「light pattern」を含む例文一覧(7056)
＜前へ 1 2 .... 24 25 26 27 28 29 30 31 32 .... 141 142 次へ＞- This exposure device prints a pattern which is same as a pattern of a photomask or an inverted pattern by irradiating an unexposed photomask member 3 with a beam 10 from a light source 11 for exposure via the photomask 1 and, therein, the light source for exposure is constituted of a flat luminescence device.
フォトマスク1 を介して未露光フォトマスク部材3 に露光用光源11からの光10を照射してフォトマスクのパターンと同じかまたは反転したパターンを焼付ける露光装置において、露光用光源を平面発光装置で構成した。 - 特許庁 - The photomask 100 for exposure having a mask pattern 102 and a mask pattern 104 complementing the mask pattern 102 is irradiated with light from a light source, and the mask patterns 102 and 104 are superimposed, as a mask, in the same region of a sample for sample exposure.
マスクパターン１０２と、マスクパターン１０２を相補するマスクパターン１０４とが形成された露光用フォトマスク１００に光源からの光を照射し、マスクパターン１０２，１０４をそれぞれマスクとして試料の同一領域に重ねて露光する。 - 特許庁 - A shape in a horizontal direction of the lens pattern is made to be a bilaterally symmetric pattern repeated in a shorter cycle than an array cycle of the light emitting diode, and a shape in a vertical direction is made to be a top-and-bottom asymmetric pattern repeated at the same cycle as that of the light emitting diode.
レンズパターンの水平方向の形状は、発光ダイオードの配列周期よりも短周期で繰り返された左右対称パターンとし、垂直方向の形状は、発光ダイオードと１対１に繰り返された上下非対称パターンとする。 - 特許庁 - Therefore, as for the section of the paper sheet P on which a pattern is printed, since the permeable light quality becomes small due to the pattern compared with the section on which any pattern is not printed, a light receiver output S1oa becomes low, and a start time Tr1 becomes long.
従って紙葉類Ｐに図柄が印刷されている部分は、印刷されていない部分に比べて模様によって透過する光量が少なくなるため、受光器出力Ｓ１ｏａが低く立ち上がり時間Ｔｒ１が長くなるになる。 - 特許庁 - In the planar structure of the light-emitting diode lighting device, a first transparent pattern and a second transparent pattern electrically insulated from each other are provided on a transparent flexible carrier tape, and a plurality of light-emitting diodes and the first transparent pattern are electrically connected to each other.
発光ダイオード発光装置の平面構造は、透明可撓性キャリアテープ上に互いに電気的に絶縁する第一透明パターン、及び、第二透明パターンを設置し、複数の発光ダイオードと第一透明パターンが電気的に接続する。 - 特許庁 - The headlight device can easily form a low beam light distribution pattern, which is a synthesized pattern of light distribution patterns from the three kinds of lighting units, in the desired pattern shape and luminance distribution.
これにより、これら３種類の灯具ユニットからの光照射により形成される配光パターンの合成配光パターンとして得られるロービーム用配光パターンを、所望するパターン形状および光度分布で形成することを容易に可能とする。 - 特許庁 - In a pattern generator 2, a predetermined pattern signal 11 which is an electrical signal is formed, the pattern signal 11 is inputted to a plurality of semiconductor lasers (LDs) 3 as the pump light source, and an LD output light 12 of the optical signal is generated.
パターン発生器２において、電気信号である所定のパターン信号１１を生成し、該パターン信号１１をポンプ光源である複数の半導体レーザー（ＬＤ）３に入力して光信号のＬＤ出力光１２を発生させる。 - 特許庁 - A scale 12 is equipped with not only an incremental pattern 31 formed at array pitches Pi having equal intervals of light and shade, and an absolute pattern 32 expressing an absolute position by a pseudo random pattern, but also a position reference pattern 33 having a prescribed phase relation to the absolute pattern 32 and formed at array pitches Pr (>Pi) having equal intervals of light and shade.
