「light pattern」を含む例文一覧(7056)
＜前へ 1 2 .... 26 27 28 29 30 31 32 33 34 .... 141 142 次へ＞- Bumps of the semiconductor element and the front surface wiring layer are connected by a connecting wiring pattern, and the connecting wiring pattern is patterned by directly exposing a resist film thus formed to a beam light, and is formed by etching.
接続用配線パターンは形成されたレジスト膜をビーム光により直接露光することによりパターン化し、エッチングすることで形成する。 - 特許庁 - When an exposure process is carried out through the step and repeat exposure method, the circuit pattern and the discriminating mark pattern adjacent to it are exposed to light at the same time.
ステップ・アンド・リピート露光方法により露光を行う際に、１回の露光で回路パターンと、隣接する回路の識別記号パターンと、を同時に露光する。 - 特許庁 - To provide a method for manufacturing an uneven pattern foamed sheet by which the uneven pattern formed sheet capable of being used as a light diffusion body can simply be manufactured.
光拡散体として利用される凹凸パターン形成シートを簡便に製造できる凹凸パターン形成シートの製造方法を提供する。 - 特許庁 - On a liquid crystal panel housed in a case a test pattern A consisting of #-shaped vertical and horizontal lines via a light shielding plate is displayed, and the pattern is included.
遮光板を介してケースに収納された液晶表示パネルに対し、＃状の縦線・横線からなるテストパターンＡを表示させ、これをを取り込む。 - 特許庁 - The medium has a lamination structure in which a light selective reflection pattern layer 3 composed of a cholesteric liquid crystal layer and an authentication pattern layer 4 are stacked on a transparent substrate 2.
透明基材２にコレステリック液晶層からなる光選択反射パターン層３および認証用パターン層４を積層した積層構造とする。 - 特許庁 - Thereafter, a main film pattern 43 is formed on the heat conduction preventing film 41 and irradiated with laser light to form a wiring pattern 19.
この後、熱伝導防止膜４１上にメインの膜パターン４３を形成し、この膜パターンにレーザ光を照射して配線パターン１９を形成する。 - 特許庁 - A resist film 44 is formed on an Al film 42h (c), exposed to light with a reticule 45a as a mask (d), and a pattern of the reticule 45a is transferred to the resist film 44 and is put into a pattern to form a resist pattern 44a.
Ａｌ膜４２ｈ上にレジスト膜４４を形成し(c)、レチクル４５ａをマスクとして露光し(d)、レチクル４５ａのパターンがレジスト膜４４に転写されてパターン化され、レジストパターン４４ａを形成する。 - 特許庁 - A subject 100 is irradiated with pattern light from a pattern irradiating part 10 and a pattern is photographed by right and left cameras 14R, 14L to obtain data about the three-dimensional shape of the subject 100.
対象物１００に対し、パターン照射部１０からパターン光を照射し、左右のカメラ１４Ｒ、１４Ｌでパターンを撮影することで、対象物１００の３次元形状データを取得する。 - 特許庁 - Pattern-like colored layers are formed by applying the colored ink by the ink jet method to an image receiving layer formed on a transparent substrate and further pattern-like light shielding layers are laminated between the pattern-like colored layers.
透明基板上に形成された受像層にインクジェット法により着色インクを付与してパターン状着色層を形成し、さらにパターン状着色層間にパターン状遮光層を積層する。 - 特許庁 - To provide an active light sensitive or a radiation sensitive resin composition which provides a fine pattern superior in exposure latitude and a pattern form, and to provide a pattern forming method using the same.
露光ラチチュード、パターン形状に優れた微細パターンを提供することができる、感活性光線性または感放射線性樹脂組成物、及び該組成物を用いたパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁 - A pattern image forming position adjusting part 46 changes the position of the pattern image of the reference light formed by the micro mirror device 27 by a pixel unit and determines the position in which the best reproduction pattern image is obtained.
パターン像形成位置調整部４６は、マイクロミラーデバイス２７に形成される参照光のパターン像の位置を画素単位で変化させ、最良の再生パターン像が得られる位置を決定する。 - 特許庁 - The flexible substrate includes a wiring pattern to which the plurality of light sources are electrically connected, and a metal heat dissipating region which is arranged by spacing apart from the wiring pattern and is electrically independent from the wiring pattern.
