING THE SAME
感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、及び該組成物を用いたパターン形成方法 - 特許庁 - The light source 10 projects a lattice pattern capable of being coded in a binary or ternary way onto an object 100.
光源１０は、２値又は３値で符号化可能な格子パターンを対象物１００に投影する。 - 特許庁 - A spot light SL moves on a screen in a pattern looking as if searching stop figures (Fig. 4 (A)).
スポットライトＳＬは画面上を、あたかも停止図柄を探しているようなパターンで移動する（図４（Ａ））。 - 特許庁 - When the same pattern is continuously generated by repeatedly and intermittently emitting light from a light source to a micromirror device at least twice, until the frequency of light emission reaches a preset predetermined frequency, the same pattern information as the pattern information transmitted immediately with a preset timing from emission of light of one shot from the light source to emission of light of next shot is transmitted to the micromirror device.
マイクロミラーデバイスに光源から光を間欠的に少なくとも２回以上、繰り返し放射して同一のパターンを継続して生成する際に、光の放射回数が予め設定された所定回数に達するまでは、光源から１ショットの光が放射された後、次の１ショットの光の放射が行われるまでの間の予め設定されたタイミングで直前に転送されたパターン情報と同一のパターン情報をマイクロミラーデバイスに転送する。 - 特許庁 - To provide a positive resist composition which can be used suitably in a process using ArF excimer laser light as an exposure light source, which is superior in line edge roughness and free of pattern collapses, will cause no problem regarding development defects, and is superior in a pattern profile and exposure latitude, and to provide a method for forming a pattern that uses the composition.
ArFエキシマレーザー光を露光光源とする場合に好適に使用することができ、ラインエッジラフネスに優れ、かつパターン倒れがなく、現像欠陥の問題を生じないポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - A phase shifter is laid in a split pattern satisfying Ic/Io>T, a light shielding part is laid in a split pattern satisfying T/4>Ic/Io, and a light shielding part having an opening as a phase shifter is laid in a split pattern satisfying T≥Ic/Io≥T/4.
Ｉｃ／Ｉｏ＞Ｔが成り立つ分割パターンには位相シフターを配置し、Ｔ／４＞Ｉｃ／Ｉｏが成り立つ分割パターンには遮光部を配置し、Ｔ≧Ｉｃ／Ｉｏ≧Ｔ／４が成り立つ分割パターンには、位相シフターとなる開口部を有する遮光部を配置する。 - 特許庁 - A quantity of light for reading the image adjustment test pattern printed on the rear surface through from the front side of the recording sheet with the position adjustment test patterns formed is adjusted; and the light quantity is increased, until the density level of the test pattern printed on the rear surface reaches a prescribed value, and then, the test pattern on the rear surface is read.
位置調整用のテストパターンが形成された記録シートの表側から裏面のテストパターンを透かして読み取るときの光量を調整し、裏面のテストパターンの濃度レベルが所定値になるまで光量を増加させて読取を行う。 - 特許庁 - The pattern 12a of the translucent film is provided between the transparent substrate 11 and lower-layer light shield film 13a, and the pattern 12a of the translucent film and the pattern 13a of the lower-layer light shield film have portions in contact with each other without interposing any other layer.
また、透明基板１１と下層遮光膜１３ａとの間には半透光膜のパターン１２ａが設けられ、半透光膜のパターン１２ａと下層遮光膜のパターン１３ａとは、他の層を介することなく接している部分を有することを特徴とする。 - 特許庁 - This deformation measuring device 10 detects a speckle pattern, stores the detected speckle pattern as an intensity value of scattered light correlated with each time, and calculates an intensity changing period of scattered light on an optional position in a domain of the stored speckle pattern.
本発明の変形測定装置１０は、スペックルパターンを検出し、検出されたスペックルパターンを、各時刻に対応付けられた散乱光の強度値として記憶し、記憶されたスペックルパターンの領域内の任意の位置で、散乱光の強度変化周期を算出する。 - 特許庁 - The communication means transmitting a signal for setting a display pattern, and when a display pattern for any one of the electric light warning display units 12 is set, display patterns of the other electric light warning display units 12 are set to the same display pattern.
その通信手段は、表示パターンの設定のための信号を送るものとなしておき、何れか１つの電光威嚇表示ユニット１２の表示パターンを設定することで、他の電光威嚇表示ユニット１２の表示パターンを同一表示パターンに設定する。 - 特許庁 - The sensor head 120 has the interferable light source 122 for radiating optical beams to the optical pattern 112, the light detector 12 for detecting the movement of an interference pattern formed by the optical pattern 112, and a base board 142 for holding them.
センサーヘッド１２０は、光学パターン１１２に光ビームを照射するための可干渉光源１２２と、光学パターン１１２によって形成された干渉パターンの移動を検出するための光検出器１３２と、それらを保持している基板１４２とを有している。 - 特許庁 - The pattern of the mask is projected on the photosensitive substrate with an exposure light quantity substantially different from a standard exposure light quantity required for forming a pattern of desired line width on the photosensitive substrate using a standard mask having a pattern of line width same as the converted value.
