「light pattern」を含む例文一覧(7056)
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光散乱パターン１３は曲面１２を凹面鏡と看做した場合の焦点位置近傍に形成されているので、平面１１から出射した光散乱パターン１３は所定の点で結像する。 - 特許庁 - A projected light pattern generating circuit 2 generates a projected light pattern, in which the size of dot, length and thickness of line, position and density are irregular, by using a uniform random number or a regular random number and supplies the same to a projector 3.
投光パターン生成回路２は、一様乱数や正規乱数を用い、ドットのサイズ、線の長さや太さ、位置、濃度等が不規則な投光パターンを生成して投光器３に供給する。 - 特許庁 - METHOD AND DEVICE FOR DISCRIMINATING LIGHT AND SHADE PATTERN, PROGRAM FOR EXECUTING THE METHOD FOR DISCRIMINATING LIGHT AND SHADE PATTERN WITH COMPUTER, AND COMPUTER-READABLE RECORDING MEDIUM RECORDING THE PROGRAM
濃淡パターン判別方法および濃淡パターン判別装置、上記濃淡パターン判別方法をコンピュータに実行させるためのプログラム、並びに上記プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体 - 特許庁 - To provide a light distribution pattern for a high beam with excellent distant visibility without adversely influencing a light distribution pattern for a low beam, in a projector type vehicular headlamp having a movable shade.
可動シェードを備えたプロジェクタ型の車両用前照灯において、ロービーム用配光パターンに悪影響を及ぼすことなく、ハイビーム用配光パターンを遠方視認性に優れたものとする。 - 特許庁 - The reference unit refers to, per sub-region, pieces of lighting pattern data of the light sources which correspond to positions of sub-regions within the display, among a plurality of pieces of lighting pattern data of the light sources which are preliminarily held.
参照部は、あらかじめ保持されている光源の複数の点灯パターンデータより、表示領域内での小領域の位置に応じた光源の点灯パターンデータを小領域ごとに参照する。 - 特許庁 - A light quantity control part reduces the light quantity of a beam at least during formation of the security pattern in the case that it is determined that the security pattern cannot be formed so as to be readable by the reader.
光量制御部は、セキュリティパターンを読み取り装置により読取可能に形成できないと判定されると、少なくともセキュリティパターンを形成する際のビームの光量を低下させる。 - 特許庁 - To provide a lighting device having the same or a similar light-distribution pattern as an alternative of a conventional incandescent lamp in spite of magnitude of any sizes and having a lamp with long life and such the light-distribution pattern.
サイズの大小にかかわりなく、従来の白熱電球の代替として同一あるいは近似する配光パターンを有し、且つ、長寿命なランプとこれを具備する照明装置を提供する。 - 特許庁 - The imaging devices 13, 14 include condenser lenses 16, 17 for condensing the striped pattern light 11 and image sensors 18, 19 for converting the striped pattern light acquired via the condenser lenses into the stripe image.
撮像装置１３，１４は、縞模様光１１を集光するための集光レンズ１６，１７と、集光レンズを介して得られた縞模様光を縞画像に変換する画像センサ１８，１９とを有する。 - 特許庁 - Then, SC-1 is applied to the blank 101 and light shielding pattern 130 cleaned by the pure water to lower the residual concentration of the sulfuric acid ions on the blank 101 and the light shielding pattern 130.
その後、純水で洗浄されたブランクス１０１及び、遮光パターン１３０にＳＣ−１を施して、このブランクス１０１及び、遮光パターン１３０上における硫酸イオンの残存濃度を低くする。 - 特許庁 - To obtain a good pattern shape when a resist pattern is formed using light having a wavelength of 1 nm band to 30 nm band or 110 nm band to 180 nm band as light for exposure.
露光光として１ｎｍ帯〜３０ｎｍ帯又は１１０ｎｍ帯〜１８０ｎｍ帯の波長を持つ光を用いてレジストパターンを形成する場合に、良好なパターン形状が得られるようにする。 - 特許庁 - On the basis of detected results of photographing condition concerning the camera subject or the illumination light by the photographing condition detecting means, the projection means 1 selects the kinds of pattern lights and projects a pattern light.
投影手段１は、撮影条件検出手段による被写体または照明光についての撮影条件検出結果に基づいて、投影するパターン光の種類を選択して投影する。 - 特許庁 - To provide a lamp unit for vehicle capable of turning over a light distribution pattern of low beam and high beam in one projector lens, and forming a superimposed strong light-condensing pattern in the high beam, without a sense of incongruity with the low beam.