フレキシブル基板は、複数の光源が電気的に接続される配線パターンと、配線パターンから離間して配置され、配線パターンとは電気的に独立した金属製の放熱領域とを有する。 - 特許庁 - A UV light absorbing film 6 is formed on the film 2 and the resist pattern 5, so that the upper side of the resist pattern 4 and the upper portion of the side wall of the resist pattern 5 are exposed.
また、レジストパターン４の上側部分と、レジストパターン５の側壁部上部とが露出するようにして、被加工膜２およびレジストパターン５の上にＵＶ光吸収膜６が形成されている。 - 特許庁 - Since the pattern parts 4 of the other surface 3 are more uneven than the fine uneveness 21 of one side of the light pervious resin plate, the pattern parts 4 are visually confirmed in the fine unevenness 21 in a foated state to form the pattern parts 4 having a three-dimensional feeling.
他面の模様部４が片面の微細凹凸２１より大きな凹凸であるため、微細凹凸２１の中に模様部４が浮かび上がって視認され、立体感のある模様部４となる。 - 特許庁 - The correcting pattern 1 includes a central part 11 including a square light area provided at middle of the correcting pattern 1 and a rim pattern 12 provided at outside of the central part 11.
校正用パターン１は、校正用パターン１の中央に設けられる正方形状の明領域からなる中央部１１と、中央部１１の外側に設けられる枠状パターン１２とを備える。 - 特許庁 - To provide a projector for measuring a three-dimensional shape that can project an optical pattern in a large light amount without changing the position of the optical pattern even when performing changeover of the optical pattern.
光パターンの切替えを行なっても光パターンの位置が変化することがなく、しかも大光量で光パターンを投影することができる三次元形状計測用投光装置を提供する。 - 特許庁 - To obtain a resist pattern having a good pattern shape with little occurrence of scum when a resist pattern is formed using light for exposure having a wavelength of ≤180 nm band.
１８０ｎｍ帯以下の波長を持つ露光光を用いてレジストパターンを形成する場合に、スカムを殆ど発生させることなく、良好なパターン形状を有するレジストパターンが得られるようにする。 - 特許庁 - The wiring pattern inspecting apparatus, optically inspecting a wiring pattern on a top layer of a workpiece 21, comprises a semiconductor package multilayer wiring board having the wiring pattern on a light-transmitting base film.
本発明は、光透過性のベースフィルムに配線パターンを有する半導体パッケージ用多層配線基板からなるワーク２１の最上層配線パターンを光学的に検査する配線パターン検査装置である。 - 特許庁 - Leakage current is measured by relatively scanning laser light on the electrode pattern along an insulative region of the pattern, and applying electricity between electrodes on both sides of the insulative region of the electrode pattern.
電極パターンの絶縁部に沿ってレーザ光を前記電極パターンに対して相対的にスキャンし、電極パターンの絶縁部両側の電極間に電気を印加して漏れ電流を測定する。 - 特許庁 - To provide a design method for mask pattern in which an auxiliary pattern for improving a focal depth of an isolated pattern is arranged, with respect to a mask of performing exposure by using a light source having a direction dependence for resolution.
解像特性に方向依存性を有する光源を用いて露光を行うマスクについて、孤立パターンの焦点深度を向上させる補助パターンを配置するマスクの設計方法を提供する。 - 特許庁 - An illumination optical system 70 irradiates a substrate W with light for pattern exposure via the mask M, and exposure-transfers the line-like pattern 84 corresponding to the main pattern part 81, on the substrate W.
照明光学系７０が基板Ｗに対してパターン露光用の光をマスクＭを介して照射し、基板Ｗに主パターン部８１に対応するライン状のパターン８４を露光転写する。 - 特許庁 - The luminous layer is less in film thickness on the light pattern layer than at the circumference of the pattern layer, so the pattern layer is visible in a dark place by generating a difference in intensity of light emission by the difference in film thickness of the luminous layer and is hidden behind the luminous flux when no light is emitted the pattern layer is made invisible in a light place.