換算値に等しい線幅のパターンを有する標準マスクを用いて感光性基板上に所望線幅のパターンを形成するのに必要な標準露光光量とは実質的に異なる露光光量で、マスクのパターンを感光性基板上に投影する。 - 特許庁 - After light intensity Ic generated in a light shielding image forming region corresponding to each split pattern on the objective material for exposure is calculated, light intensity Io to be generated in the light shielding image forming region is calculated on the assumption that a split pattern having the light intensity Ic higher than a specified value is provided with an opening and a light shielding film is laid in other entire region.
被露光材料上における各分割パターンと対応する遮光像形成領域に生じる光強度Ｉｃを算出した後、光強度Ｉｃが所定値よりも大きい分割パターンに開口部が配置され且つその他の部分の全体に遮光膜が配置されているとしたときに遮光像形成領域に生じる光強度Ｉｏを算出する。 - 特許庁 - The diffraction optical element comprises: a first diffraction pattern 11 which diffracts incident light and generates illumination light of illuminating a first region A; and a second diffraction pattern 12 which is formed adjacently to the first diffraction pattern 11, diffracts incident light and uses at least a part of the diffracted light to generate illumination light for illuminating a second region B1(B) other than the first region A.
入射した光を回折させ、第１領域Ａを照明する照明光を生成する第１回折パターン１１と、該第１回折パターン１１に隣接して形成されるとともに、入射した光を回折させ少なくとも回折された光のうち一部が第１領域Ａ以外の第２領域Ｂ１（Ｂ）を照明する照明光を生成する第２回折パターン１２とを備えることを特徴とする。 - 特許庁 - To provide a fluorescent pattern forming method capable of forming a fluorescent pattern which can not be visually confirmed under usual light such as solar rays or indoor light but can be discriminated by the irradiation with ultraviolet rays due to an ultraviolet irradiator and can be used for inspecting the printing quality of the fluorescent pattern when this fluorescent pattern is formed by the same inspection method as general printed matter under usual light.
太陽光や室内光など通常の光線下では視認できず、紫外線照射装置による紫外線照射によって識別可能な蛍光絵柄の作製し、しかも該蛍光絵柄を形成したときにその印刷品質が通常光線下で一般的な印刷物と同様な検査方法で検査することができる蛍光絵柄の形成方法を提供する。 - 特許庁 - A method is disclosed, regarding acquiring of information concerning a motor by using the optical encoder system, and comprises irradiating the first code pattern arranged on the first face of the pattern medium, irradiating the second code pattern arranged on the second face of the pattern medium, detecting the light reflected from the first face, detecting the light reflected from the second face, and analyzing the rays of the reflected light.
光エンコーダシステムを使用してモータに関する情報を得る方法であって、パターン媒体の第１の面に配置された第１のコードパターンを照らし、パターン媒体の第２の面に配置された第２のコードパターンを照らし、前記第１の面から反射された光を検出し、前記第２の面から反射された光を検出し、反射光を分析することからなる方法を開示する。 - 特許庁 - To provide a pattern forming material, having a cushion layer and a photosensitive layer and superior in the shape of a formed pattern because absorbance of the photosensitive layer, when a light of 405 nm is applied is within a certain numerical range, and to provide a pattern forming apparatus with the pattern forming material and a pattern forming method which uses the pattern forming material.
クッション層と感光層とを有し、４０５ｎｍの光を照射する場合の該感光層の吸光度が一定の数値範囲であることにより、形成したパターンの形状に優れるパターン形成材料、並びに該パターン形成材料を備えたパターン形成装置及び前記パターン形成材料を用いたパターン形成方法の提供。 - 特許庁 - This mask pattern forming method comprises a first process of forming a prescribed photoresist on a polysilicon film 5, a second process of projecting a wiring pattern onto the photoresist for light exposure, a third process of forming a resist pattern by developing the exposed photoresist, and a fourth process of correcting the resist pattern 7A on a pattern shape by irradiating the resist pattern 7A with far ultraviolet rays.
ポリシリコン膜５上に所定のフォトレジストを形成する工程と、このフォトレジストを配線パターン形状に露光する工程と、露光したフォトレジストを現像処理してレジストパターン７Ａを形成する工程と、このレジストパターン７Ａに深紫外線を照射して、当該レジストパターン７Ａのパターン形状を補正する工程とを有するものである。 - 特許庁 - To provide a resist composition or the like for inexpensively, easily and efficiently forming a resist cut-out pattern exceeding the exposure limit by a light source of an exposure apparatus, the pattern which is thickened uniformly, by a resist pattern thickening material regardless of directions or the pattern density of a resist pattern, and moreover without depending on the kind of the resist pattern thickening material.