スケール１２は、明暗の等間隔の配列ピッチＰｉで形成されたインクリメンタルパターン３１と、擬似ランダムパターンにより絶対位置を表現したアブソリュートパターン３２とに加え、アブソリュートパターン３２に対し所定の位相関係を有し且つ明暗の等間隔の配列ピッチＰｒ（＞Ｐｉ）で形成された位置基準パターン３３とを備える。 - 特許庁 - When the light source unit 20 is turned clockwise or counterclockwise around its center section at the approximately same angle θ, the light-distributing patterns P are switched to the light-distributing pattern PL for left-side traveling and the light-distributing pattern PR for right-side traveling in left-right symmetry.
光源ユニット２０を、その中心部分を中心に時計回り、または反時計回りに略同一の角度θに回動すると、配光パターンＰが左側走行用配光パターンＰＬと、右側走行用配光パターンＰＲとに左右対称的に切り替えられる。 - 特許庁 - This pattern recognition device is equipped with: an image acquisition means for acquiring a reflected light image as an intensity distribution of reflected light; and a recognition means for recognizing a predetermined pattern from the reflected light image based on the reflected light image acquired by the image acquisition means and reflectivity of an imaging object.
反射光の強度分布としての反射光画像を取得する画像取得手段と、この画像取得手段で取得された反射光画像と被写体の反射率とに基づき該反射光画像から予め定められたパターンを認識する認識手段とを具備する。 - 特許庁 - In the exposure method, the mask pattern 6 constituted of a metallic material is irradiated with an exposure light 15, consisting of a linearly polarized light, and a resist 7 is exposed with proximity field light generated from a part approximately perpendicular to the polarization direction of linearly polarized light out of the shape of the mask pattern 6.
直線偏光からなる露光光１５を、金属材料で構成されるマスクパターン６に照射し、マスクパターン６の外形のうち直線偏光の偏光方向と略直交する部分で発生する近接場光を利用してレジスト７を露光する露光方法及び露光装置。 - 特許庁 - Because an optical branching layer 6 partly transmits and partly reflects light emitted from the light emission surface 2a in a predetermined direction, light with an emission pattern of which the unevenness due to the pitches of the irregular pattern 3 is smoothed is incident on a prism sheet 5 even if the light guide plate 2 is thin.
光分岐層６は、光出射面２ａから所定の方向に出射した光を、一部透過し、一部反射するために、導光板２が薄くても、凹凸パターン３のピッチに起因する出射パターンの濃淡が緩和された状態の光がプリズムシート５に入射する。 - 特許庁 - In high beam irradiation, an additional light distribution pattern is additively formed in the central area of the high beam light distribution pattern by reflecting a directly projected light, which travels forwardly and obliquely upward from a light source 22a, downward by the first additional reflector 36, and then by reflecting it forward by the second additional reflector 44.
そして、ハイビーム照射時に、光源２２ａから前方斜め上方へ向かう直射光を、第１付加リフレクタ３６で下方へ反射させた後、第２付加リフレクタ４４で前方へ反射させることにより、ハイビーム配光パターンの中心領域に付加配光パターンを付加的に形成する。 - 特許庁 - The light of the stroboscopic light source 38 is emitted within an accumulating period of a CCD image picking-up device 31 by control of a measurement control part 35, and relation among image pick-up, stroboscopic light emission and pattern switching timing is controlled so that the light emission is conducted within a period with the patterns of the pattern masking device 39 stabilized.
計測コントロール部３５の制御により、ＣＣＤ撮像装置３１の蓄積期間内にストロボ光源３８が発光し、かつその発光がパターンマスク装置３９のパターンが安定する期間に当たるよう、撮像、ストロボ発光及びパターン切替のタイミング関係が制御される。 - 特許庁 - The surface light emitting body 11 has a reflecting film 13 of which on one face a light diffusion pattern 14 with concavo-convex shape is formed and a light guide layer 12 which is formed so as to be adhered closely to the reflecting film 13 along the concavo-convex shape of the light diffusion pattern 14.