明るい絵柄パターン層上に形成した蓄光層の膜厚が絵柄パターン層周囲の蓄光層の膜厚に比べて薄くすることで、暗い場所では蓄光層の膜厚の差により発光の強度に差を生じさせて絵柄パターン層を視認でき、かつ非発光時は蓄光層が絵柄パターン層を隠蔽するように形成することで、明るい場所では絵柄パターン層が視認できないようにできる。 - 特許庁 - By this structure, the incident azimuth of light made to enter into the holographic pattern 130 can be kept constant, and uniform luminance can be obtained on the light emitting surface 112 by raising the efficiency of outgoing light emitted to the light emitting surface 112 of the light guide plate 110.
このような構成によれば、ホログラムパターン１３０に入射される光の入射方位角を一定にできて導光板１１０の出光面１１２に放出される出射光の効率を上げられ、出光面１１２で均一な輝度を得られる。 - 特許庁 - In this electrode manufacturing process, the desired electrode pattern can be obtained by applying a first light exposure with the use of a lamp whose source is cost-effective diffusion light, and then applying a second light exposure with larger amount of light than the first light exposure.
本発明による電極作成工程において、コストメリットがある拡散光を光源とするランプを用いて第１の露光と第１の露光よりも大きい露光量をもった第２の露光を施すことで、所望の電極パターンを得ることができる。 - 特許庁 - The vehicular lighting fixture, which emits illumination light of a light-distributing pattern used for passing-by light, includes: the LED light source 30; and a lens 10 as a light guide composed of an incident surface 12, a reflecting surface 16, and an emitting surface 18.
車両用灯具は、すれ違い光用の配光パターンの照明光を照射するもので、ＬＥＤ光源３０と、ライトガイドであるレンズ体１０とを備え、レンズ体１０には、入射面１２、反射面１６、出射面１８が形成されている。 - 特許庁 - Then, when the light scattering pattern is not provided at a place in the neighborhood of the light source 2, a reflected light quantity from the place in the neighborhood of the light source 2 is short and that from the surface 17 becomes unequal along the longitudinal direction of the light guide 1.
そして、光源２の近傍となる箇所に光散乱パターンを設けないと、光源２の近傍となる箇所からの反射光量が不足し、出射面１７からの出射光量が導光体１の長手方向に沿って不均一となる。 - 特許庁 - To enhance the contrast of a light intensity distribution by exposure light transmitting a main pattern, even in an arbitrary layout where main patterns, comprising light transmitting parts provided in a light shielding part of a photomask are close to each other, at a distance shorter than the exposure light wavelength.
フォトマスクの遮光部中に設けられた透光部よりなる主パターン同士が露光波長以下の間隔で近接する任意のレイアウトにおいても主パターンを透過した露光光による光強度分布のコントラストを強調できるようにする。 - 特許庁 - The display apparatus 300 includes: the light emitting apparatus 200; and a light filter member (a light partially-shielding member 310) for partially changing the light quantity of the light emitted from the outer peripheral surface 130 of the optical member 100 correspondingly to a predetermined display pattern.
表示装置３００は、発光装置２００と、光学部材１００の外周面１３０から出射する光の通過光量を所定の表示パターンに対応させて部分的に変化させる光フィルター部材（部分遮光部材３１０）とを備える。 - 特許庁 - Hence, the lens body 10 does not have a part where high-brightness light of a light source 16 goes through, thus, the problems of giving an effect to the light distribution pattern due to high-brightness light of the light source 16 and its appearance can be solved.
このためレンズ体１０には、光源１６の高輝度光が素通りする部分が存在せず、よって、光源１６の高輝度光による配光パターンに影響を与えるという問題、及び見栄えの問題を解消することができる。 - 特許庁 - Although the signal light 12 passes through a recording layer 18 in a hologram recording medium, an interference pattern by the signal light 12 and reference light is recorded in volume in an area of the signal light 12 overlapping the pass-through area of the unillustrated reference light.
信号光１２はホログラム記録媒体内の記録層１８内を通過するが、そのうち図示しない参照光の通過領域と重なり合う領域には、信号光１２と参照光による干渉パターンが体積的に記録される。 - 特許庁 - Light emitted from a light source in a detection section 110 is radiated to the contrast pattern via an optical fiber 130 moving with encoder wire 250, and the light reflected on the contrast pattern is transmitted to a photoelectric conversion system in the detection section 110.