一つの投影レンズでロービームとハイビームの配光パターンを切替でき、ハイビームではロービームと違和感なく重ね合わせた強い集光パターンを形成できる車両用灯具ユニットを提供する。 - 特許庁 - A sub light scattering pattern 21 consists of two spot-shape patterns 21a and 21b, provided while being separated in a cross direction at a position deviated from the center line of a main light scattering pattern in the longitudinal direction.
副光散乱パターン２１は、前記主光散乱パターン１１の長手方向の中心線から外れた位置で、幅方向に離間して設けられた２つのスポット状パターン２１ａ，２１ａからなる。 - 特許庁 - An optical flux is obliquely incident on a pattern face of a reticle R existing across a pellicle P, and reflected light is detected to measure the position of the optical axis direction of the exposed light of the pattern face (3A, 3B).
ペリクルＰを隔てて存在するレチクルＲのパターン面に光束を斜入射して、その反射光を検出することで該パターン面の露光光の光軸方向の位置が計測される（３Ａ、３Ｂ）。 - 特許庁 - In the method for treating the light guiding plate 1 on the surface of which a prescribed pattern 3 is provided, after the light guiding plate 1 is crushed, the pattern 3 is removed by a mechanical processing.
表面に所定のパターン３が施された板からなる導光板１の処理方法であって、上記導光板１を破砕した後に、上記パターン３を機械的処理により除去する。 - 特許庁 - To provide a photomask for near field exposure which can give a desired intensity of light directly under the aperture of a light shielding body, to provide a method of forming pattern by using the photomask, and to provide a device for forming pattern.
遮光体の開口部直下で所望の光強度を与えることが可能な近接場光露光用のフォトマスク、該フォトマスクを用いたパターン作製方法およびパターン作製装置を提供する。 - 特許庁 - This projection apparatus receives an input of the pattern data representing the pattern to be formed on the projection plane, and comprises a spatial light modulator (micro-mirror array 3) for spatially modulating incident light according to the pattern data and a projecting optical system 5 for projecting the light reflected by the spatial light modulator onto the projection plane.
本発明による投影装置は、投影面に形成すべきパターンを表現するパターンデータの入力を受けとり、パターンデータに応じて入射光を空間的に変調する空間光変調器（マイクロミラーアレイ３）と、空間光変調器で反射された光を投影面上に縮小投影する投影光学系５とを備えた投影装置である。 - 特許庁 - To provide a reticle capable of transferring an element pattern with little variation of aperture pattern size in an element light acceptance area by preventing the pattern except the light acceptance area of the reticle from being transferred by reflecting light of exposure light or the like, and provide an exposing method using the reticle and a semiconductor apparatus produced by using the exposing method.
露光光の反射光等によってレティクル受光エリア以外のパターンが転写されることを防止し、素子受光エリアにおける開口パターンの大きさにばらつきが少ない素子パターンを転写することが可能なレティクル、該レティクルを用いた露光方法、及び該露光方法を用いて作製した半導体装置を提供することを目的とする。 - 特許庁 - The projector type headlight 10 is provided with a beam attenuation part A on a shade 14 for attenuating a light volume of a xenon lamp 16 so as to be a volume of an overhead light distribution pattern P2 at a part where the overhead light distribution pattern P2 is to be formed over a low-beam light distribution pattern P1.
本発明のプロジェクター型ヘッドランプ１０は、シェード１４上において、すれ違いビーム用配光パターンＰ１の上方に形成されるオーバーヘッド用配光パターンＰ２を形成するための必要な部分に、オーバーヘッド用配光パターンＰ２の光量となるようにキセノンランプ１６の光量を減光して透過させる減光部Ａが設けられている。 - 特許庁 - The alignment processing is performed by forming nearly parallel beam of ultraviolet light emitted by a light source unit section into a long irradiation pattern through a light irradiation pattern control section comprising a plurality of total reflection mirrors and irradiating the alignment layer with the ultraviolet light having the converted irradiation pattern at a prescribed angle.
光源装置部から出射された紫外線の略平行光を、複数の全反射ミラーによって構成された光照射パターン制御部を介して長尺形状の照射パターンに形成し、変換された照射パターンの紫外線を所定の角度を保って配向膜に照射することによって配向処理を施すようにした。 - 特許庁 - To provide a positive resist composition which ensures a small change in resist pattern dimensions when the amount of light exposure varies (a large EL margin) and a resist pattern forming method.