本発明の面発光体１１は、片面に凹凸形状を有する光拡散パターン１４が形成された反射フィルム１３と、光拡散パターン１４の凹凸形状に沿って反射フィルム１３と密着するように形成された導光層１２とを有する。 - 特許庁 - The reflecting surface of a reflector 3 is divided into a main reflecting surface 10 forming the light distribution pattern of the almost external shapes of light distribution patterns LP2, LP3 for a low beam, and a sub-reflecting surface 11 forming the almost center light distribution pattern of the light distribution patterns LP2, LP3 for the low beam.
リフレクタ３の反射面は、すれ違い用配光パターンＬＰ２、ＬＰ３のほぼ外形の配光パターンを構成するメイン反射面１０とすれ違い用配光パターンＬＰ２、ＬＰ３のほぼ中央の配光パターンを構成するサブ反射面１１とに分割されている。 - 特許庁 - When a communication unit 2 performs communication processing, a light emission unit 4 is made to emit light in a pattern of light emission approaching a sub-display part 32 for termination/transmission processing and in a pattern of light emission leaving the sub-display part 32 for origination/transmission processing.
通信部２により通信処理を行う際に、着・発信処理の場合には発光部４を副表示部３２に近づく方向に順次発光するパターンで発光させ、発・送信処理の場合には発光部４を副表示部３２から遠ざかる方向に順次発光するパターンで発光させる。 - 特許庁 - The control part of the head lamp 56 performs the application control of the light sources so as to form a light distribution pattern of first additional beam and a light distribution pattern of second additional beam FH determined based on the size of the pedestrian estimated at the shoulder of the road and a distance from the light sources to the pedestrian.
前照灯装置制御部５６は、路肩で想定される歩行者の大きさと光源から歩行者までの距離とに基づいて決まる第１付加ビーム配光パターンと第２付加ビーム配光パターンＦＨを形成するように光源の照射制御を行う。 - 特許庁 - In this stress measuring device 1, reflected light of light irradiated to a substrate 9 via an objective lens 457 is received by a light-shielding pattern imaging part 43, and thereby an image of a light shielding pattern 453a arranged on an aperture diaphragm part 453 of an optical system 45 is acquired.
応力測定装置１では、対物レンズ４５７を介して基板９に照射した光の反射光を遮光パターン撮像部４３により受光することにより、光学系４５の開口絞り部４５３に配置された遮光パターン４５３ａの像が取得される。 - 特許庁 - In a mask for exposure having a pattern forming surface comprising a light transmissive portion and a light shielding portion, the pattern forming surface has a rugged shape corresponding to the rugged shape of a surface to be exposed in a portion including at least the boundary between the light transmissive portion and the light shielding portion.
露光用マスクは、光透過部分と光遮蔽部分とからなるパターン形成面を有する露光用マスクにおいて、パターン形成面は光透過部分と光遮蔽部分との少なくとも境界を含む部分に被露光面の凹凸形状に対応した凹凸形状を有する。 - 特許庁 - This encoder consists of a rotational disk plate, a light source and the light receiving element which performs photoelectric conversion of light from the light source, a magnetic pattern forming means arranged on the rotational disk plate, and at least one magnetic detection element arranged at a location opposing to the magnetic pattern forming means.
回転ディスク板と、光源及びこの光源からの光を光電変換する受光素子と、上記回転ディスク板に配設した磁気パターン形成手段と、上記磁気パターン形成手段と対向する位置に少なくとも１つ配置した磁気検出素子とでエンコーダを構成する。 - 特許庁 - A vehicle headlight device is provided with: a light source bulb for forming a high-beam light distribution pattern including a region above a cut-off line of a low-beam light distribution pattern; and a headlight device control ECU for controlling the light source bulb based on information obtained from a vehicle detection device.
車両用前照灯装置は、ロービーム用配光パターンのカットオフラインから上方の領域を含むハイビーム用配光パターンを形成可能な光源バルブと、車両検知装置から得られた情報に基づいて光源バルブを制御する前照灯装置制御ＥＣＵと、を備える。 - 特許庁 - Based on the displacement quantity of both patterns to be obtained by measuring an alignment mark for a light shielding pattern and an alignment mark for the phase shift pattern, displacement quantity of pieces of design data of both patterns is compensated and pattern defect inspection of a pattern to be inspected is performed on the basis of a reference pattern obtained by compensation of the displacement quantity.