エンコーダーワイヤー２５０と共に移動する光ファイバー１３０を介して、検出部１１０内の光源から発せられた光が明暗パターンに照射され、明暗パターンで反射された光が検出部１１０内の光電変換系に伝送される。 - 特許庁 - A pattern control part determines each shape of the individual light distribution patterns by controlling each of the shade moving mechanisms 58 in the left lamp unit and the right lamp unit, and also determines a shape of a synthesized light distribution pattern by superimposing each of the individual light distribution patterns one on another.
パターン制御部は、左灯具ユニットと右灯具ユニットの各シェード移動機構５８を制御して各個別配光パターンの形状を決定すると共に各個別配光パターンを重畳して合成配光パターンの形状を決定する。 - 特許庁 - To solve a problem that, in a conventional headlamp for a vehicle, such portion of a cut-off line of a light distribution pattern as shielded by a sub fixed shade is not clear, or the light of the portion shielded by the sub fixed shade of the light distribution pattern is greatly lost.
従来の車両用前照灯では、配光パターンのカットオフラインのうちサブ固定シェードにより遮蔽される部分が不明瞭となり、あるいは、配光パターンのうちサブ固定シェードにより遮蔽される部分の光が大きく抜ける。 - 特許庁 - To provide a technology capable of forming a proper light distribution pattern, when performing control for automatically forming the light distribution pattern in response to a position of a front vehicle, on a road where a light shielding body exists between a one's own traffic lane and an oncoming traffic lane.
前方車の位置に応じて配光パターンを自動で形成する制御を自車線と対向車線の間に遮光体が存在する道路で実施する場合に適切な配光パターンを形成することができる技術を提供する。 - 特許庁 - As a lamp unit of a type of a pair of projectors for forming an additive light distribution pattern as a variable light distribution pattern foregoing vehicle, the headlamp is equipped with a movable shade which is so constituted as to have two pairs of light sources and reflectors at both the right and left sides of its optical axis allocated.
上記可変配光パターンとしての付加配光パターンを形成するための１対のプロジェクタ型の灯具ユニットとして、可動シェードを備え、かつ、その光軸の左右両側に２組の光源およびリフレクタが配置された構成とする。 - 特許庁 - In this case, the predetermined pattern is a pattern which has the same shape as that of the light-shielding layer 11, is subtly wider than the light-shielding layer 11 and can cover a first inclined surface 12S of the buffer film 12 in which the step difference of the light-shielding layer 11 is reflected.
ここで、所定のパターンは、遮光層１１と同一の形状であるが、僅かに遮光層１１より広く、遮光層１１の段差が反映されたバッファ膜１２の第１の傾斜面１２Ｓを覆うことができるパターンである。 - 特許庁 - The Pachinko game machine selects either of a plurality of types of light emission pattern data according to the operation of the setting switch and controls the light emission from the LEDs 37a01-37a32 or 37b01-37b32 based on the selected light emission pattern data.
パチンコ遊技機は、複数種類の発光パターンデータからいずれかを、設定スイッチの操作に応じて選択し、選択された発光パターンデータに基づいて、ＬＥＤ３７ａ０１から３７ａ３２、３７ｂ０１から３７ｂ３２の発光制御を行う。 - 特許庁 - A confocal optical system is formed by providing an optical system for imaging an intrusion detection pattern on the screen SCN by irradiating with invisible light toward the plotting region and a light receiving system which detects returned light of the intrusion detection pattern.
描画領域に向けて非可視光を照射して侵入検出用パターンをスクリーンＳＣＮ上に結像させるための光学系と、侵入検出用パターンの戻り光を検出する受光系を設けて共焦点光学系を形成する。 - 特許庁 - A band-pass filter 14 selects a wavelength range from a wavelength range of the light having a blocked infrared components so as to maximize the difference between the quantity of the light reflected by the top layer wiring pattern and the quantity of the light reflected by the base film and the wiring pattern.
バンドバスフィルタ１４は、赤外線成分を遮断された光の波長域から、最上層配線パターンにおける反射光量と、ベースフィルム及び配線パターンにおける反射光量との差が最も大きくなる波長域を選択する。 - 特許庁 - The light-diffusing pattern rate 6 is changed discontinuously in the border 10 (or in the part of the upper surface 12 facing the border 10) of the respective flat faces 13a, 13b and the light diffusing pattern rate for making the light quantity uniform is controlled independently in each plane.