露光量が変動した際のレジストパターン寸法の変化が小さい（ＥＬマージンが大きい）ポジ型レジスト組成物およびレジストパターン形成方法の提供。 - 特許庁 - Thus, no stripe interference pattern appears to the naked eyes of an observer, which appears when only a light-shielding pattern appears at a specific position.
よって特定位置で遮光パターンのみが見えることによって現れる縞模様である干渉模様を観察者が肉眼で視認することを防ぐことができる。 - 特許庁 - The transmitted light optical system projects for example an intermediate image of a second pattern as an image inverted in a prescribed direction to an intermediate image of a first pattern.
送光光学系は、例えば第２パターンの中間像を第１パターンの中間像に対して所定方向に反転された像として投射する。 - 特許庁 - The plurality of stripe patterns projected by the projection system are inclination pattern light where each has concentration gradient and are composed by the multivalue pattern.
投光系にて投射される複数のストライプパターンは、それぞれが濃度勾配を持った傾斜パターン光であり、かつ多値のパターンにより構成される。 - 特許庁 - In the method for manufacturing the resist pattern, the resist composition is applied to form a coating film, the coating film is exposed to light in a pattern shape and then dry etching is performed.
前記レジスト組成物を塗布して塗布膜を形成し、該塗布膜にパターン状に露光を行った後、ドライエッチングを行うレジストパターンの製造方法。 - 特許庁 - The first patterns 2d and the second pattern 2f form a predetermined pattern which changes transmittance, whereby unevenness in a luminance distribution on the light emitting plane is reduced.
第一パターン２d及び第二パターン２fは、透過率を変化させる所定のパターンを形成し、光出射面上の輝度分布の不均一を低減する。 - 特許庁 - A mask pattern transferred from a designed pattern is formed on the mask substrate by the lithographic processes employing the selected modulation conditions for the exposure light quantity.
選択された露光量変調条件を適用したリソグラフィー処理により、設計パターンを転写してなるマスクパターンをマスク基板上に形成する（Ｓ６）。 - 特許庁 - Then, the second resist film R2 is selectively exposed to light, and development is made to form a second resist pattern P2 on the same layer as the first resist pattern P1 (Fig.7(f)).
その後、第２のレジスト膜Ｒ２を選択的に露光し、現像して、第１のレジストパターンＰ１と同じ層に第２のレジストパターンＰ２を形成する（図７（ｆ））。 - 特許庁 - If a specific pattern for security is printed on the bill 1 with a special link which causes fluorescent reactions, visible light VR is outputted from the printed pattern.
紙幣１にセキュリティ用の特定のパターンが蛍光反応を生ずる特殊インクで印刷されていると、この印刷パターンから可視光ＶＲが出力される。 - 特許庁 - A part where the pattern is formed is imaged darkly by the illumination light from the transmission illumination means 13, and a part where the pattern is not formed is imaged brightly.
また、透過照明手段１３からの照明光によりパターンが形成されている部分は暗く写り、パターンが形成されていない部分は明るく写る。 - 特許庁 - A key circuit pattern 5 is formed on a light guiding plate 2 with eliminating a key flexible printed board which is conventionally needed to provide the key circuit pattern 5.
キー回路パターン５を設けるために、従来必要であったキーフレキシブルプリント板を省いて、導光板２上にキー回路パターン５を形成する。 - 特許庁 - To set the exposure light quantity by simple calculation in a method for forming a resist pattern and to produce a three-dimensional resist pattern having little error with respect to the designed value.
レジストパターン作成方法において、簡便な計算で露光量を設定し、設計値に対する誤差の少ない３次元形状のレジストパターンを作成する。 - 特許庁 - An optical head 13 and a data processing part 41 built in a substrate developing device measure a pattern dimension based on reflected light in order to determine the propriety/impropriety of the pattern dimension.
基板現像装置に内蔵された光学ヘッド１３及びデータ処理部４１が反射光に基づきパターン寸法を測定してその適否を判定する。 - 特許庁 - It is desirable that the coating layer is formed in a pattern and the pattern of this coating layer is formed at a position corresponding to the light absorption layer on the metal back.
被覆層をパターン状に形成し、かつこの被覆層のパターンを、メタルバック層上で光吸収層に対応する位置に形成することが望ましい。 - 特許庁 - An operator selects the color of the illumination light and the test pattern, the test pattern is projected on a screen through a lens to be inspected and performance evaluation of the lens to be inspected is performed.
オペレータは、照明光の色とテストパターンとを選択し、テストパターンを被検レンズを介してスクリーンに投映させて、被検レンズの性能評価を行う。 - 特許庁 - The Pachinko game machine has LEDs partially or wholly embedded in the outside (frame) of the game board into a regular pattern (grid pattern) to provide a light display for information presentation.