遮光パターン用のアライメントマークと位相シフトパターン用のアライメントマークを計測して得られる両パターンの位置ずれ量に基づき、両パターンの設計データの位置ずれ量を補正し、それにより得られた参照パターンを基準として披検査パターンのパターン欠陥検査を行う。 - 特許庁 - Based on pattern position information and a focusing measure at each focal plane S of each pattern, a pattern movement angle calculation section 24 calculates an incident angle of the main beam of pattern light into a CCD 41 concerning each pattern, as a parameter representing reliability of a measurement result of the shape of the object 12.
パタン移動角度算出部２４は、各パタンの焦点面Ｓごとの合焦測度およびパタン位置情報に基づいて、各パタンについて、パタン光の主光線のＣＣＤ４１への入射角度を、被検物１２の形状の測定結果の信頼度を示すパラメータとして算出する。 - 特許庁 - To provide a method for uniforming the amount of exposure regardless of the size of pattern width, forming a pattern having at least two kinds of different pattern widths by one exposure, and precisely and efficiently forming a minute pattern in a pattern formation method utilizing near field light.
近接場光を利用するパターン形成方法において、露光量がパターン幅の大きさに関係なく均一化され、一回の露光で２種以上の異なるパターン幅を有するパターンを形成することができ、微細なパターンを精度良くかつ効率良く形成できる方法を提供する。 - 特許庁 - The photomask 21 for negative exposure includes an objective pattern 24 and a dummy pattern 25, wherein the objective pattern 24 comprises openings 22 and light shielding portions 23, and the dummy pattern 25 is disposed in such a way that it comes in contact with at least one side of the objective pattern 24.
目的とするパターン２４とダミーパターン２５とを含むネガ露光用フォトマスク２１であって、目的とするパターン２４が開口部２２と遮光部２３からなり、該目的とするパターン２４の少なくとも１つの辺に接するようにダミーパターン２５を配置したネガ露光用フォトマスク２１である。 - 特許庁 - To provide a pattern forming method by which a pattern can be formed with high definition by homogenizing influences of fluctuation in luminous energy of exposure light due to pattern distortion so as to decrease variance in resolution or density irregularity of a pattern, and a desired pattern having different thicknesses can be formed with high definition.
パターン歪みによる露光量のばらつきの影響を均し、パターンの解像度のばらつきや濃度のむらを軽減することにより、前記パターンを高精細に形成可能であり、かつ、厚みが異なる所望のパターンを高精細に形成可能なパターン形成方法を提供する。 - 特許庁 - The light-shielding pattern 7 (or 5), the mesh pattern 4 (or 2) having electromagnetic wave shielding function and the display electrode 15 are formed as a fine-line pattern formed of conductive thin film or a plating lamination pattern made by laminating a plating layer on the fine-line pattern formed of the conductive thin film.
遮光パターン７（または５）、電磁波シールド機能を有するメッシュパターン４（または２）、及び表示電極１５は、導電性薄膜で形成された細線パターン、または導電性薄膜で形成された細線パターンの上にメッキ層が積層されてなるメッキ積層パターンである。 - 特許庁 - To provide a pattern forming material which has a nearly uniform sensitivity distribution to exposure light having a wavelength of 400-410 nm, excels in pattern reproducibility, suppresses variation in pattern profile, and can be handled in a daylight environment, and also to provide a pattern forming apparatus and a pattern forming method.
４００〜４１０ｎｍの波長の露光光に対する感度分布が略一定で、パターン再現性に優れ、パターン形状のバラツキが極めて抑制され、明室環境下の取り扱いが可能なパターン形成材料、並びにパターン形成装置及びパターン形成方法を提供すること。 - 特許庁 - To provide a method and device for evaluating adhesion of a pattern for quantitatively measuring the adhesion without generating a shear in the fine pattern, in evaluating the adhesion between the fine pattern, such as a resist pattern and a light shielding film pattern of a photomask used for producing semiconductors, and a base substrate.