また、各平面１３ａ、１３ｂの境界部１０（またはそれと対向する上面１２部分）で光拡散パターン率６を不連続に変化させ、各部分で光量均斉化のための光拡散パターン率を独立して制御する。 - 特許庁 - A counter substrate (color filter substrate) 2 has a light-shielding film pattern 22 covering a TFT 13 or the like in a display region 5 and has an edge portion light-shielding film pattern 23 to prevent leaking of light outside the display region 5.
対向基板（カラーフィルタ基板）２には、表示領域５内にＴＦＴ１３等を覆う遮光膜のパターン２２が備えられるとともに、表示領域５より外での光漏れを防止するための周縁部遮光膜パターン２３が備えられる。 - 特許庁 - The vehicle lighting fixture includes a mobile shade as a lamp unit, which forms an additional light distributing pattern PA0 as the above variable light distributing pattern, and also is constituted of a projector type of lamp unit, in which two sets of light sources and reflectors are arranged on both right and left sides of an optical axis.
上記可変配光パターンとしての付加配光パターンＰＡ０を形成する灯具ユニットとして、可動シェードを備え、かつ、その光軸の左右両側に２組の光源およびリフレクタが配置されたプロジェクタ型の灯具ユニットで構成する。 - 特許庁 - The objective lens 1 has a diffraction pattern at least on one surface, and in converging light beams from the light sources having different wavelengths onto an information recording surface, the primary diffraction light from the diffraction pattern is used for the reproduction of a plurality of recording media.
また、対物レンズは少なくとも１つの面に回折パターンを有し、異なる波長の光源からの光束を情報記録面に集光させるとき、複数の記録媒体の再生において、共に前記回折パターンからの１次回折光を用いる。 - 特許庁 - The mask 50 for inspection has a light shielding pattern 53 formed on the side of the rear surface of a transparent substrate 51, and the image 41' of a secondary light source 41 is formed on the side of the front surface of the transparent substrate 51 through a pin hole 55 formed in the light shielding pattern 50.
検査用マスク５０は、透明基板５１の背面側に遮光パターン５３を備えており、この遮光パターン５０に形成されたピンホール５５により、２次光源４１の像４１´が透明基板５１の正面側に形成される。 - 特許庁 - In forming an image, the first correction reference pattern and the second correction reference pattern are used for generating a first light quantity correction signal and a second light quantity correction signal so as to correct a drive signal of each light emitting portion for every station.
そして、画像形成が行われる際に、ステーション毎に、補正用第１基準パターン及び補正用第２基準パターンを用いて、第１光量補正信号及び第２光量補正信号が生成され、各発光部の駆動信号が補正される。 - 特許庁 - An EUV light radiated from a light source passes through an illumination optical system and is inputted onto a device pattern 21 on a reflection mask 8 from a tilted direction.
光源部から照射されたＥＵＶ光は、照明光学系を経て、反射型マスク８上のデバイスパターン２１に斜めに入射する。 - 特許庁 - One or more light-emitting elements are mounted on a substrate having a metallic pattern formed thereon, and upper and sides of the light-emitting element are covered with a resin layer.
金属パターンが形成された基板上に一つ以上の発光素子を実装し、発光素子の上面および側面を樹脂層で覆う。 - 特許庁 - To provide a thin color filter which does not cause leaking of light even when the pattern width of a light-shielding layer is small and which has excellent display quality and surface flatness.
遮光層のパターン幅が狭くても光漏れが発生せず、表示品位と表面平坦性とに優れた薄いカラーフィルターを提供する。 - 特許庁 - A light beacon 3 of an information unit 2 attached by a user transmits a signal for recognizing its own ID from its flicker pattern by emitting light.
ユーザに装着された情報ユニット２の光ビーコン３が発光により、その点滅パターンで自らのIDを認識できる信号を送信する。 - 特許庁 - A shield 26 is disposed along an optical axis X and intercepts part of reflected light from the reflector 16 to form a low beam light distribution pattern.
遮蔽板２６は光軸Ｘに沿って配置され、リフレクタ１６からの反射光の一部を遮蔽してロービーム用配光パターンを形成する。 - 特許庁
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