本発明は、盤面の外側（枠）の一部または全面にＬＥＤを規則的（グリッド状）に埋め込み、光によるディスプレイ的な情報提示を可能にした。 - 特許庁 - A resin film layer 5, which transmits the light and shade pattern of the base material 3, is formed by hydraulically transferring a grain-pattern forming paint onto the surface of the base material 3.
基材３の表面に木目模様を形成する塗料を水圧転写して、基材３の明暗模様を透過させる樹脂膜層５を形成する。 - 特許庁 - In order to set parameter values during the adjustment, the formed ultra-fine pattern is evaluated by evaluating the reflected light from the ultra-fine pattern.
調整におけるパラメータ値を設定するために、作製された超微細パターンの評価を超微細パターンからの反射光を評価することにより行う。 - 特許庁 - The gap between the frame pattern and the outermost peripheral columnar spacer is shielded from light by a line 15 a part of which is overlapped with the frame pattern.
額縁パターンと最外周の柱状スペーサとの間に隙間は、一部が額縁パターンと重なった設けられた配線１５によって遮光されている。 - 特許庁 - To provide a maskless pattern generation system for directly writing a pattern in a substrate, which has no fault relevant to a reticle system and well-known light valve.
レチクル系および公知の光弁に関連する欠点を有さない、基板にパターンを直接書き込むためのマスクレスパターン生成システムを提供する。 - 特許庁 - The pattern forming apparatus has at least a light modulating device for exposing the photosensitive layer in the pattern forming material.
前記パターン形成材料における感光層に対して露光する光変調手段とを少なくとも有することを特徴とするパターン形成装置。 - 特許庁 - Which pattern group, out of the pattern groups, pulse light PL is radiated to is selected by operating a mask moving mechanism 322a.
そして、マスク移動機構３２２ａを動作させることにより、これらのパターン群のいずれに対してパルス光ＰＬを照射するかを選択することができる。 - 特許庁 - The mask pattern 32 is associated with a mask 30 capable of transmitting at least a part of the variably polarized light through said mask pattern.
マスク・パターン３２は、可変的に偏光された光の少なくとも一部を前記マスク・パターンを通して送ることができるマスク３０に関連している。 - 特許庁 - This light-emitting device is provided with a substrate 2 having a wiring pattern 5 and having a silver mirror plating layer 9 formed on a predetermined region including the wiring pattern 5.
本発明の発光装置は、配線パターン５を有し配線パターン５上を含む所定の領域に銀鏡メッキ層９が形成された基板２を備えている。 - 特許庁 - To provide a gallium nitride light emitting diode manufacturing method capable of solving the problem of a center recess in a far field beam pattern.
一つの窒化ガリウム系発光ダイオードの製造方法を提出し、この製造方法により遠場光束図案（far field beam pattern）の中央凹みの問題が改善される。 - 特許庁 - An alignment pattern consisting of a trench groove 21 is formed in an alignment mark formation region A1 and a light transmitting film material 3a is formed covering the alignment pattern.
アライメントマーク形成領域Ａ１にトレンチ溝２１からなるアライメントパターンを形成し、該アライメントパターンを覆う態様で透光性の膜材３ａを成膜する。 - 特許庁 - To accurately and adequately inspect a resist pattern by irradiating the resist pattern with illuminating light with an appropriate irradiation quantity.
検査対象となるレジストパターンに対して適切な照射光量の照明光を照射することで、レジストパターンの検査を精度良く且つ適切に行う。 - 特許庁 - In the pattern forming region 3, a mask pattern 7 to be transferred onto a semiconductor substrate 41 is formed by selectively depositing a light-shielding material.
パターン形成領域３には、遮光性材料が選択的に付着することにより、半導体基板４１上に転写されるマスクパターン７が形成されている。 - 特許庁 - The developed model is applied to the optical simulation, using the layout design pattern data of a semiconductor integrated circuit to form a light intensity pattern (S21, S22, S23).
半導体集積回路のレイアウト設計パターンデータを用いる光学シミュレーションに前記モデルを適用して光強度パターンを形成する（Ｓ２１，Ｓ２２，Ｓ２３）。 - 特許庁 - An exposure mask provided with a diffraction grating pattern or an auxiliary pattern comprising a translucent film with a light intensity reducing function is used as an exposure mask.
露光マスクとして、回折格子パターン或いは半透膜からなる光強度低減機能を有する補助パターンを設置した露光マスクを用いる。 - 特許庁
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