半導体製造に用いられるレジストパターンやフォトマスクの遮光膜パターンなどの微細パターンと下地基板との密着性の評価において、微細パターンにせん断などを生じさせずに定量的に密着性を測定する密着性評価方法、および評価装置を提供する。 - 特許庁 - To solve such a problem that, when a pattern of a resist mask is formed with light, the exposure light passes through a glass substrate and is reflected from a stage to decrease the accuracy of pattern forming.
レジストマスクのパターン描画を光で行うとき、描画光がガラス基板を通してステージ上で反射し、パターン描画精度が低下するという問題が本発明で解決すべき課題である。 - 特許庁 - A light shielding pattern 3a comprising a resist film formed on a photomask M1a is removed and a new light shielding pattern comprising a resist film is formed again on the photomask M1a to regenerate the photomask.
ホトマスクＭ１ａに形成されたレジスト膜からなる遮光パターン３ａを剥離した後、そのホトマスクＭ１ａにレジスト膜からなる新たな遮光パターンを形成することでホトマスクを再生する。 - 特許庁 - This method for correcting the light proximity effect corrects the mask wiring pattern in order to compensate the light proximity effect when forming an etching mask by transferring the mask wiring pattern by photolithography.
本方法は、フォトリソグラフィによりマスク配線パターンを転写してエッチングマスクを形成する際、光近接効果を補償するためにマスク配線パターンを補正する光近接効果補正方法である。 - 特許庁 - The graduation pattern is so provided that a reading at a position across the graduation pattern of the reticle main body is x when the irradiation light emitted from a point light source corresponding to σ=x passes through the pin hole.
σ＝ｘに相当する点光源から放射された照明光がピンホールを通過する際、レチクル本体の目盛りパターンと交差する位置の目盛りがｘになるように、目盛りパターンが目盛られている。 - 特許庁 - Since a light scattering pattern 13 is formed near a focal position when assuming that a curved surface 12 is a concave mirror, the light scattering pattern 13 emitted from a plane 11 is focused on a given point.
光散乱パターン１３は曲面１２を凹面鏡と看做した場合の焦点位置近傍に形成されているので、平面１１から出射した光散乱パターン１３は所定の点で結像する。 - 特許庁 - Then, a pattern area 51 is irradiated with a laser light excepting a margin area 52 of the cylinder matrix 31 and the photosensitive resin layer 50 is exposed to the laser light such that the pattern of the emboss structure is reversely formed.
次に、シリンダ母材３１のマージン領域５２を残して絵柄領域５１にレーザ光が照射され、エンボス構造のパターンが反転して作成されるように感光性樹脂層５０が露光される。 - 特許庁 - To form a light distribution pattern for over-head signal (OHS) irradiation after achieving downsizing and weight saving of a shade, for a projector type vehicle headlight composed to form a low-beam light distribution pattern.
ロービーム用配光パターンを形成するように構成されたプロジェクタ型の車両用前照灯において、シェードの小型軽量化を図った上で、ＯＨＳ照射用配光パターンを形成可能とする。 - 特許庁 - The intensity of the visible light a2 allowed to irradiate the metal pattern formed resin substrate 1 is preferably set to 0.0001-1% of the intensity of the exciting light a1 allowed to irradiate the metal pattern formed resin substrate 1.
金属パターン形成樹脂基板１に照射する可視光ａ２の強度を、金属パターン形成樹脂基板１に照射する励起光ａ１の強度の０．０００１〜１％とすることが好ましい。 - 特許庁 - When an insolubilization treatment (S31) is carried out, a re-exposure treatment is carried out by irradiating a resist pattern with light having the same wavelength with exposure light used for an exposure treatment in a resist pattern forming process (S11).
不溶化処理（Ｓ３１）の実施においては、レジストパターン形成工程（Ｓ１１）での露光処理において照射した露光光と同じ波長の光を、レジストパターンに照射する再露光処理を実施する。 - 特許庁 - To sufficiently increase visibility of a lane mark in a vehicle lighting fixture which is configured such that the light distribution pattern for lane mark irradiation can be formed in superposition on a light distribution pattern for a headlamp.