レジストパターンの方向、疎密差等に関係なく、しかもレジストパターン厚肉化材料の種類に依存することなく、該レジストパターン厚肉化材料により均一に厚肉化され、露光装置の光源における露光限界を超えて微細なレジスト抜けパターンを低コストで簡便に効率よく形成可能なレジスト組成物等の提供。 - 特許庁 - To easily adjust the ratio of a light diffusion pattern to the other rough surface part even if the thickness of a light guide plate is reduced, and to obtain uniform surface illumination.
導光板の板厚を薄くしても、光拡散パターンとその他の粗面部との比率の調整が容易にでき、均一な面照明を可能にする。 - 特許庁 - When the irradiation light transmitted through the etching pattern layer passes through the transparent layer and reaches the half-mirror part, a portion of the light is transmitted through the half-mirror part and exit from the front.
エッチングパターン層を透過した照射光は、透明層を通りハーフミラー部に到達したとき、一部がハーフミラー部を透過して前面から出て行く。 - 特許庁 - With this, light forming a near-downward region of an on-coming lane side cutoff line in the low-beam light distribution pattern is prevented from irradiating forward.
これにより、ロービーム用配光パターンにおける対向車線側カットオフラインの下方近傍領域を形成する光が前方へ照射されないようにする。 - 特許庁 - As a result, the luminous intensity in the hot zone HZ of the low-beam light distribution pattern P can be increased by the diffusion type light distribution sub-patterns LP and RP.
この結果、すれ違い用の配光パターンＰのホットゾーンＨＺの光量を拡散タイプのサブ配光パターンＬＰ、ＲＰで上げることができる。 - 特許庁 - The computer 4a uses illumination light at the frequency so as to enable an imaging device 3a to capture the reflected light image, and it generates pattern image data by using imaging data.
コンピュータ４ａは、この波長の照明光を用いて撮像装置３ａに反射光像を撮像させ、撮像データを用いてパターン像データを生成する。 - 特許庁 - The projector type headlight 10 is provided with a main reflection surface 11a, a light source 13, a projecting lens 14, and a shade 15 to form a main light distribution pattern.
メイン反射面１１ａと光源１３と投影レンズ１４とシェード１５とを備え、主配光パターンＩを形成するプロジェクタ型ヘッドランプ１０である。 - 特許庁 - A light receiving section 141 receives an optical signal emitted from a transmitter for emitting light in a prescribed blinking pattern on the basis of Manchester-encoded data.
受光部１４１は、マンチェスタ符号化されたデータに基づいて、所定の点滅パターンで発光する送信装置により発光される光の信号を受光する。 - 特許庁 - Edges 17, 18 for increasing the light intensity in the peripheries of the cutoff lines CL2, CL3 of the low-beam light distribution pattern LP are provided on a first plate shade 11.
第１板シェード１１にすれ違い用配光パターンＬＰのカットオフラインＣＬ２、ＣＬ３付近の光量を上げるためのエッジ１７、１８を設ける。 - 特許庁 - The compensation layer is preferably made of a transparent substance, wherein phases of incident light are changed to improve intensity of first-order light and improve pattern resolution.
補償層は、入射光の位相を変更させて、１次光の強度を改善して、パターン解像度を改善し、透明な物質から形成するが望ましい。 - 特許庁 - This game machine further includes a light-emitting display pattern generation means generating light-emitting display patterns according to data related to the generated three-dimensional game image information.
さらに、生成される３次元遊技画像情報に関するデータに応じて、発光表示のパターンを生成する発光表示パターン生成手段を備える。 - 特許庁 - To improve utilization efficiency of light source luminous flux of a direct radiation type lamp for a vehicle provided with a light distribution pattern having cutoff lines on an upper end part.
上端部にカットオフラインを有する配光パターンを形成する直射型の車両用照明灯具において、光源光束の利用効率を高める。 - 特許庁 - The panels 40 and 41 respectively modulate the light beams 70 and 71, and form parallactic picture pattern light beams 72 and 73 for the right and the left eyes of observer.
液晶パネル４０、４１はそれぞれ透過光７０、反射光７１を変調し、観察者の右眼と左眼用の差像パタン光７２と７３を形成する。 - 特許庁 - In a step for producing a photomask, a light shielding body pattern is directly formed using a photosensitive resin composition containing a specified light absorbing compound.
フォトマスクの製造工程で、特定の光吸収化合物を含有する感光性樹脂組成物を用いて遮光体パターンを直接形成する。 - 特許庁 - The shield unit (26) has an edge (42) and the secondary optical system (20) images this edge on the road surface as the light-shade boundary line (206) of a light distribution pattern (202).
シールドユニット（２６）はエッジ（４２）を有し、前記二次光学系（２０）がこのエッジを、配光パターン（２０２）の明暗境界線（２０６）として路面に結像する。 - 特許庁
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