ヘッドランプ用配光パターンに対してレーンマーク照射用配光パターンを重畳的に形成し得るように構成された車両用照明灯具において、レーンマークの視認性を十分に高める。 - 特許庁 - Then, the pattern wiring on an LED board 36 can be connected by shortening the pattern wiring since even numbers of the first LED light sources 37A and even numbers of the second LED light sources 37B are alternately arranged.
そして、偶数の第１のＬＥＤ光源３７Ａと偶数の第２のＬＥＤ光源３７Ｂとを交互に配置したので、ＬＥＤ基板３６におけるパターン配線を短くして接続できる。 - 特許庁 - To provide a headlamp in which a low beam light distribution pattern most suitable for low speed driving of an automobile and a high speed high beam light distribution pattern most suitable for high speed driving of the automobile can be certainly obtained.
自動車の低速走行に最適なすれ違い用配光パターンと、自動車の高速走行に最適な高速走行用配光パターンとを確実に得ることのできるヘッドランプを提供すること。 - 特許庁 - When an irradiation pattern member 40 is inserted in an insertion slit 42, a part of light incident on the irradiation lens 36 is restricted by the irradiation pattern member 40 and the light is formed into the shape of a star.
挿入スリット４２へ照射パターン部材４０を挿入すると、照射レンズ３６へ入射する光の一部が照射パターン部材４０によって制限され、光が星形に形成される。 - 特許庁 - To provide a photomask which can prevent the generation of static electricity to hardly cause the electrostatic damage of the photomask or the damage of a light shielding film pattern and does not impair the accuracy of the light shielding pattern, and to provide its manufacturing method.
静電気の発生を防止して、フォトマスクの静電破壊や遮光膜パターンの破損が生じにくく、かつ遮光膜パターンの精度を損なわないフォトマスクおよびその製造方法を提供する。 - 特許庁 - To improve a visibility of lane mark sufficiently in a vehicular illuminating lamp device which is composed so that light distribution pattern for lane mark illumination may be formed in overlay with respect to light distribution pattern for low beam.
ロービーム用配光パターンに対してレーンマーク照射用配光パターンを重畳的に形成し得るように構成された車両用照明灯具において、レーンマークの視認性を十分に高める。 - 特許庁 - A reflecting sheet 7 is disposed on the front of a light transmitting plate 5, and light is transmitted through a reflecting sheet 7a of a character pattern part, whereby in backlighting, the character pattern part is made brighter than the base part.
透光板５の前面に反射シート７を配置して、文字図柄部分の反射シート７ａに光を透過させて、逆光時に文字図柄部分が素地部よりも明るくなるようにする。 - 特許庁 - To provide a pattern drawing device capable of correcting quickly and inexpensively a light irradiation position, without using other device, and a correction method for the light irradiation position in the pattern drawing device.
他装置を使用することなく、迅速かつ低コストで光の照射位置を補正することができるパターン描画装置およびパターン描画装置における光の照射位置の補正方法を提供する。 - 特許庁 - Ejection quantity of light ink is limited by limiting the maximum number of dots in the dot pattern of light ink to 50% that of dark ink when a dot pattern of a specified size is developed for input pixels.
淡インクの打ち込み量制限は、入力画素に対して所定サイズのドットパターン展開を行う際に、淡インクのドットパターンの最大ドット数を濃インクの最大ドット数の５０％に制限する。 - 特許庁 - The photomask includes a first light-shielding pattern 6 having a first dimension S1 and a second light-shielding pattern 7 having a second dimension S2 larger than the first dimension S1, which are formed on a transparent substrate 1.
透明基板１上に、第１の寸法Ｓ１を有する第１の遮光パターン６と、第１の寸法Ｓ１よりも大きい第２の寸法Ｓ２を有する第２の遮光パターン７とが形成されている。 - 特許庁 - In this case, the rainy weather running light distribution pattern is formed by lighting of a low beam filament 18a, and the high beam light distribution pattern is formed by lighting of a high beam filament 18b.
その際、ロービーム用フィラメント１８ａの点灯により雨天走行時用配光パターンを形成し、ハイビーム用フィラメント１８ｂの点灯によりハイビーム用配光パターンを形成する構成とする。 - 特許庁
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